【課題】アライメントの精度や信頼性などを向上させることができ、また、製造原価のコストダウンを図ることができる電子ビーム加工装置及び電子ビーム加工方法、並びに、電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法の提供を目的とする。
【解決手段】電子ビーム溶接装置１は、電子銃２と、集束コイル４と、アライメントコイル３１、デジタル観測光学系３２、デジタル画像処理コントローラ３３及び情報処理装置３４を有するアライメント制御手段３とを備え、情報処理装置３４が、アッパーフォーカス状態とロアーフォーカス状態で電子ビームをターゲット１０に照射し、これらの照射画像の位置座標の差分から算出した補正値にもとづいて、アライメントコイル３１に、アライメント制御信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】イオン源の条件を変えた場合でも、均一ビーム照射が可能なイオンミリング装置を提供することにある。
【解決手段】高周波イオン源から引き出されたイオンビーム９を基板１２に照射せしめることによりイオンビームによる基板の微細加工を行わせる。複数のファラデーカップ２０は、複数の試料基板１２を乗せた円板状試料ホルダ１１の半径方向に一列に並べて配置され、イオンビーム電流を測定する。電流積算器１６は、各ファラデーカップの電流値を時間的に積算する。高周波電源５は、高周波イオン源のコイルに高周波電力を供給するとともに、その高周波電力値が可変である。電力調整器１９は、複数のファラデーカップを２つの群の領域に分け、かつそれぞれの群の積算値の平均値の差に基づいて高周波電源からコイル４に供給する高周波電力を調整する。表示装置１７には、電流積算器により算出された電流積算値が表示される。 （もっと読む）

【課題】不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置及び方法。装置は、少なくとも２つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ（１０２）と、ガンレンズ（１１９、５１９、９１９）と、ダイヤフラム（１２０）とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット（１１０）を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも２つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも２つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 （もっと読む）

本発明は、多数のビームからのそれぞれのビームの強度が決定されるリソグラフィシステムであって、複数のビームを同時に感知して、これらの集合信号を与えるように構成されたセンサ領域を有するセンサを備えた測定装置を具備するリソグラフィシステムに関する。複数のビームが、関連する一時ブランキングパターンに従ってそれぞれ変調される。本発明は、さらに、測定された集合信号及びビームの一時ブランキングパターンによってそれぞれのビームの強度を計算する方法に関する。
（もっと読む）

荷電粒子源（２０１０）及び荷電粒子光学コラム（２０４０）を含む荷電粒子光学系において荷電粒子ビーム（２１００）を位置合わせするシステム（２０００）及び方法であって、コラムの少なくとも１つの電極（２０５０、２０６０）が、複数のセグメントを含み、セグメントの少なくとも若干に異なる電位を印加して、荷電粒子源（２０１０）の傾斜誤差及び／又は変位誤差を補正し、またコラム（２０４０）の軸線（２０４５）に沿って粒子ビーム（２１００）を位置合わせする、システム（２０００）及び方法を開示する。代替的に、磁界発生素子が位置合わせに用いることができる。
（もっと読む）

【課題】所望の電流密度を得るために最適なフィラメント電力を求めることが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム発生装置は、フィラメント電力によりカソード11を加熱することにより放出される電子を、バイアス電圧により集束し、加速電圧により加速することにより所定のエミッション電流の荷電粒子ビーム２０を照射する荷電粒子銃１０と、電流密度を測定するための検出器２２と、フィラメント電力およびエミッション電流を制御するための制御部１８と、バイアス飽和点における電流密度とエミッション電流との関係とフィラメント電力とエミッション電流との関係を記憶し、設定電流密度よりエミッション電流値とフィラメント電力値を算出するための記憶演算部１９を備える。 （もっと読む）

【課題】プローブ電流と対物開き角を独立に制御し、対物絞り径に応じて所望のプローブ電流量、対物開き角になる荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】コンデンサレンズ4とコンデンサレンズ7の間に対物絞り6を有する構成とし、所望のプローブ電流量になるよう対物絞り6の径に応じて、第1のコンデンサレンズ設定部60の制御値を算出して設定し、所望の対物開き角になるよう対物絞り6の径とコンデンサレンズ設定部60の制御値に応じて、第2のコンデンサレンズ設定部62の制御値を算出し、算出した制御値を第2のコンデンサレンズ62に設定して、対物開き角43を制御する。 （もっと読む）

【課題】 リボン状のイオンビームのＸ方向およびＹ方向における発散角を簡単な方法で測定する測定方法を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム測定方法は、イオンビーム２の一部を通過させる小孔６２を有するマスク板６０と、その下流側に設けられていて、前記小孔を通過したイオンビームを受けてそのビーム電流をそれぞれ検出する複数のビーム検出器１２をＸ方向に有していて、Ｙ方向に可動のビームモニタ１０とを用いる。そして当該ビームモニタ１０をＹ方向に移動させることによって、小孔６２を通過したイオンビームのＸ方向およびＹ方向における中心位置ｘ₃ 、ｙ₃ をそれぞれ測定し、その中心位置ｘ₃ 、ｙ₃ とそれに対応する小孔６２間のＸ方向およびＹ方向における距離Ｌ₄ 、Ｌ₅ ならびにマスク板６０とビームモニタ１０間のＺ方向における距離Ｌ₃ に基づいて、小孔６２を通過したイオンビームのＸ方向およびＹ方向における発散角α_X 、α_Y をそれぞれ測定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は環状暗視野走査像検出器に対する散乱電子ビームの入射軸調整方法及び走査透過電子顕微鏡に関し、環状暗視野走査像検出器に対する散乱電子ビームの入射軸合わせ容易に行うようにすることを目的としている。
【解決手段】電子銃から発生した電子ビームを試料に照射する集束レンズ群からなる照射光学系と、試料を保持する試料ホルダと、該試料ホルダの傾斜角を制御し、かつ試料移動機構を有するゴニオメータと、試料を透過した電子ビームを拡大結像するための対物レンズ群，中間レンズ群及び投影レンズ群からなる結像光学系とを有する透過型電子顕微鏡において、前記結像光学系により得られた拡大像を検出する環状暗視野走査像検出器１３を具備し、前記投影レンズ群の偏向コイルを用いて電子ビームを走査し、前記環状暗視野走査像検出器１３に対する電子ビームの入射軸を自動的に調整するように構成する。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの強度分布調整において、イオンビームの短辺方向寸法を大きくことを可能にする。
【解決手段】イオンビームは、その進行方向と垂直な断面形状を有し、断面形状は、第１方向に長く、第１方向と直交する第２方向に短くなっている。イオンビームに対し磁界を印加する磁石１７を備え、磁石１７は、イオンビームが通過する領域の近傍に配置されて第２方向にイオンビームと対向するとともに、第１方向に位置調整可能となっている。 （もっと読む）