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Fターム[5F041CA05]の内容

発光ダイオード (162,814) | LED形式 (36,241) | 接合構造 (5,632) | 超格子(量子井戸を含む) (2,720)

Fターム[5F041CA05]に分類される特許

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【課題】半導体発光装置、例えば高出力の端面出射型スーパールミネッセントダイオードを効率良く得られるようにする。
【解決手段】半導体発光装置は、基板101と、基板101の上に形成され、光ガイド層120を含む複数の半導体層からなる積層構造体とを備えている。積層構造体は、上部に選択的に形成されたストライプ状の光導波路113と、積層構造体の端面からなる光出射端面115とを有している。光ガイド層120における積層面と光出射端面115とがなす角度θは、θ≠90°である。 (もっと読む)


【課題】電力効率が良好な窒化物半導体発光素子を提供すること。
【解決手段】窒化物半導体発光素子は、n型窒化物半導体層と、Vピット発生層と、中間層と、多重量子井戸発光層と、p型窒化物半導体層とがこの順で設けられたものである。多重量子井戸発光層は、バリア層と該バリア層よりもバンドギャップの小さい井戸層とを交互に積層して構成された層である。多重量子井戸発光層には部分的にVピットが形成されており、Vピットの始点の平均的な位置は中間層内に位置する。 (もっと読む)


【課題】反射率の低下を防ぎ、高輝度発光が可能となる発光ダイオードおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の発光ダイオードは、基板1上に順に、反射層6と、複数のオーミックコンタクト電極7が離間して埋設された透明膜8と、電流拡散層25及び発光層24を順に含む化合物半導体層10とを具備する発光ダイオードであって、オーミックコンタクト電極7の基板1側の面の周縁部は透明膜8に覆われ、オーミックコンタクト電極7は反射層6及び電流拡散層25に接触している、ことを特徴とする (もっと読む)


【課題】発光動作時における効率低下や光出力の低下を回避しつつ静電破壊耐量の向上を図ることができる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】支持基板と半導体膜との間に設けられ半導体膜と接する面で光反射面を形成する光反射層を含み、半導体膜の光取り出し面側の表面に設けられた表面電極は、半導体膜との間でオーミック接触を形成する第1の電極片と、第1の電極片に電気的に接続された第2の電極片と、を含む。光反射層は、反射電極を含み、反射電極は半導体膜との間でオーミック接触を形成する第3の電極片と、第3の電極片に電気的に接続され且つ第2の電極片と対向するように配置された第4の電極片とを含む。第1の電極片と第3の電極片は、半導体膜の主面と平行な面に投影したときに互いに重ならないように配置される。第2の電極片と第4の電極片は、半導体膜との間でショットキー接触を形成して半導体膜の順方向電流を妨げる障壁を形成する。 (もっと読む)


【課題】AM−OLED等に比べて構成要素の膜厚管理を厳密に管理しなくても、高い発光効率と優れた光取り出し効率で駆動でき、幅広い発光波長で良好な駆動を期待できる自発光型表示装置を提供する。さらにLCDやPDPよりも軽量・薄型化でき、屋外での長時間使用にも耐えうる、高輝度で高画質を期待できる自発光型表示装置を提供する。
【解決手段】
基板2の上にTFT配線部3、パッシベーション膜4、第一蛍光体層6a、第一平坦化層7aを積層し、その上に透明アノード電極100、発光層101、透明カソード電極102を順次積層した発光体10を配設する。発光層101はZnO系またはGaN系等材料で構成し、発光面(上面)の面積に対する側面の総面積の割合を1/10以上に設定する。これにより表示装置1を得る。 (もっと読む)


【課題】フォトルミネッセンスを用いることにより、発光素子を容易かつ迅速に識別するための発光素子の検査方法などを提供する。
【解決手段】検査工程は、発光素子1に通電を行わずに、通電により発光する波長(第1波長)より波長が短い光(第2波長の光)を励起光として照射する光照射工程(ステップ201)と、第2波長の光の照射により発光素子1が出射する光を検出する検出工程(ステップ202)と、発光素子1が出射する第1波長の光の強度に基づき、発光素子1の電流リークの状態を判別する判別工程(ステップ203)とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】近接場光デバイスにおいて、エネルギー効率を高める。
【解決手段】近接場光デバイスは、基板(12)上に配置されており、量子ドット(16)を含み、基板により導かれる入射光をエネルギー源として量子ドットの光発生作用により近接場光(18)を発生可能な量子ドット層(13、14、15)を備える。近接場光デバイスは更に、量子ドット層上に配置されており、量子ドット層で発生された近接場光をエネルギー源として近接場光(65)を発生可能且つ外部へ出力可能な出力端(17)を備える。 (もっと読む)


【課題】AM−OLED等に比べて構成要素の膜厚管理を厳密に管理しなくても、高い発光効率と優れた光取り出し効率で駆動でき、幅広い発光波長で良好な駆動を期待できる自発光型表示装置を提供する。さらにLCDやPDPよりも軽量・薄型化でき、屋外での長時間使用にも耐えうる、高輝度で高画質を期待できる自発光型表示装置を提供する。
【解決手段】
基板2の上にTFT配線部3、パッシベーション膜4、第一蛍光体層6a、第一平坦化層7aを積層し、その上に透明アノード電極100、発光層101、透明カソード電極102を順次積層した発光体10を配設する。発光層101はZnO系またはGaN系等材料で構成し、発光面(上面)の面積に対する側面の総面積の割合を1/10以上に設定する。これにより表示装置1を得る。 (もっと読む)


【課題】光損失を低減することができ、光取出効率を高めることができる発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置1は、回路パターン20,21を素子搭載面2aに有する素子搭載基板2と、素子搭載基板2の素子搭載側に搭載され、かつ回路パターン20,21に接続されたLED素子3と、LED素子3を封止して素子搭載面2aに接合された封止部材4と、封止部材4内で素子搭載基板2の素子搭載側を覆うコーティング層5とを備え、コーティング層5は、その屈折率が封止部材4の屈折率よりも低い屈折率に設定されている。 (もっと読む)


【課題】高温NH3雰囲気下においても耐久性が高い透明かつ導電性の中間膜を有し、半導体デバイスの製造に好適に用いられる複合基板およびその製造方法、ならびにかかる複合基板を用いた半導体デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本複合基板1は、多結晶III族窒化物支持基板10と、多結晶III族窒化物支持基板10上に配置された中間GaN系膜30と、中間GaN系膜30上に配置された単結晶GaN系層21と、を含む。本半導体デバイス2は、複合基板1と、複合基板1の単結晶GaN系層21上に配置された少なくとも1層のGaN系半導体層40と、を含む。 (もっと読む)


【課題】半導体発光素子の光取り出し効率を向上させることを目的とする。
【解決手段】n型半導体層と、通電により発光波長λの光を出射する発光層と、p型半導体層160と、発光層から出射される光に対する透過性および導電性を備えるとともに第1屈折率n1を有する透明導電層170と、発光層から出射される光に対する透過性および絶縁性を備えるとともに第1屈折率n1よりも低い第2屈折率n2を有する透明絶縁層180と、発光層から出射される光に対する反射性を備えるp金属反射層202とが積層された半導体発光素子1において、透明導電層170の第1膜厚t1は、(λ/4n1)×(A−0.5)≦t1≦(λ/4n1)×(A+0.5)の関係を有し、透明絶縁層180の第2膜厚t2は、(λ/4n2)×(B−0.5)≦t2≦(λ/4n2)×(B+0.5)の関係を有する。ただし、Aは正の偶数、Bは正の奇数である。 (もっと読む)


【課題】発光効率及び結晶欠陥が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子は、第1半導体層120、第2半導体層150、及び前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に配置された活性層を有し、活性層と第2半導体層150との間に、活性層での電子と正孔の再結合確率を高め、漏れ電流を防止する電子遮断層の機能をもつ、活性層より相対的に大きいバンドギャップを有する中間層140を備える。発光素子は、活性層の障壁層の構造を変更し、中間層のバンドギャップエネルギーに変化を与えて、活性層の正孔注入効率を改善することによって、発光効率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】発光動作時における効率低下や光出力の低下を回避しつつ静電破壊耐量の向上を図る。
【解決手段】支持基板30と、発光層12を含む半導体膜10と、光取り出し面側の表面に設けられた表面電極と、支持基板と半導体膜との間に設けられた光反射層20、から形成され、表面電極は、半導体膜とオーミック接触する第1の電極片43と、第1の電極片に電気的に接続され且つ半導体膜とショットキー接触する第2の電極片41と、を含み、光反射層に形成される反射電極は、第1の電極片と互いに重ならないように配置され半導体膜とオーミック接触する第3の電極片21Dと、第3の電極片に電気的に接続され半導体膜とオーミック接触し且つ第2の電極片と対向するように配置された第4の電極片とを含み、第1の電極片と第4の電極片との間の半導体膜の主面方向における最短距離は、第1の電極片と第3の電極片との間の同方向における最短距離よりも大きくする。 (もっと読む)


【課題】低減された順方向電圧のIII族窒化物半導体レーザ素子を提供する。
【解決手段】p型クラッド層におけるp型ドーパントの濃度がn型不純物の濃度より大きくなるように、p型クラッド層はp型ドーパント及びn型不純物を含む。p型クラッド層のバンドギャップより大きい励起光を用いた測定によるフォトルミネセンス(PL)スペクトルは、バンド端発光及びドナーアクセプタ対発光のピークを有する。このPLスペクトルにおけるバンド端発光ピーク値のエネルギE(BAND)と該PLスペクトルにおけるドナーアクセプタ対発光ピーク値のエネルギE(DAP)との差(E(BAND)−E(DAP))は、当該III族窒化物半導体レーザ素子11の順方向駆動電圧(Vf)と相関を有する。このエネルギ差(E(BAND)−E(DAP))が0.42eV以下であるとき、III族窒化物半導体発光素子の順方向電圧印加に係る駆動電圧が低減される。 (もっと読む)


【課題】n型GaN層の格子欠陥が抑制され、発光効率が向上した半導体素子及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】
サファイア基板11と、サファイア基板11上に配置されたn型GaN層13と、n型GaN層13上に配置されたp型GaN層15とを有する半導体素子10であって、n型GaN層13には電子線が照射されている。Al(1-x)GaxN結晶と電子線との相互作用により、n型GaN層13の格子欠陥が抑制され、半導体素子10の発光効率が向上する。 (もっと読む)


【課題】反射膜材が基板の側面へ付着するのを防止した半導体発光素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光素子10では、基板11は対向する第1および第2の面11a、11bと、第1の面11aから第2の面11b側に向かって略垂直に延在する第1の領域11c1と第1の領域11c1から第2の面11b側に向かって末広がり状に傾斜した第2の領域11c2を有する側面11cを備えている。第1導電型の第1半導体層と、活性層と、第2導電型の第2半導体層が順に積層された半導体積層体12が基板11の第1の面11aに形成されている。反射膜15が基板11の第2の面11bに形成されている。 (もっと読む)


【課題】高効率の半導体発光素子を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、積層体と、第1電極と、第2電極と、反射層と、第1金属ピラーと、第2金属ピラーと、封止部と、を含む半導体発光素子が提供される。積層体は、第1部分及び第2部分を有する第1導電形の第1半導体層と、第2導電形の第2半導体層と、第2部分と第2半導体層との間に設けられた発光部と、を含む。積層体は、第1半導体層の側の第1主面と、2半導体層の側の第2主面と、を有する。第1、第2電極は、第2主面の側において、第1、第2半導体層のそれぞれの上に設けられる。反射層は、積層体の側面を覆い、絶縁性である。第1、第2金属ピラーは、第1、第2電極とそれぞれ接続され、第1半導体層から第2半導体層に向かう第1方向に延びる。封止部は、第1金属ピラー及び第2金属ピラーを封止する。 (もっと読む)


【課題】Top Emitting型の深紫外発光ダイオードの効率を改善し、高効率で安価な深紫外発光ダイオードを提供する。
【解決手段】p型電極7の主成分をAgとし、膜厚を6nmとする。発光層4の発光波長を320±5nmに調整する。発光層4としては、InAlGaNなどの窒化物半導体層、MgZnOなどの酸化物半導体層を利用する。 (もっと読む)


【課題】電気的/光学的信頼性を改善できる発光素子、発光素子の製造方法、発光素子パッケージおよび照明システムを提供すること。
【解決手段】本発明は、発光素子、発光素子パッケージおよび照明システムに関する。本発明の一態様による発光素c子は、第1導電型の第1半導体層と、前記第1導電型の第1半導体層上の活性層と、前記活性層上の第2導電型の第2半導体層と、前記第2導電型の第2半導体層上の信頼性強化層と、前記信頼性強化層上の、光抽出パターンを有する第2導電型の第3半導体層とを備え、前記信頼性強化層と前記活性層との間の距離は0.3μm〜5μmにすることができる。 (もっと読む)


【課題】基板の側面からの光取り出し効率を向上させた半導体発光素子を提供する。
【解決手段】窒化物半導体発光素子10では、基板11は対向する第1および第2の面11a、11bと、第1および第2の面11a、11bに略直交する側面11cを有している。基板11の側面11cには、第1の面11aから第1の距離L1だけ離間した位置から第2の面11b側に向かって、第1の粗さR1と第1の幅aを有する第1の領域12と、第1の粗さR1より小さい第2の粗R2さと第1の幅aより小さい第2の幅bを有する第2の領域13が交互に形成されている。第1の領域12の面積の和と側面11cの面積の比が0.5以上である。基板11の第1の面11a上に、第1導電型の第1半導体層と、活性層と、第2導電型の第2半導体層が順に積層された半導体積層体15が形成されている。 (もっと読む)


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