国際特許分類[H01L21/22]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | 少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置 (97,574) | 不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置 (83,040) | 半導体本体へのまたは半導体本体からのまたは半導体領域間の不純物材料,例.ドーピング材料,電極材料,の拡散;不純物材料の再分布,例.さらなるドーパントの導入または除去をしないもの (951)
国際特許分類[H01L21/22]の下位に属する分類
気相から固体へのまたは固体から気相への拡散を用いるもの (27)
固相,例.ドープされた酸化物層,から固体へのまたは固体から固相への拡散を用いるもの (146)
液相から固体へのまたは固体から液相への拡散を用いるもの,例.合金拡散法 (6)
国際特許分類[H01L21/22]に分類される特許
51 - 60 / 772
基板処理装置、半導体装置の製造方法、天井断熱体及び加熱装置
【課題】天井断熱材のクラックの発生を少なくし、天井断熱材の破損、落下のおそれを低減することができる基板処理装置、半導体装置の製造方法及び天井断熱材を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を処理する反応容器の外側に設けられたヒータ206を有する。このヒータ206は、環状の側壁断熱材12と、側壁断熱材12に載置される天井断熱材16と、側壁断熱材12の内側に設けられる発熱体14とを有する。ヒータ206の天井断熱材16には、応力緩和部が天井断熱材16の中心側から周縁側に向かって複数設けられている。
(もっと読む)
熱処理装置およびその制御方法
【課題】温度安定時に温度を均一に維持することができ、昇降温時に容易に制御することができる。
【解決手段】制御装置51は個別に制御される制御ゾーンの数が多い多制御ゾーンモデル72aと、制御ゾーンの数が少ない少制御ゾーンモデル72bをとることができる。昇降温時に少制御ゾーンモデル72bをとって少ない数の制御ゾーンC1、…C5の温度センサ50からの信号に基づいて、各制御ゾーンC1、…C5に設置されたヒータ18Aを個別に制御する。温度安定時に多制御ゾーンモデル72aをとって、多い数の制御ゾーンC1、…C10の温度センサ50からの信号に基づいて、各制御ゾーンC1、…C10に設置されたヒータ18Aを個別に制御する。
(もっと読む)
ウエハボート組立体、このようなウエハボート組立体を含む搬入装置及び縦型炉への搬入方法
【課題】縦型炉内にカバーボート内の平面状の薄型半導体基板を搬入する改良型搬入装置を提供する。
【解決手段】バッチ処理用に構成される縦型炉において半導体基板を搬入する搬入装置に用いられるウエハボート組立体であって、半導体基板を保持するウエハボートと、これらの基板を実質的に取り巻くように構成されるカバーとを含むウエハボート組立体において:
ベース部と、ベース部に取り付けられる第1のカバー部分であって、少なくとも部分的にベース部上側周縁部に沿って延在する第1のカバー部分とを有する第1のウエハボート部分と;
第1のウエハボート部分に取外し可能に配設されると共に第1のカバー部分と協働するように構成される第2のカバー部分であって、少なくとも1つの加工処理対象の半導体基板を受ける受入れスロットを含む第2のカバー部分を有する第2のウエハボート部分とを具備するウエハボート組立体。
(もっと読む)
ケイ素含有膜形成組成物、不純物拡散層の形成方法および太陽電池
【課題】側鎖に極性基を持たないシロキサンポリマーを含有する組成物の親水性基板に対する密着性を向上させる。
【解決手段】実施の形態に係るケイ素含有膜形成組成物は、側鎖に環構造を持つシロキサンポリマー(A)と、極性低分子化合物(B)と、溶剤(C)と、を含有する。シロキサンポリマ−(A)は、下記式(a−2)で表される構成単位を有する。極性低分子化合物(B)として、2級または3級のアルコールアミンまたはアルキルアミンなどの塩基性を有するアミン類が挙げられる。溶剤(C)は、シロキサンポリマー(A)を溶解できるものであればよい。
【化1】
(もっと読む)
不純物導入方法
【課題】 基板表面にアモルファス層を確実に良好に形成でき、所望の不純物導入を行うことができる不純物導入方法を提供する。
【解決手段】 不純物導入方法は、シリコン単結晶基板の表面にネオンからなるプラズマを照射してアモルファス層を形成する第1工程と、アモルファス層に不純物を導入する第2工程とを含む。
(もっと読む)
熱処理装置及び記憶媒体
【課題】加熱効率が高く、しかも更なる高速での昇温及び降温が可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体Wに対して所定の熱処理を施すようにした熱処理装置2において、排気可能になされた処理容器4と、前記処理容器内に設けられてその上面側に前記被処理体を載置させるための載置台18と、前記載置台の上部に設けられる複数の熱電変換素子22と、前記処理容器の天井部を気密に覆う光透過窓8と、前記処理容器内に向けて必要なガスを導入するガス導入手段12と、前記光透過窓の上方に設けられて前記被処理体に向けて加熱用の光を射出する半導体光射出素子58を含む複数の加熱光源52よりなる加熱手段46とを備える。これにより、加熱効率が高く、しかも被処理体に対して更なる高速での昇温及び降温が可能となる。
(もっと読む)
プラズマドーピング装置及びプラズマドーピング方法
【課題】基板表面に堆積させた不純物のラジカルの厚さ(量)を比較的高精度に測定し、その結果に基づいて所望量の不純物のラジカルに含まれる元素を基板に導入することができるプラズマドーピング装置及びプラズマドーピング方法を提供する。
【解決手段】プラズマ生成室12と、プラズマ生成室12に連通して設けられて処理対象である基板Sを保持するステージ31が設けられた処理室13と、を備え、プラズマ生成室12で生成されたプラズマ中の不純物のラジカルに含まれる元素を基板に導入するプラズマドーピング装置10であって、ラジカルの生成量を測定する測定手段50を備える構成とする。
(もっと読む)
熱処理装置及び熱処理方法
【課題】基板を基板保持具に搭載して縦型熱処理炉に搬入し、熱処理を行う熱処理装置において、縦型熱処理炉からアンロードされた基板保持具に搭載された基板を速やかに降温させること。
【解決手段】前面から、当該前面に対向する後面の気流形成用の排気口63aに向って横方向の気流が形成されたローディングエリアS2内にて、熱処理炉2の下方側のアンロード位置におけるウエハボート3Aと前記排気口63aとの間に、アンロードにより高温に加熱された雰囲気を吸引排気するための熱排気用の排気口71が形成された排気ダクト7B,7Cを設ける。アンロードされた高温状態のウエハボート3A近傍の雰囲気は排気ダクト7B,7Cから排気されるので、上方側への熱拡散が抑えられ、横方向の気流がウエハボート3A及びウエハ群に供給されて、熱処理後のウエハを速やかに降温させることができる。
(もっと読む)
熱処理炉およびそのライナー
【課題】ガス排出路の下流端に堆積した材料の逆流の問題が克服または軽減される熱処理炉と、この逆流の問題を克服または軽減するように従来の熱処理炉に(場合によっては本来設置されていたライナーの交換品として)設置されうるライナーとを提供する。
【解決手段】中心軸を有する略ベルジャー形の外側反応管と、複数の基板を保持したウェーハボートを収容するための開端式内側反応管とを備える熱処理炉であって、内側反応管は外側反応管内にほぼ同軸に配設され、これにより内側反応管の外壁と外側反応管の内壁との間にガス流路が画成され、内側反応管の外壁と外側反応管の内壁の少なくとも一方に、当該壁からガス流路内に半径方向に突出する流れデフレクタが設けられる熱処理炉。
(もっと読む)
レーザドーピング方法および該方法に基づいて製造された半導体基板
【課題】 レーザを照射することによって形成されるリッジに伴う太陽電池の性能の低下を軽減させるレーザドーピング方法を提供する。
【解決手段】 半導体基板の表面にドーパントを接触させる接触工程と、半導体基板の表面の第1照射領域にレーザ光を照射する第1照射工程と、第1照射領域に形成されたリッジを含んだ第2照射領域を定め、当該第2照射領域にレーザ光を照射する第2照射工程とを有する、レーザ光を照射してドーパントをドープするレーザドーピング方法により解決する。
(もっと読む)
51 - 60 / 772
[ Back to top ]