【課題】半導体基板のベベル部に付着した付着物を効果的に除去することができ、製品の歩留りの低下を抑制させた半導体装置の製造方法およびこれに用いられる製造装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、保持チャック３１に保持された半導体基板１０のベベル部をリングヒーター３０を用いて加熱する工程（ａ）と、工程（ａ）の後、吐出ノズル３２から噴出された洗浄液３３により、半導体基板１０のベベル部を洗浄する工程（ｂ）とを備えている。工程（ａ）では、リングヒーター３０をベベル部における上面と側面と下面とを覆うように設置する。 （もっと読む）

【課題】ウエハから水晶振動子などの圧電振動子を製造するにあたり、ウエハの振動子形成領域の破損を抑えること。
【解決手段】圧電基板であるウエハにフォトリソグラフィーを利用して、多数の圧電振動子を形成してこれら圧電振動子を分断する圧電振動子の製造方法において、圧電基板の周縁部に圧電振動子を形成するための振動子形成領域を囲うように、クラック伝播防止用の貫通孔を形成し、前記貫通孔形成後、前記圧電振動子形成用エッチングマスクを形成し、次いで前記振動子形成領域に圧電振動子を形成する。ウエハの周端から中央に向かってクラックが発生しても、クラックの広がりを抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】ヒーター破損による生産性低下への影響を最小限に抑制することができるとともに、コストの削減を実現することができる石英ヒーター劣化検出方法を提供する。
【解決手段】石英インラインヒーター２０１の寿命を破損前に検出することにより、石英インラインヒーター２０１を破損前に交換することを可能とし、さらに石英インラインヒーター２０１の破損前の交換を計画的に実行することを可能として、石英インラインヒーター２０１の寿命による破損をなくす。 （もっと読む）

【課題】 複合板として構成する場合のディメリットを解消して熱交換効率を高めるとともに、コストダウン及び耐久性向上を図る。
【解決手段】 外面に形成した熱交換面Ｃｕを冷却又は加熱することにより内部に流通する薬液Ｌに対して熱交換を行う薬液用熱交換器１を構成するに際して、内部に薬液Ｌを流通させる複数の薬液流通孔Ｒ…を形成し、かつ少なくとも外面となる上面及び下面を熱交換面Ｃｕ，Ｃｄとして形成するとともに、所定の焼成素材Ｍ（アモルファスカーボン素材又は炭化珪素素材等）を焼結することにより全体を一体形成した熱交換ブロック２を備える。 （もっと読む）

【課題】基板から有機フィルムを容易且つ良好に除去することができるフィルム除去方法を提供する。
【解決手段】基板３０上に接着剤１５０によって接着された有機フィルム１４０を基板から除去するフィルム除去方法であって、有機フィルム及び接着材を過酸化水素水２００に所定時間浸漬した後に、有機フィルムを基板から引き剥がすことで、有機フィルムを基板から除去する。 （もっと読む）

【課題】不要なエッチングの進行が防止される表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置の製造方法は、相互に間隔をおいて対向するように設けられた一対のガラス基板１１，１２を有する表示パネル１０の外周部の少なくとも一部分について、一対のガラス基板１１，１２の両側端面を被覆保護するように耐エッチング材２０を設ける被覆処理ステップと、両側端面を被覆するように耐エッチング材２０を設けた一対のガラス基板１１，１２のそれぞれの露出部分をエッチング処理することにより薄肉化するエッチング処理ステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】対象物を均一な厚さにエッチングして製品の収率を向上させることができるエッチング装置及びこの装置を利用して対象物をエッチングする方法を提供すること。
【解決手段】エッチング装置は対象物の厚さを薄くエッチングする過程において対象物に加えられる圧力を最小化し、エッチング溶液を対象物の全領域に均一の圧力でエッチング溶液を提供する。これによって、エッチング過程において、対象物の破損を防止し、対象物の厚さを均一にエッチングすることができるため、対象物の厚さを最小化することができる。 （もっと読む）

【課題】前面発光型窒化物系発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に順次積層されたｎ型クラッド層３０、活性層４０、ｐ型クラッド層５０及び透明導電性薄膜層６０を備え、ここで、透明導電性薄膜層６０は、内部で発生した光の外部発光効率を高めるために別途のエッチングマスクなしに湿式エッチング方式とポスト熱処理によるナノメートルスケールでパターニングされた表面を有する窒化物系発光素子である。これにより、湿式エッチングとポスト熱処理法により形成されたパターニングされた表面を有する透明導電性薄膜層を介して素子の外部発光効率を極大化させることができ、高輝度発光ダイオードの具現を可能にする。 （もっと読む）

【課題】端面処理の粗さに起因して発生する不良を低減することができるウェーハの端面
処理方法を提供する。
【解決手段】複数の平板状のウェーハ１を積層し、仮接着剤２により各ウェーハ１間を接
着して積層ブロック１０を形成する積層ブロック化工程と、積層ブロック化工程により積
層した積層ブロック１０の四方側面をラッピングするラッピング工程と、ラッピング工程
によりラッピングした積層ブロック１０の四方側面を所定のエッチング液３１によりエッ
チングするエッチング工程と、エッチング工程によりエッチングした積層ブロック１０か
ら仮接着剤２を除去して各ウェーハ１を剥離する剥離工程とからなる。 （もっと読む）

【課題】超臨界二酸化炭素を媒体として使用し、流量が大きい場合においても、超臨界二酸化炭素と薬液とを均一に混合して、基板の処理能力を向上させることができる基板の処理方法を提供する。
【解決手段】基板を処理する圧力よりも高い圧力下で超臨界流体に薬液を混合した後、基板を処理する圧力において、薬液が混合された超臨界流体を用いて、基板を処理する。 （もっと読む）

【課題】基材に痕を残さず、導電性金属酸化物薄膜を除去する方法と装置を提供する。
【解決手段】基材１１に形成された導電性金属酸化物薄膜１２と対向して正電極１３ａと負電極１３ｂを配置する。導電性金属酸化物薄膜１２と、両電極１３ａ，１３ｂ間に電解液１４を供給しつつ、両電極１３ａ，１３ｂに電圧を印加して、基材１１を正電極１３ａ、負電極１３ｂに対して移動し、還元反応により導電性金属酸化物薄膜１２を除去する。その際、所要間隔を存して配置されるローラ１３ｂｃ間を、導電性金属酸化物薄膜１２と接触させた状態で回転するメッシュ状の無端ベルト１３ｂｄを負電極１３ｂとして使用する。無端ベルト１３ｂｄ内に、無端ベルト１３ｂｄを介して導電性金属酸化物薄膜１２と対向すべく正電極１３ａを配置する。
【効果】基材に痕を残さず、導電性金属酸化物薄膜を端部まで効率良く除去でき、高価な機能性ガラス基板などの再生利用が可能になる。 （もっと読む）

【課題】磁性層のエッチング工程において、磁性層を正確にエッチングして所定の形状とすることができ、かつ、導電層や絶縁層がエッチングされることを防止可能な半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】レジスト層をエッチングマスクとして、第１磁性層１６をエッチングし、磁性層を所定の形状にパターニングする。エッチングにあたっては、燐酸、または燐酸含む化合物もしくは混合物を用いてエッチングを行う。燐酸成分を含むエッチング液によってエッチングを行うことで、例えばＮｉ−Ｚｎフェライト合金など燐酸、または燐酸含む化合物もしくは混合物などで浸蝕される第１磁性層１６は、レジスト層のパターンに倣ってエッチングされ、例えば開口１６ａなどが形成された所定の形状とされる。 （もっと読む）

【課題】ケミカルの汚染を防止すると同時に、火災の危険のない、薬液槽内に加熱部を備える基板湿式処理装置及び該装置を使用した基板処理用ケミカルの加熱方法を提供する。
【解決手段】基板湿式洗浄装置１００は、基板処理用ケミカルが収容される内部薬液槽１０１と外部薬液槽１０２からなる薬液槽と、内部薬液槽１０１内に設置され、加熱体１５５及び該加熱体１５５を収容するハウジング１５０を備える加熱部と、ハウジング１５０内に充填された不活性ガスとを備える。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートが速く、電気機械結合係数が大きいニオブ酸リチウム単結晶およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ＧｅＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂の少なくとも一種以上の添加物を含有しＧｅＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂の少なくとも一種以上の添加物の合計含有量が、０．１ｍｏｌ％以上で、３．０ｍｏｌ％以下のニオブ酸リチウム単結晶を製造し、該単結晶を温度５０℃以上のフッ酸、硝酸及びそれらの混合液と水とを混合した溶液中に浸し、溶液を攪拌させながらウェットエッチングをおこなう。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程技術を用いて、高価の装備を使用することなく簡単且つ容易にナノギャップおよびナノギャップセンサを量産することが可能なナノギャップおよびナノギャップセンサの製造方法の提供。
【解決手段】基板に対して異方性エッチングを行うことを含む、ナノギャップ製造方法を提供する。
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【課題】 取り扱いが容易で、下地層との高い選択性を有するハードマスクを用いた半導体製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｓｉ基板１上又は前記Ｓｉ基板上に形成されたＳｉを含む下地膜２、３上に、ＳｉＯＣ膜を形成する工程と、前記ＳｉＯＣ膜に、アッシング処理を施す工程と、前記アッシング処理を施したＳｉＯＣ膜４’を、Ｆを含むウエット処理により選択的に除去する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の薬液処理をむらなく均一に行う。
【解決手段】薬液処理室２０ａ，２０ｂにおいて、薬液ノズル３から供給された薬液により、基板１の薬液処理が行われる。薬液処理後、基板１は、ローラ２により、水置換／冷却室３０へ送られる。水置換／冷却室３０において、アクアナイフ６から吹き付けられた純水により、基板１の表面の薬液が、洗い流されて、純水と置換される。そして、冷却液ノズル７から供給された冷却液により、基板１の表面に残存する薬液が常温より低い温度に冷却される。従来に比べて、迅速かつ均一に薬液処理の進行が押さえられるので、処理時間が均一化され、処理がむらなく均一に行われる。冷却液として、例えば、ドライアイスを混ぜた純水を用い、基板上の液体を凍結させる。この場合、基板上の液体は、凍結により体積が膨張するので、基板の表面から浮いて剥がれ易くなる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、個々の基板のエッチング量を容易に把握することができる基板処理方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明では、所定の薬剤を用いて基板をエッチングすることで、前記基板の板厚を薄くする基板処理方法であって、前記基板の被エッチング面に所定の凹部を形成する工程と、前記凹部の所定の箇所について、エッチング前後の寸法を計測する工程と、計測したエッチング前後の前記寸法に基づいて、前記基板のエッチング量を求める工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム又はアルミニウム合金にダメージを与えることなく、金属チタンを選択的にエッチングできるエッチング用組成物を提供する。
【解決手段】 炭酸及び／又は炭酸塩、並びに過酸化水素及び水を含んでなる金属チタンエッチング用組成物を用いる。炭酸塩は炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、カルバミン酸アンモニウムから成る群よりより選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。炭酸及び／又は炭酸塩の含量が０．０１〜４０重量％、過酸化水素の含量が１０ｐｐｍ〜３５重量％、水の含量が２５〜９９．９重量％が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 複雑な処理フローであっても総装置面積（フットプリント）及び設備費を増加させることなく実施することができ、その結果、高品質なエッチング加工を低コストで実現することができ、多品種少量生産に適合し、仕様の変更によって仕掛品が無駄になるリスクが小さく、被処理体の搬送に関わる様々な問題が発生しない湿式エッチング処理方法、及びそれを実施するエッチング装置を提供すること。
【解決手段】 エッチング／リンス／乾燥処理槽１には、飛散したエッチング液を回収する外槽２、上蓋３、および、通常のエッチング槽に装着されることの多い撹拌ポンプ４、排出バルブ５、クイックダンプバルブ６、バブリング気泡発生装置７および気泡分散板８を設ける。さらに、処理槽１には、エッチング液供給装置２０、純水供給装置３０および乾燥ガス供給装置４０を設け、単一の処理槽でエッチング処理、リンス処理および乾燥処理を行えるように構成する。 （もっと読む）