【課題】 流体に腐食性流体を使用しても各部品の腐食を防止でき、半導体製造装置内などへの設置および配管や配線接続が容易であり、流入する流体が脈動していても流量の制御が可能な、電気駆動による流体制御装置を提供する。
【解決手段】 本発明の流体制御装置は、電気式駆動部１１と流量制御部５からなる電動制御弁と、超音波を流体中に発信する超音波振動子１８と超音波振動子１９から発信した超音波を受信し信号を流量計アンプ部９に出力する超音波振動子１８、１９を有する流量計センサ部４と、流量計センサ部４の信号によって流量を演算する流量計アンプ部９と、流量計アンプ部９で演算された流量値に基づいて電動制御弁の開度を調整しフィードバック制御するための制御部１０とを具備し、少なくとも流量計アンプ部９と制御部１０と電気式駆動部１１とを具備する電装モジュール７が１つのケーシング８内に設置される。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置内などへの設置、配管及び配線接続が容易であり、配管接続による圧力損失を低減し、各モジュールの配置変更を容易に行なえるもので、また流体に腐食性流体を使用しても腐食が起こることなく、配管後の流量の設定変更や、流路の遮断が可能であり、流入する流体が脈動していても流量の制御が可能な流体制御装置を提供する。
【解決手段】 本発明の流体制御装置は、超音波を流体中に発信する超音波振動子１２と超音波振動子１２から発信した超音波を受信し信号を流量計アンプ部８２に出力する超音波振動子１３とを有する流量計センサ部４と、操作圧により流体の圧力を制御する定流量弁５とを具備し、流量計センサ部４と定流量弁５とが、流体流入口３と流体流出口６を有する１つのケーシング２内に接続されて設置されてなる。 （もっと読む）

【課題】流体の圧力等の条件変動の影響を受けにくい流量制御を実現する。
【解決手段】 流体流制御装置５は、装置に流体を流入させるための注入口１２０と、装置から流体を流出させるための排出口１２５を含んでいる。この装置は、流体を受け取ってその流体を制御された圧力で送出するように構成された圧力調整部１５も含んでいる。更に、圧力調整部により送出された流体を受け取って、その流体を制御された流量で送出するように構成された流量制御弁調節部を更に含んでいる。更に、流体の流量を測定するように構成された流量計２５と、少なくとも流量計により測定された流量に従って少なくとも流量制御弁調節部を制御する制御装置１１５とを含んでいる。本装置は、流体を半導体処理工具に流入させるため及び／又は複数の流体を配合するために使用される。 （もっと読む）

導管（３）を通る可変比率のガス混合物の流量を制御するための体積流量制御器（１）は、導管を通るガスの流量を調節するための弁手段（５）、この弁手段を駆動するための駆動手段（９）、導管を通るガスの流量を測定するための、例えばペルトンホイールなどの、体積流量計（７）を有し、そしてこの流量計が、駆動手段に供給される調整信号（１１）を発生させる増幅器（１５）での設定点信号（１７）との比較のためにフィードバック信号（２９）を提供する。設定点信号は、設定点信号発生手段（１９）により発生され、それは所望の流量に対応する値を入力するためのポテンショメーター（２１）と、以前の設定点から所望の設定点への変更を体積流量計に固有の応答の遅れを保証するのに十分な時間遅らせてガス流量を滑らか且つ安定に制御するための、抵抗器（２５）及びキャパシタ（２７）からなるスローダウン回路（２３）を含む。好ましくは、ポテンショメーターはディジタルポテンショメーター（４０３）であって、その電圧は回転エンコーダー（４１７）の独立した操作により変えることができる。
（もっと読む）

流量を算出するために時間の関数としてガスの圧力低下を測定する流量調節器の内部独立式等温検査体積部は、内部に蓄熱部を有する。蓄熱部は、既知体積部の中を流れるガスが定常流状態のときに蓄熱部の温度をガス温度と等温にするとともに、ガスが膨張するとき、検証過程中の外部からの影響を最小限度に抑制しつつ、ガス温度を一定に維持するための熱の伝導を実施するために周囲からの影響を受けないよう隔離されている。
（もっと読む）

この発明の実施例は、複数流路バルブ制御のためのシステムおよび方法を提供する。この発明の一実施例は、バルブ制御のシステムを含み、これは、プロセッサ（５０４）と、プロセッサ（５０４）によってアクセス可能なコンピュータ読取可能な媒体（５１８）と、アクチュエータによってバルブに適用されるべき初期力を示す第１の信号を第１の流路（５０６）で出力するため（８０６）、およびバルブに適用されるべき制御力を示す第２の信号を第２の流路（５０８）で出力するため（８１０）にプロセッサによって実行可能なコンピュータ命令（５１６）のセットとを含む。
（もっと読む）

【課題】 圧力式流量制御装置を用いて、真空チャンバ等へ供給するＨＦガス等のクラスター化する流体を、３〜３００ＳＣＣＭ程度の流量範囲について、高精度で流量制御できるようにしたものである。
【解決手段】 オリフィス上流側のガスの圧力Ｐ₁ とオリフィス下流側のガスの圧力Ｐ₂ との比Ｐ₂ ／Ｐ₁ を気体の臨界圧力比以下に保持した状態でオリフィスを流通するガスの流量ＱをＱ＝ＫＰ₁ （但しＫは定数）として演算するようにした圧力式流量制御装置を用いたクラスター化する流体の流量制御方法に於いて、前記圧力式流量制御装置を４０℃以上の温度に加温するか、或いはクラスター化する流体に希釈ガスを加えて分圧以下にすることにより、分子の会合を解離させ、その後単分状態にしたクラスター化する流体を前記オリフィスを通して流通させる。 （もっと読む）

【課題】ロータの回転速度に応じて適切な流量の冷媒ガスを吸入することが可能な逆止弁及びその逆止弁を備えた気体圧縮機を提供すること。
【解決手段】本発明に係る逆止弁４１は、外部に連通するストッパ４２と、ストッパ４２に圧接することにより冷媒ガスＲの吸入室２への吸入及び逆流を防止し、ストッパ４２から離反することによって冷媒ガスＲの吸入室２への流入を許容する弁本体４３とを有している。ストッパ４２の内部には、ストッパ４２の中部から外部側端部にかけて口径が拡大されて傾斜面４８が形成された拡径空間４９が設けられ、拡径空間４９には、ロータ２４の回転速度に応じて傾斜面４８を摺接動して拡径空間４９における冷媒ガスＲの流入孔内径Ｌ１、Ｌ２を変更することが可能な径可変部材５０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 蒸発器に一定の供給速度で正確に液体除染剤を供給することができる液体除染剤供給システムを提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の液体除染剤供給システム１は、中間容器３内の過酸化水素水の液面高さを測定する液レベル測定器５と、液レベル測定器５が測定した液面高さに基づいて、所定期間における液面高さ減少量を算出し、該減少量と中間容器３の横断面積Ｍと当該所定期間の時間長さとに基づいて当該所定期間における蒸発器４への供給質量速度Ａ’を算出する制御装置２０を備えている。さらに、この制御装置２０は、算出した供給質量速度Ａ’が、目標供給質量速度Ａに比べて小さい場合に、第二供給ポンプ１６のＤＣモータ回転数を目標供給質量速度Ａとなる修正回転数に変更する制御内容を具備している。 （もっと読む）

【課題】 装置全体を小型化して、特に占有面積を大幅に削減することが可能な質量流量制御装置を提供する。
【解決手段】 質量流量を制御する質量流量制御装置において、上下方向に延びて内部が中空になされたケーシング本体４２と、流体出口に２次側空間を介して連通された弁口に着座可能になされた弁体を有する流量制御弁１０と、弁体を押圧するためのアクチュエータ機構２６と、アクチュエータ機構と並列に上下方向に配列されたバイパス流路１２と、入口ヘッダ空間と流体入口とを連通する流体導入路７４と、入口ヘッダ空間と出口ヘッダ空間との間に連通されると共に、アクチュエータ機構に沿って上方へ向かって延びた後に下方向へ屈曲されるようにして設けられたセンサ管１４と、出口ヘッダ空間と流量制御弁の１次側空間とを連通する連通路４８と、検出された質量流量が外部より入力される設定流量に一致するようにアクチュエータ機構を駆動するためにアクチュエータ機構の上方に設けられた制御回路部１６と、を備える。 （もっと読む）

少なくとも１つの導入部、少なくとも１つの導出部、及び流路を有する第１のディスクと、流路を有さない第２のディスクとを備えるフローリストリクタであって、第１のディスク及び第２のディスクは互いに積み重ねられる。また、マスフローコントローラは、入力部、出力部、流路、圧力トランスデューサ及び上記フローリストリクタを備えている。
（もっと読む）

制御装置（３０）は、フローを受け入れるための流入口（３２）；フローをフロー・システムの他の構成要素に導くための流出口（３４）；圧力低減エレメント（３６）；上流の圧力を測定するよう構成された、圧力低減エレメント（３６）の上流の圧力センサ（３８）；下流の圧力を測定するよう構成された、圧力低減エレメント（３６）の下流の圧力センサ（４０）；プロセッサ、メモリ、及び流体の流量を算定しバルブ制御信号を発生させるためのソフトウエア命令を包含させることが可能なコントローラ（４２）；ならびに、バルブ制御信号に反応して流体フローを調節する、ちょう型バルブ、油圧駆動バルブなどのバルブ（４４）を含む。
（もっと読む）

フロー制御装置のインサイチュ検証及び較正のためのシステム及び方法であって、フロー制御装置をフロー検証装置に接続する第１のネットワーク物理層を含む。フロー検証装置のコントローラは、第１のネットワーク物理層を通じてフロー制御装置のそれぞれと通信し、気体に特有の情報と伝達関数とをそれぞれのフロー制御装置から受け取り、それぞれのフロー制御装置のフローを検証するようにプログラムされている。フロー検証装置のコントローラは、更に、第１のネットワーク物理層を通じてフロー制御装置のそれぞれと通信し、必要であれば、フロー制御装置を較正する。フロー制御装置の検証及び較正は、好ましくは、フロー制御装置に接続された第２のネットワーク物理層に接続されたツール・コントローラを介して提供された単一のコマンドに基づいて実行される。
（もっと読む）

流路に差圧を発生させ、半導体デバイスに用いられるガスの流量を制御する差圧式流量制御器が提供される。差圧発生要素は半導体デバイスの製造に用いられるガスの流路に差圧を発生させ、流路上のバイパスに設置される圧力センサは差圧を検出し、中央処理装置（ＣＰＵ）はガスの流量を測定および制御する。その結果、本発明は、ガスの流量を精密かつ迅速に制御することができるとともに、差圧発生要素自体のフィルタリング機能によってガスの純度を高めることができる。

（もっと読む）

磁界センサを含むソレノイド装置、および該装置を操作する方法を記述する。装置は、少なくとも一部は強磁性体で形成され、あらゆる強磁性体から実質的に独立しているギャップを定義する、磁束回路部を介して延びる磁束を生成する磁界生成器を含む。ギャップを横切って延びる磁束を感知するために、磁束センサが配置されている。装置は、流体の流量制御バルブとして実行され得る。磁束回路部は、ハウジングと、移動可能なようにハウジングに対して装着されているプランジャとを備える。
（もっと読む）