【課題】荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】本発明は、対物レンズ等に対して軸調整を行うアライメント偏向器の偏向量を演算する演算手段を備え、当該演算手段には前記偏向量を演算するための複数の演算法が記憶され、当該演算法を選択する選択手段を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明では、イオン加速器装置に対して、カスプ構造を有する磁界と長手方向軸に対して横断方向に延長されたイオン化チャンバ横断面との組み合わせが提案される。これは有利にはイオン流のスケーリングを可能にする。
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【課題】 誰もが正確に陰極先端の像（フィラメント像）を観察でき、また、軸合わせ後の像観察も容易に再開しうる透過電子顕微鏡を実現する。
【解決手段】 フィラメント像を蛍光板上に投影し、投影されたフィラメント像の形状や位置を、アライメント用の偏向コイル１２，１３に供給する信号を調整することにより、フィラメント先端（エミッター先端）を光軸上に配置し、先端の向きを光軸に沿ったものとすることができる。このフィラメント像の観察や調整を行う際には、フィラメント２からの電子の放出量を最適な値に設定する必要がある。この最適な値は、透過電子顕微鏡の操作を行う際に最初に求められており、コンピュータ９に接続されたメモリー１１に記憶されている。 （もっと読む）

【課題】 電子放出源から放出される電子（電子ビーム）の位置をエクストラクタで直接感知することによって、マイクロカラムのエクストラクタ孔及び電子放出源の整列をより容易に且つ簡便に行うことができ、しかも自動整列を可能にすることによって、長時間電子カラムを使用しても、正確な整列補正を容易に且つ自動に行うことができるエクストラクタ及びこれらを整列する方法を提供する。
【解決手段】 本発明によるマイクロカラムに用いられるエクストラクタは、電子放出源から放出された電子ビームの電子を電気的に導通させる複数の感知領域と、電子の流れを遮断する絶縁体又は電子の流れを減少させる低濃度ドープ半導体よりなり、前記各々の感知領域を分割する絶縁部と、を備える。
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【課題】 イオンビーム照射による圧電素子の周波数調整装置において、遮蔽マスク等の消耗を抑制する。
【解決手段】 内部に放電部を有するプラズマ生成手段、及びプラズマ生成手段で生成されたプラズマからイオンを引き出してイオンビームを出射するグリッドからなるイオンガンにおいて、イオンビームの断面における電流密度分布を制御する制御手段を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に計測する際、長い伝送経路に重畳するノイズの影響を低減し、また、マルチビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に効率よく計測する技術を提供する。
【解決手段】 電子ビーム検出素子１０９と検出信号用伝送経路１２４を遮断・接続するスイッチ１１０を用いて、ビーム電流計測の間、電子ビーム検出素子１０９を検出信号用伝送経路１２４から遮断し、電子ビーム検出素子１０９内に検出信号を蓄積し、計測終了と同時に電子ビーム検出素子１０９と検出信号用伝送経路１２４を接続し、蓄積信号を計測する。また、同様な計測方法を複数同時に行うため、電子ビーム検出素子と複数のスイッチとを用いて、複数本の電子ビームを同時に高精度に計測する。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームの入射角度の変更が容易であり、しかも入射角度を小さくする場合でも照射位置のずれおよび照射領域の広がりを小さく抑えることができる装置および方法を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、真空容器１０と、その中に設けられていて基板６にそれよりも幅の広いイオンビーム４を照射するイオン源２と、真空容器１０内で基板６を往復駆動する基板駆動機構３０と、中心軸１４ａがイオン源２から基板寄りに離れた所にありかつ基板表面に実質的に平行である回転軸１４と、真空容器１０内に設けられていてイオン源２を回転軸１４から支持するアーム１２と、真空容器１０外に設けられていて回転軸１４を往復回転させるモータとを備えている。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線の照射量を安定して高精度に計測することができる荷電粒子線露光装置を提供する。
【解決手段】 感応基板ステージ上に配置され、投影ビームを検出するセンサ４０を具備する荷電粒子線露光装置であって、 センサ４０はビーム入射開口７５を有し、ビーム入射開口７５の大きさが、投影ビームの偏向形態６０の大きさとほぼ等しいか、それよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】 高電圧部の隔離とイオン加速部のＸ線遮蔽を可能にすると同時にプラズマ発生部のメンテナンスが容易になる荷電粒子ビーム発生及び加速装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ発生手段１と、その出口側に設けられた荷電粒子ビーム引き出し手段２と、その下流側に設けられた荷電粒子ビーム加速手段３と、プラズマ発生手段１へプラズマ発生に必要な電流、電圧、ガスなどを導入する導入手段１０と、プラズマ発生手段１と荷電粒子ビーム引き出し手段２と荷電粒子ビーム加速手段３と導入手段１０とからなる高電圧部を囲むように設置された接地カーバを備え、接地カーバは所定壁厚を有し、荷電粒子ビーム加速手段３を覆う第一接地カーバ７と、第一接地カーバ７に対して脱着可能に設けられ、プラズマ発生手段１を覆うと共に第一接地カーバ７より壁厚が薄くされた第二接地カーバ８とから構成される。 （もっと読む）

【課題】イオン・ビーム光軸上に磁場が存在し、更に磁場が変動する場合でもイオン・ビームが試料上で同位体分離を生じることが無く、磁場が無い場合のビーム・スポット位置へ集束する集束イオン・ビーム装置を提供する。
【解決手段】補正磁場発生部10からイオン・ビーム３の光軸上に補正磁場を発生させ、外部磁場によるイオン・ビームの偏向を相殺する。 （もっと読む）