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国際特許分類[B05C5/00]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般 (41,198) | 液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般 (13,956) | 液体または他の流動性材料が被加工物の表面上に射出,注出あるいは流下されるようにした装置 (5,497)

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【課題】キャリッジ駆動モータのホールド制御によって消費電流が多くなる。
【解決手段】キャリッジ3の位置ずれが生じる温度を設定し、キャリッジ3の周辺温度を検出し、検出した温度(検出温度)が設定温度以上であるか否かを判別し、検出温度が設定温度以上でなければ、ホールド期間では主走査モータ5にホールド電流又は電圧を供給するホールド制御し、検出温度が設定温度以上であれば、ホールド期間では主走査モータ5にホールド電流又は電圧を供給していない状態にする。 (もっと読む)


【課題】ロール紙における異常部分の検出精度を高める。
【解決手段】一方の面が画像の記録層であり、他方の面が粘着層である記録基材と、前記粘着層を覆う剥離基材とを有するロール紙を、繰り出し搬送する搬送部と、繰り出された前記ロール紙を支持する支持部と、前記支持部により支持された前記ロール紙に向けて液体を吐出して前記画像を記録するヘッドと、前記ロール紙における異常部分を検出する異常部分検出センサーと、を備える。前記異常部分検出センサーは、前記ロール紙の紙幅方向の一端側に配された投光部と、該投光部から投じられた光を前記紙幅方向の他端側で受けるように配置された受光部と、を有する。前記投光部と前記受光部とを結ぶ光軸方向は、前記紙幅方向に対して傾いている。 (もっと読む)


【課題】全体工程時間を短縮できる基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による基板処理装置は、基板を支持する基板支持ユニットと、前記基板に第1処理液を吐出するインクジェットノズルと、前記基板に第1処理液と異なる第2処理液を吐出するコーティングノズルと、前記基板支持ユニットに対して前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとの位置が変更されるように前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを第1方向に直線移動させるジェントリーユニットと、を含む。 (もっと読む)


【課題】ノズルを高精度な形状に形成可能な液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッドの製造方法は、シリコン基板30にノズルとなる凹部6cをエッチングによって形成する工程と、凹部6cの内壁にシリコン酸化膜34を形成する工程と、シリコン基板30の凹部6cが形成されている面30aの反対面30bからシリコン基板30を薄板化することによって、凹部6cを貫通孔に形成する工程と、を有する。凹部6cを貫通孔に形成する工程は、シリコン酸化物用スラリーLを用いたCMP法によって、シリコン酸化膜34を研磨することを含む。 (もっと読む)


【課題】汎用性を向上することができるようにする。
【解決手段】接着剤塗布装置10は、ロボットアーム12aを備えたロボット12と、ロータ56を設置するためのロータセット治具14と、接着剤を収容したカートリッジ58を装着可能なホルダ部16aを備え、当該ホルダ部16aに装着されたカートリッジ58内の接着剤を吐出する、ロボットアーム12aの先端に取り付け可能なガン16と、所定圧の圧縮エアの、ガン16のホルダ部16aに装着されたカートリッジ58内への供給をオン・オフ切替制御する電磁弁22と、ロボット12の動作を制御するロボットコントローラ50と、電磁弁22によるオン・オフ切替制御、及び、ロボットコントローラ50によるロボット12の動作制御を連携して制御する上位コントローラ52とを有する。 (もっと読む)


【課題】 描画対象物1枚あたりの描画時間を短縮することが望まれている。
【解決手段】 保持機構に保持された描画対象物に、液滴を吐出複数のノズルを有する第1及び第2のノズルユニットが対向する。移動機構が、描画対象物に対して、第1及び第2のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第1の方向及び第2の方向に移動させる。制御装置が、ノズルユニット及び前記移動機構を制御する。第1及び第2のノズルユニットの各々のノズルは、第2の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されている。第1及び第2のノズルユニットは、第2の方向に間隔を隔てて配置されている。間隔調節機構が、制御装置からの制御により、第1及び第2のノズルユニットの間隔を変化させる。 (もっと読む)


【課題】 高精度の描画を行う。
【解決手段】 基板を保持して水平面内方向に移動させるステージと、基板に対向して配置され、基板に向けて絶縁材を吐出する吐出ヘッドと、基板上の一部の位置を押圧する押圧部と、押圧部が、吐出ヘッドによって絶縁材が吐出されていない基板上の位置を押圧するように制御を行う制御装置とを有する液滴吐出装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】吐出ユニット3とこの吐出ユニット3の位置を調整する微調ステージ9とを備えた構成において、吐出ユニット3および微調ステージ9を支持する垂直ベース53の撓みを抑制する。
【解決手段】微調ステージ9の少なくとも一部は垂直ベース53に対して水平方向(Y軸方向)の一方側(正方向側)に位置するとともに、吐出ユニット3の少なくとも一部は垂直ベース53に対して水平方向(Y軸方向)の他方側(負方向側)に位置する。その結果、微調ステージ9および吐出ユニット3の重量が垂直ベース53の水平方向(Y軸方向)の両側に分散するため、垂直ベース53に働く曲げモーメントの大きさを抑えて、垂直ベース53の撓みを抑制することが可能となっている。 (もっと読む)


【課題】描画対象物に均一な厚みの材料層を描画する描画装置および描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象物50に描画すべきパターンの液状材料を付着させるべき領域を、主走査方向に直交する仮想直線上に垂直投影した像の連続する部分の長さ、つまり配線領域の長さLwに基づいて、ノズルヘッド23の1回の主走査で描画されるパス領域の幅Lpを、ノズルヘッドに設けられるノズルの配列長さLaよりも短く設定する。 (もっと読む)


【課題】移動自在な垂直ベース53に吐出ユニット3を取り付けた構成において、塗布液の吐出時に発生する反力に起因した吐出ユニット3の振動を抑制可能とする。
【解決手段】垂直ベース53を、梁513により支持するのみならず、梁513の反対側から第2支持機構6によっても支持する。こうして、両側に配置された梁513と第2支持機構6で垂直ベース53を強固に支持することが可能となり、その結果、垂直ベース53に取り付けられた吐出ユニット3を吐出時に発生する反力に抗してしっかりと支持することができる。よって、塗布液の吐出時に発生する反力に起因した吐出ユニット3の振動を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


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