【課題】微細な電子ビームの形状を簡便な方法で測定することが可能なナノワイヤ架橋デバイスとその作成方法を、また、それを応用した電子ビームの形状測定方法を提供する。
【解決手段】金属板を渡るようにナノワイヤ、例えばカーボンナノチューブを配置し、ナノワイヤの両端部分を金属板に固定するナノワイヤ架橋デバイスの作成方法および金属板を渡るように架設されたナノワイヤを有するナノワイヤ架橋デバイス。 （もっと読む）

【課題】 多くの手間と作業時間を必要とせず、エミッタ電極を精度良く位置決めできる荷電粒子ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】 荷電粒子ビームを発生させるエミッタ電極を有するエミッタ電極ユニットと、エミッタ電極で発生した荷電粒子ビームを試料に偏向照射するための荷電粒子ビーム光学系と、エクストラクタ電極およびレンズを有する内臓ユニットを備えた荷電粒子ビーム発生装置において、内臓ユニットの上部にエミッタ電極位置決め手段を設け、荷電粒子ビーム光学系の光軸上で、エミッタ電極がエミッタ電極位置決め手段に位置決めされて脱着可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】クレーン等の重機を用いることなく容易かつ短時間に性能を回復することができ、かつその際に水分が真空チャンバー内に侵入する可能性が少ないビームプロファイルモニターを提供する。
【解決手段】イオンビーム源に対向する照射面１０ａを有し照射面におけるイオンビームの強度分布を計測するビームプロファイルモニター１０。イオンビームを遮ることなく照射面を囲む枠体１２と、枠体に固定されイオンビーム３が通過可能な複数のスリット孔１４ａを有する水冷された平板状の冷却支持板１４と、冷却支持板のイオンビーム源の背面側に位置し複数のスリット孔を通過したイオンビーム３の強度をそれぞれ独立に計測する複数のファラデーカップ１８とを備える。ファラデーカップ１８は、枠体１２の背面側から着脱可能に枠体に取付けられている。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム描画装置のスループット向上のために、複数の陰極を備えた電子銃を実現し、各電子ビームの調整方法を提供する。
【解決手段】
加速空間内に全ての電子ビームに作用する偏向器（４０８）と回転コイル（４０９）を設置する。加速空間外に各電子ビームに作用する偏向器（４１０）を設置する。加速空間外に放熱機構を有する電子ビーム遮断板（４１１）を設置する。各陰極を温度制限領域にて使用する。 （もっと読む）

【課題】 マルチビームが試料面に対して垂直になるようにランディング角を高精度に調整することができる露光装置、及びその露光装置を用いたデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 電子線が通過する際に平行ビーム化する集束レンズ１１２と、平行ビームが通過する際にマルチビーム化するアパーチャアレイ１１３と、マルチビームの個別の通過の際にオンオフ用偏向を行うブランカーアレイ１１５と、マルチビームが個別に通過する２段配置の偏向器を有するマルチアライナー１１６，１１７と、マルチビームを一括して偏向する一括偏向器１１９と、マルチビームが流入されるブランキング絞り１２０と、マルチビームを個々に試料面に結像させる電子光学系１３０，１３１とを有する。ブランキング絞りに流入するマルチビームの電流の検出に基づき、マルチアライナー１１６，１１７により試料面に対してマルチビームが垂直になるようランディング角を調整する。 （もっと読む）

イオン源および制御可能なイオン電流密度分布を有するイオンビームを発生させるためにイオン源の電磁石を動作させる方法。イオン源（１０）は、放電チャンバ（１６）および放電チャンバ（１６）の内側でプラズマ密度分布を変化させるために磁界（７５）を発生させるようになっている電磁石（４２；４２ａ−ｄ）を含む。方法は、放電空間（２４）内でプラズマ（１７）を発生させること、電流を電磁石（４２；４２ａ−ｄ）に印加することによって、プラズマ密度分布を規定するのに有効である磁界（７５）を放電空間（２４）内に発生し形作ること、プラズマ（１７）からイオンビーム（１５）を抽出すること、イオンビーム密度について分布プロファイルを測定すること、および、イオンビーム密度について実際の分布プロファイルを所望の分布プロファイルと比較することを含んでもよい。
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【課題】本発明は荷電粒子ビーム装置の自動軸合わせ方法及び荷電粒子ビーム装置に関し、画像データの分割をせずに高精度な軸合わせを行なうことを目的としている。
【解決手段】荷電粒子ビームの一部をプローブとして試料に照射する荷電粒子ビーム装置において、対物レンズの軸ずれを補正するために適切な観察倍率とエミッタ先端電位変化量とを選択し、エミッタ先端の電位を変化させた時の荷電粒子ビーム走査像の、エミッタ先端の電位を変化させる前の荷電粒子ビーム走査像に対する移動量を算出し、算出された移動量から対物レンズの軸ずれ量を算出し、対物レンズ前方に置かれた偏向器に対して対物レンズの軸ずれを補正するようにフィードバックをかけるように構成する。 （もっと読む）

【課題】イオンビーム加工装置では、イオンビームの異常状態を、試料に照射する電流でしか検知できなかったため、原因探索による補正ができず、安定な加工が実現できていなかった。
【解決手段】
第１、第２のブランカ１２８、１３４とファラデーカップ１３０、１３４を用い、第１、第２のブランカ１２８、１３４のオンオフを切り替えて、投射マスク１１５の上下２箇所でビーム電流をモニタする。これにより、投射マスク１１５の損傷を抑えながら、イオンビームの異常情報を取得し、異常原因の切り分け、異常の補正が可能となる。このため、イオンビームによる安定加工を実現することができ、イオンビーム加工装置を安定的に使用することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 ビームモニタの各ビーム検出器に流入するビーム電流の波形を、少ない数の電流測定器を用いて短時間で精度良く測定する。
【解決手段】 ビームモニタ３０の各ビーム検出器３２を、スイッチＳをそれぞれ介して一つの電流測定器４０に接続しておく。そして、各ビーム検出器３２のビーム入射孔のＸ方向の幅をＷｆ、隣り合うビーム入射孔間のＸ方向の間隔をＷｓ、イオンビーム４のＸ方向のビーム幅をＷｂ、ビーム検出器３２の総数をｐとし、ｎを０≦ｎ≦（ｐ−２）の整数とすると、次式を満たすｎ個ずつ飛ばして複数のスイッチＳを同時にオン状態にしている状態で、ビームモニタ３０によってイオンビーム４を受けて電流測定器４０に流入するビーム電流の波形を測定する測定工程と、同時にオン状態にしているスイッチＳを前記条件の下で切り換える切換工程とを繰り返す。
Ｗｂ＜｛ｎ・Ｗｆ＋（ｎ＋１）Ｗｓ｝ （もっと読む）

【課題】 本発明は収差補正器を備えた走査電子顕微鏡に関し、使用条件やノイズの影響を受けることなく、安定的にプローブ画像を得ることを目的としている
【解決手段】 ジャストフォーカス状態で撮影した画像とデフォーカス状態で撮影した画像を画像データとしてコンピュータに入力し（ステップ1）、入力データサイズと出力データサイズから相関窓画像のサイズを自動で決定して相関窓を作成し（ステップ2,3）、相関窓と参照領域の相互相関演算を行い（ステップ6）、参照領域をずらしながらこの演算を繰り返す（ステップ7〜10）ことで相互相関行列を得ることで（ステップ11）プローブ画像を得る。 （もっと読む）