アミン化合物とアクセプタ性化合物とを含む組成物
【課題】有機電界発光素子の材料として用いた場合、正孔注入性及び素子寿命が優れた組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）：
（式中、Ａ環、Ｂ環及びＣ環は、単環の芳香環又は縮合した芳香環を表し、Ｒ1及びＲ4は、１価の基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6は、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1及びＲ4は、置換基を有していてもよい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基は、置換基を有していてもよい。）で表される化合物、その残基を有する化合物、又は繰り返し単位を含む化合物と、アクセプタ性化合物とを含む組成物。
【解決手段】下記式（１）：
（式中、Ａ環、Ｂ環及びＣ環は、単環の芳香環又は縮合した芳香環を表し、Ｒ1及びＲ4は、１価の基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6は、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1及びＲ4は、置換基を有していてもよい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基は、置換基を有していてもよい。）で表される化合物、その残基を有する化合物、又は繰り返し単位を含む化合物と、アクセプタ性化合物とを含む組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミン化合物とアクセプタ性化合物とを含む組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
アミン化合物とアクセプタ性化合物とを含む組成物は、有機電界発光素子の材料として有用であり、種々検討されている。その具体例としては、トリアリールアミン系ポリマーと２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンとの組成物（特許文献１）、トリフェニルアミンと２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンとの組成物（特許文献２）等が挙げられる。
【０００３】
【特許文献１】特表２００５−５３１９１５号公報
【特許文献２】特開２００７−２０８１０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記組成物は、有機電界発光素子の材料として用いても、正孔注入性、素子寿命が十分ではない。
【０００５】
そこで、本発明は、有機電界発光素子の材料として用いた場合、正孔注入性及び素子寿命が優れた組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は第一に、下記式（１）：
（式中、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に、単環の芳香環又は縮合した芳香環を表し、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に、１価の基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1及びＲ4は、置換基を有していてもよい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基は、置換基を有していてもよい。）
で表される化合物、その残基を有する化合物、又は下記式（２）：
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、前記と同じ意味を有する。但し、Ａ環及びＣ環は、それぞれ結合手を有する。）
で表される繰り返し単位を含む化合物と、アクセプタ性化合物とを含む組成物、並びにこの組成物を用いてなる層を有する有機電界発光素子を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の組成物は、有機電界発光素子の材料（特には、バッファ層の材料）として用いた場合、正孔注入性及び素子寿命が優れたものである。したがって、本発明の組成物は、有機電界発光素子の材料として特に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明を詳細に説明する。
＜組成物＞
本発明の組成物は、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、又は前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物と、アクセプタ性化合物とを含むものである。前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物、アクセプタ性化合物は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０００９】
−式（１）の説明−
前記式（１）において、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に、単環の芳香環又は縮合した芳香環を表す。また、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ置換基を有していてもよい。
【００１０】
このような芳香環としては、単環の芳香環、縮合した芳香環等が挙げられる。前記単環の芳香環としては、例えば、ベンゼン環等が挙げられる。前記縮合した芳香環としては、例えば、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、ペリレン環、テトラセン環、ペンタセン環、フルオレン環等の芳香族炭化水素環；ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、チオフェンオキシド環、ベンゾチオフェンオキシド環、ジベンゾチオフェンオキシド環、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、ジベンゾピロール環、シロール環、ベンゾシロール環、ジベンゾシロール環、ボロール環、ベンゾボロール環、ジベンゾボロール環等の複素芳香環が挙げられるが、耐熱性、蛍光強度、素子特性等の観点から、芳香族炭化水素環が好ましい。前記芳香環としては、置換基を有していてもよい単環の芳香環が特に好ましい。
【００１１】
また、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基が挙げられる。
【００１２】
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００１３】
前記アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。このようなアルキル基の炭素数は、通常１〜３０程度であり、有機溶媒への溶解性の観点から、好ましくは３〜１５程度である。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基が好ましい。
【００１４】
前記アルコキシ基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。このようなアルコキシ基の炭素数は、通常１〜３０程度であり、有機溶媒への溶解性の観点から、好ましくは３〜１５程度である。このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、メトキシメチルオキシ基、２−メトキシエチルオキシ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基が好ましい。
【００１５】
前記アルキルチオ基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。このようなアルキルチオ基の炭素数は、通常１〜３０程度であり、有機溶媒への溶解性の観点から、好ましくは３〜１５程度である。このようなアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、３，７−ジメチルオクチルチオ基、ラウリルチオ基、トリフルオロメチルチオ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、デシルチオ基、３，７−ジメチルオクチルチオ基が好ましい。
【００１６】
前記アリール基は、芳香族炭化水素から水素原子１個を除いた原子団であり、縮合環をもつもの、独立したベンゼン環又は縮合環２個以上が直接又はビニレン等の基を介して結合したものも含まれる。このようなアリール基の炭素数は、通常６〜６０程度であり、好ましくは６〜３０程度である。このようなアリール基としては、例えば、フェニル基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル基（Ｃ1〜Ｃ12は、Ｃ1〜Ｃ12の直後に示す有機基の炭素数（ここでは、アルコキシフェニル基のうちのアルコキシ基中の炭素数）が１〜１２であることを示す。以下も同様である。）、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル基が好ましい。また、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル基としては、例えば、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ｉ−プロピルオキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ｉ−ブトキシフェニル基、ｓ−ブトキシフェニル基、ｔ−ブトキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、ヘプチルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、２−エチルヘキシルオキシフェニル基、ノニルオキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、３，７−ジメチルオクチルオキシフェニル基、ラウリルオキシフェニル基が挙げられる。さらに、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル基としては、例えば、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、プロピルフェニル基、メシチル基、メチルエチルフェニル基、ｉ−プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ｉ−ブチルフェニル基、ｓ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、イソアミルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基が挙げられる。
【００１７】
前記アリールオキシ基の炭素数は、通常６〜６０程度であり、好ましくは６〜３０程度である。このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェノキシ基が好ましい。また、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェノキシ基としては、例えば、メトキシフェノキシ基、エトキシフェノキシ基、プロピルオキシフェノキシ基、ｉ−プロピルオキシフェノキシ基、ブトキシフェノキシ基、ｉ−ブトキシフェノキシ基、ｓ−ブトキシフェノキシ基、ｔ−ブトキシフェノキシ基、ペンチルオキシフェノキシ基、ヘキシルオキシフェノキシ基、シクロヘキシルオキシフェノキシ基、ヘプチルオキシフェノキシ基、オクチルオキシフェノキシ基、２−エチルヘキシルオキシフェノキシ基、ノニルオキシフェノキシ基、デシルオキシフェノキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシフェノキシ基、ラウリルオキシフェノキシ基が挙げられる。さらに、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェノキシ基としては、例えば、メチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、プロピルフェノキシ基、１,３,５−トリメチルフェノキシ基、メチルエチルフェノキシ基、ｉ−プロピルフェノキシ基、ブチルフェノキシ基、ｉ−ブチルフェノキシ基、ｓ−ブチルフェノキシ基、ｔ−ブチルフェノキシ基、ペンチルフェノキシ基、イソアミルフェノキシ基、ヘキシルフェノキシ基、ヘプチルフェノキシ基、オクチルフェノキシ基、ノニルフェノキシ基、デシルフェノキシ基、ドデシルフェノキシ基が挙げられる。
【００１８】
前記アリールチオ基の炭素数は、通常６〜６０程度であり、好ましくは６〜３０程度である。このようなアリールチオ基としては、例えば、フェニルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基が挙げられる。これらの中でも、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニルチオ基が好ましい。
【００１９】
前記アリールアルキル基の炭素数は、通常７〜６０程度であり、好ましくは７〜３０程度である。このようなアリールアルキル基としては、例えば、フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、１−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、２−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基が好ましい。
【００２０】
前記アリールアルコキシ基の炭素数は、通常７〜６０程度であり、好ましくは７〜３０程度である。このようなアリールアルコキシ基としては、例えば、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基、フェニルブトキシ基、フェニルペンチロキシ基、フェニルヘキシロキシ基、フェニルヘプチロキシ基、フェニルオクチロキシ基等のフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、１−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、２−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基が好ましい。
【００２１】
前記アリールアルキルチオ基の炭素数は、通常７〜６０程度であり、好ましくは７〜３０程度である。このようなアリールアルキルチオ基としては、例えば、フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、１−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、２−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基が好ましい。
【００２２】
前記アルケニル基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロピレニル基、２−プロピレニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、シクロヘキセニル基が挙げられる。また、このようなアルケニル基には、１，３−ブタジエニル基、シクロヘキサ−１，３−ジエニル基、１，３，５−ヘキサトリエニル基等のジエニル基やトリエニル基も含まれる。
【００２３】
前記アルキニル基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピレニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、シクロヘキシルエチニル基が挙げられる。また、このようなアルキニル基には、１，３−ブタジイニル基等のジイニル基も含まれる。
【００２４】
前記２置換アミノ基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び１価の複素環基からなる群から選択される２個の基で置換されたアミノ基が挙げられる。このような２置換アミノ基において、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、１価の複素環基はそれぞれ置換基を有していてもよい。また、このような２置換アミノ基の炭素数は、アルキル基等が有する置換基の炭素数を含めないで通常２〜６０程度、好ましくは２〜３０程度である。このような２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジ−２−エチルヘキシルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ジ−３，７−ジメチルオクチルアミノ基、ジラウリルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ（Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル）アミノ基、ジ（Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル）アミノ基、ジ−１−ナフチルアミノ基、ジ−２−ナフチルアミノ基、ジペンタフルオロフェニルアミノ基、ジピリジルアミノ基、ジピリダジニルアミノ基、ジピリミジルアミノ基、ジピラジルアミノ基、ジトリアジルアミノ基、ジ（フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル）アミノ基ジ（Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル）アミノ基が挙げられる。
【００２５】
前記３置換シリル基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び１価の複素環基からなる群から選択される３個の基で置換されたシリル基が挙げられる。このような３置換シリル基の炭素数は通常３〜９０程度、好ましくは３〜４５程度である。なお、このような３置換シリル基において、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、１価の複素環基は置換基を有していてもよい。このような３置換シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ−ｉ−プロピルシリル基、ジメチル−ｉ−プロピリシリル基、ジエチル−ｉ−プロピルシリル基、ｔ−ブチルシリルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、２−エチルヘキシル−ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、３，７−ジメチルオクチル−ジメチルシリル基、ラウリルジメチルシリル基、フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、１−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、２−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−ｐ−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基が挙げられる。
【００２６】
前記アシル基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロベンゾイル基が挙げられる。
【００２７】
前記アシルオキシ基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基が挙げられる。
【００２８】
前記イミン残基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなイミン残基としては、例えば、以下に示す構造式で表される基が挙げられる。なお、以下に示す構造式において、波線はｓｙｎ又はａｎｔｉを表すが、ｓｙｎであってもａｎｔｉであってもよい。
（式中、Ｍｅはメチル基を表す。以下、同様である。）
【００２９】
前記アミド基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアミド基としては、例えば、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基、ジペンタフルオロベンズアミド基が挙げられる。
【００３０】
前記酸イミド基としては、酸イミドからその窒素原子に結合した水素原子を除いて得られる残基が挙げられる。このような酸イミド基の炭素数は、通常４〜３０程度であり、好ましくは４〜１５程度である。このような酸イミド基としては、例えば、以下に示す構造式で表される基が挙げられる。
【００３１】
前記１価の複素環基は、複素環式化合物から水素原子１個を除いた残りの原子団をいう。このような１価の複素環基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。なお、このような１価の複素環基において、複素環は置換基を有していてもよいが、炭素数には、複素環上の置換基の炭素数は含まれない。また、ここで複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する原子が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、燐、硼素等のヘテロ原子を環内に含むものをいう。このような１価の複素環基としては、例えば、チエニル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルピリジル基、ピペリジル基、キノリル基、イソキノリル基が挙げられる。これらの中でも、１価の芳香族複素環基が好ましく、特に、チエニル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチエニル基、ピリジル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルピリジル基
が好ましい。
【００３２】
前記置換カルボキシル基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は１価の複素環基で置換されたカルボキシル基が挙げられる。このような置換カルボキシル基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このような置換カルボキシル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、シクロヘキシロキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシロキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシロキシカルボニル基、３，７−ジメチルオクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、ペンタフルオロエトキシカルボニル基、パーフルオロブトキシカルボニル基、パーフルオロヘキシルオキシカルボニル基、パーフルオロオクチルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基が挙げられる。なお、このような置換カルボキシル基において、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、１価の複素環基は置換基を有していてもよい。また、置換カルボキシル基の炭素数にはアルキル基等の有する置換基の炭素数は含まれない。
【００３３】
前記ヘテロアリールオキシ基（即ち、Ｑ1−Ｏ−で表される基（ここで、Ｑ1は１価の複素環基を表す））の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。なお、このようなヘテロアリールオキシ基において、１価の複素環基は置換基を有していてもよいが、ヘテロアリールオキシ基の炭素数には、１価の複素環基上の置換基の炭素数は含まれない。このようなヘテロアリールオキシ基としては、例えば、チエニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチエニルオキシ基、ピロリルオキシ基、フリルオキシ基、ピリジルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルピリジルオキシ基、イミダゾリルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、トリアゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、チアゾールオキシ基、チアジアゾールオキシ基が挙げられる。また、Ｑ1としては１価の芳香族複素環基が好ましい。
【００３４】
前記ヘテロアリールチオ基（即ち、Ｑ2−Ｓ−で表される基（ここで、Ｑ2は１価の複素環基を表す））の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。なお、このようなヘテロアリールチオ基において、１価の複素環基は置換基を有していてもよいが、ヘテロアリールチオ基の炭素数には、１価の複素環基上の置換基の炭素数は含まれない。このようなヘテロアリールチオ基としては、チエニルメルカプト基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチエニルメルカプト基、ピロリルメルカプト基、フリルメルカプト基、ピリジルメルカプト基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルピリジルメルカプト基、イミダゾリルメルカプト基、ピラゾリルメルカプト基、トリアゾリルメルカプト基、オキサゾリルメルカプト基、チアゾールメルカプト基、チアジアゾールメルカプト基が挙げられる。また、Ｑ2としては１価の芳香族複素環基が好ましい。
【００３５】
前記式（１）において、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に１価の基を表す。
【００３６】
本明細書において、１価の基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、３置換シリル基、アシル基、１価の複素環基、置換カルボキシル基等が挙げられる。
【００３７】
これらのアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、３置換シリル基、アシル基、１価の複素環基及び置換カルボキシル基としては、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として説明し例示したものと同様のものが挙げられる。
【００３８】
化合物の安定性の観点から、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は１価の複素環基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましい。
【００３９】
前記式（１）において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。
【００４０】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアルキル基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよいが置換基を有しない。このようなアルキル基の炭素数は、通常１〜３０程度であり、有機溶媒への溶解性の観点から、好ましくは３〜１５程度である。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基が好ましい。
【００４１】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアリール基、アリールアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基としては、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
【００４２】
前記式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、置換基を有していてもよいアリール基であることが特に好ましい。
【００４３】
前記式（１）で表される化合物の具体例を以下に挙げる。
【００４４】
前記式（１）で表される化合物の残基を有する化合物とは、前記式（１）で表される化合物における水素原子を１又は２以上取り除いた残りの原子団である残基を有する化合物である。
【００４５】
前記式（１）で表される化合物の残基を有する化合物の具体例を以下に挙げる。
【００４６】
−式（２）の説明−
前記式（２）において、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に単環の芳香環又は縮合した芳香環を表し、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に１価の基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。なお、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、前記式（１）の項で説明し例示したものと同様である。但し、Ａ環及びＣ環上に結合手を有する。なお、前記結合手の位置は、得られる化合物の導電性の観点から、分子内の共役がつながる位置であることが好ましい。
【００４７】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、前記式（２）で表される繰り返し単位のみからなる化合物であっても、その他の繰り返し単位を含む化合物であってもよい。ここで、「繰り返し単位」とは、分子中に２以上繰り返して含まれる単位を意味する。
【００４８】
前記式（２）で表される繰り返し単位の具体例を以下に挙げる。
【００４９】
さらに、有機電界発光素子に用いた時に寿命等の素子特性に優れるという観点から、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、更に下記式（３）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
（式中、Ａｒ1はアリーレン基又は２価の複素環基を表す。Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、１価の複素環基又はシアノ基を表す。ｎは０又は１を表す。Ａｒ1、Ｒ7及びＲ8は、置換基を有していてもよい。）
【００５０】
このようなＡｒ1におけるアリーレン基は、炭素数が通常６〜６０であり、好ましくは６〜２０である。このようなＡｒ1におけるアリーレン基としては、例えば、フェニレン基（例えば、下式１〜３）、ナフタレンジイル基（例えば、下式４〜１３）、アントラセニレン基（例えば、下式１４〜１９）、ビフェニレン基（例えば、下式２０〜２５）、トリフェニレン基（例えば、下式２６〜２８）、縮合環化合物基（例えば、下式２９〜３８）が挙げられる。なお、以下に示す式中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロアリールオキシ基又はヘテロアリールチオ基を表す。また、アリーレン基の炭素数には、Ｒが置換基である場合、その炭素数は含まれない。なお、Ｒは水素原子又は置換基を表し、該置換基は、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として説明し例示したものと同じ意味を有し、以下、同様である。
【００５１】
【００５２】
また、本明細書において、２価の複素環基とは、複素環式化合物から水素原子２個を除いた残りの原子団をいう。このような２価の複素環基の炭素数は、通常４〜６０、好ましくは４〜２０である。ここで、複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する原子が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、リン、ホウ素等のヘテロ原子を環内に含むものをいう。
【００５３】
このような２価の複素環基としては、例えば、以下のものが挙げられる。なお、以下に示す式中、Ｒは、前記と同じ意味を有する。
ヘテロ原子として窒素を含む２価の複素環基として、例えば、ピリジン−ジイル基（例えば、下式３９〜４４）、ジアザフェニレン基（例えば、下式４５〜４８）、キノリンジイル基（例えば、下式４９〜６３）、キノキサリンジイル基（例えば、下式６４〜６８）、アクリジンジイル基（例えば、下式６９〜７２）、ビピリジルジイル基（例えば、下式７３〜７５）、フェナントロリンジイル基（例えば、下式７６〜７８）が挙げられる。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含みフルオレン構造を有する基として、例えば、下式７９〜９８で表される基が挙げられる。これらの中でも、窒素原子を含む下式８２〜８４で表されるカルバゾールやトリフェニルアミンジイル基等の芳香族アミンモノマーを有していることが望ましい。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含む５員環複素環基として、例えば、下式９４〜９８で表される基が挙げられる。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含む５員環縮合複素環基として、例えば、下式９９〜１０９で表される基、ベンゾチアジアゾール−４，７−ジイル基、ベンゾオキサジアゾール−４，７−ジイル基が挙げられる。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含む５員環複素環基でそのヘテロ原子のα位で結合し２量体やオリゴマーになっている基として、例えば、下式１１０〜１１１で表される基が挙げられる。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含む５員環複素環基でそのヘテロ原子のα位でフェニル基に結合している基として、例えば、下式１１２〜１１８で表される基が挙げられる。
ヘテロ原子として窒素、酸素、硫黄等を含む縮合した複素環基とベンゼン環又は単環性の複素環基とが結合した３環性の基として、例えば、下式１２０〜１２５で表される基が挙げられる。
【００５４】
（式中、Ｒは水素原子又は置換基を表す。）
【００５５】
前記式（３）中、Ｒ7、Ｒ8で表されるアルキル基、アリール基、１価の複素環基は、前記Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として例示し説明したものと同じものが挙げられる。
【００５６】
前記式（３）で表される繰り返し単位において、ｎが０であること、Ａｒ1がアリーレン基であることが好ましい。前記式（３）で表される繰り返し単位としては、下記式（４−１）：
（式中、Ｃ4環及びＣ5環はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表し、２つの結合手はそれぞれＣ4環又はＣ5環上に存在し、Ｒｗ及びＲｘはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基又はヘテロアリールチオ基を表す。Ｒｗ及びＲｘは、置換基を有していてもよい。）
で表されるものであることが好ましい。
【００５７】
芳香族炭化水素環とは、ベンゼン環又は縮合した芳香族炭化水素環を意味する。このような芳香族炭化水素環の炭素数は６〜３０程度、好ましくは６〜１５程度である。なお、芳香族炭化水素環の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。このような芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フェナレン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、ピレン環、クリセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ビフェニレン環、フルオレン環、アセナフチレン環が挙げられる。
【００５８】
Ｒｗ及びＲｘにおけるアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基としては、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として説明し例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒｗ及びＲｘは、アルキル基であることが好ましい。
【００５９】
前記式（４−１）で表される繰り返し単位としては、下式１Ａ−０〜１Ａ−１３で表される繰り返し単位が挙げられる。また、このような繰り返し単位は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基及びハロゲン原子等からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有していてもよい。なお、下式１Ａ−０〜１Ａ−１３において、芳香族炭化水素における結合手は任意の位置をとり得る。
【００６０】
【００６１】
これらの繰り返し単位の中でも、式１Ａ−０、１Ａ−１、１Ａ−２、１Ａ−３で表される繰り返し単位が好ましく、式１Ａ−０で表される繰り返し単位が特に好ましい。
【００６２】
また、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、耐熱性の向上、電荷輸送性改善の観点から、下記式（５−１）、（５−２）及び（５−３）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種類の繰り返し単位を更に含むことが好ましく、２種類以上の繰り返し単位を含むことがより好ましい。
（式中、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5はそれぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表す。Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8はそれぞれ独立に、アリール基又は１価の複素環基を表す。Ｂ及びｂはそれぞれ独立に、０又は正の整数を表す。Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ5、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8は置換基を有していてもよい。）
（式中、Ｄ環及びＥ環はそれぞれ独立に、芳香環を表す。Ｙ1は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。Ｒ20は１価の基を表す。Ｄ環及びＥ環は、それぞれ結合手を有する。Ｄ環、Ｅ環、Ｙ1及びＲ20は、置換基を有していてもよい。）
（式中、Ｙ2は−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。）
【００６３】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位において、素子寿命等の素子特性の観点から、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5がそれぞれ独立にアリーレン基であり、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8がそれぞれ独立に、アリール基であるものが好ましい。また、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5がそれぞれ独立に、無置換のフェニレン基、無置換のビフェニレン基、無置換のナフチレン基、又は無置換のアントラセンジイル基であるものが好ましい。さらに、有機溶媒への溶解性、素子特性等の観点から、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8がそれぞれ独立に、置換基を有するアリール基であるものが好ましく、３つ以上の置換基を有するアリール基であるものがより好ましい。さらに、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8が３つ以上の置換基を有するフェニル基、３つ以上の置換基を有するナフチル基、又は３つ以上の置換基を有するアントラセニル基であるものがより好ましく、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8が３つ以上の置換基を有するフェニル基であるものがさらにより好ましい。
【００６４】
これらの繰り返し単位の中でも、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8が、それぞれ独立に下記式（５−４）で表される基であり、かつＢ＋ｂ≦３であるものが好ましく、Ｂ＋ｂ＝１であるものがより好ましく、Ｂ＝１、ｂ＝０であるものが特に好ましい。
【００６５】
前記式（５−４）において、Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｇはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、１価の複素環基又はハロゲン原子を表す。また、Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｇに含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。さらに、Ｒｈ及びＲｉはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、１価の複素環基又はハロゲン原子を表す。また、Ｒｈ及びＲｉに含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。
【００６６】
また、前記式（５−４）において、Ｒｅ及びＲｆがそれぞれ独立に、炭素数３以下のアルキル基、炭素数３以下のアルコキシ基、炭素数３以下のアルキルチオ基であり、かつＲgが炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基であることが好ましい。
【００６７】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位において、Ａｒ3が下記式（５−５）又は（５−６）で表される基であることが好ましい。
【００６８】
前記式（５−５）及び（５−６）において、構造中に含まれるベンゼン環は、無置換のものが好ましいが、それぞれ独立に１個以上４個以下の置換基を有していてもよい。それら置換基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。また、このようなベンゼン環に他の芳香族炭化水素環又は複素環が縮合していてもよい。
【００６９】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位としては、下記式１３３〜１４０で表されるものが挙げられる。
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を有する。）
【００７０】
前記式におけるＲがアルキル基を含む置換基である場合においては、高分子化合物の有機溶媒への溶解性を高めるために、炭素数が３以上のアルキル基が含まれることが好ましい。さらに、上記式１３３〜１４０で表される構造の中でも、発光波長を調節するという観点から、上記式１３３、１３４、１３７で表される構造が好ましい。
【００７１】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位のより好ましい例としては、下式１４１〜１４３で表されるものが挙げられる。
（式中、Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒｇ、Ｒｈ及びＲｉは、前記と同じ意味を有する。）
【００７２】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位の特に好ましい例としては、耐熱性等の観点から、下記式（２２）〜（２４）で表されるものが挙げられる。
【００７３】
前記式（５−２）において、Ｄ環及びＥ環はそれぞれ独立に、芳香環を表す。Ｄ環及びＥ環上には置換基を有していてもよい。前記芳香環は、化合物の安定性の観点から、好ましくは芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
【００７４】
前記式（５−２）において、Ｙ1は、−ＣＨ2−であることが好ましい。また、Ｒ20で表される１価の基は、前記Ｒ1、Ｒ4で表される１価の基として説明し例示したものと同じである。
【００７５】
前記式（５−２）で表される繰り返し単位としては、下記式（５−７）で表されるものが挙げられる。
（式中、Ｙ1及びＲ20は、前記と同じ意味を有する。）
【００７６】
前記式（５−３）で表される繰り返し単位の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【００７７】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物の中でも、薄膜にした時の電荷輸送性、有機電界発光素子に用いた時に寿命等の素子特性の観点から、共役系高分子であるものが好ましい。ここで、共役系高分子とはポリマーの主鎖骨格に沿って非局在π電子対が存在している高分子を意味する。この非局在π電子対としては、２重結合の代わりに不対電子又は孤立電子対が共鳴に加わる場合もある。
【００７８】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物においては、発光特性や電荷輸送性を損なわない範囲で、非共役単位で連結されていてもよいし、繰り返し単位に前記非共役単位が含まれていてもよい。前記非共役単位としては、例えば、以下に示す式で表される構造、及び以下に示す式で表される構造のうち２つ以上を組み合わせた構造が挙げられる。
（式中、Ｒは前記と同じ意味を有する。Ａｒは芳香族炭化水素環又は複素環を表す。）
【００７９】
また、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、ランダム、ブロック又はグラフト共重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有する高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体であってもよい。蛍光又はりん光の量子収率の高い化合物を得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性を帯びたランダム共重合体やブロック又はグラフト共重合体が好ましい。さらに、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物には、主鎖に枝分かれがあり、末端部が３つ以上あるものやデンドリマーも含まれる。
【００８０】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物において、全繰り返し単位に対して、前記式（２）で表される繰り返し単位の割合が、１０〜１００モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましい。
【００８１】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物の例を以下に挙げる。
（式中、ｎは、各繰り返し単位のモル比を表す数である。）
【００８２】
本発明の組成物において、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、及び前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物の中でも、塗布法により有機電界発光素子を作製することができるので、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物が好ましい。
【００８３】
前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物は、分子量が３００〜５０００であることが好ましく、１０００〜３０００であることがより好ましく、１０００〜２０００であることがさらに好ましい。
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、ポリスチレン換算の数平均分子量が２×１０3以上であることが好ましく、２×１０3〜１×１０8であることがより好ましく、１×１０4〜１×１０6であることが特に好ましい。
【００８４】
−アクセプタ化合物−
前記アクセプタ性化合物としては、キノン系化合物、遷移金属錯塩系化合物、有機閉殻陰イオン性化合物、シアノ基とニトロ基を有するフルオレン系化合物、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル、ブロマニル等が挙げられる。これらのアクセプタ性化合物は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。なお、以下の説明において、酸化還元半波電位Ｅ11/2を、単に「Ｅ11/2」と記載することがある。
【００８５】
前記キノン系化合物としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン誘導体、テトラシアノキノジメタン誘導体、１，４−ナフトキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体等が挙げられるが、酸化還元半波電位Ｅ11/2の値の大きさの観点から、ｐ−ベンゾキノン誘導体、テトラシアノキノジメタン誘導体が好ましい。
【００８６】
前記ｐ−ベンゾキノン誘導体としては、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）[Ｅ11/2＝＋０．５６（Ｖ）]、２，３−ジブロモ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＢＤＱ）[Ｅ11/2＝＋０．５３（Ｖ）]、２，３−ジヨード−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＩＤＱ）[Ｅ11/2＝＋０．５１（Ｖ）]、２，３−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（Ｑ（ＣＮ）2）[Ｅ11/2＝＋０．３４（Ｖ）]等が例示される。
【００８７】
前記テトラシアノキノジメタン誘導体としては、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．６０（Ｖ）]、２，３，５−トリフルオロメチル−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（ＣＦ３−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．４３（Ｖ）]、２，５−ジフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（Ｆ２−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．４０（Ｖ）]、２−モノフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（Ｆ−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．３２（Ｖ）]、１１，１１，１２，１２−テトラシアノナフト−２，６−キノジメタン（ＴＮＡＰ）[Ｅ11/2＝＋０．２６（Ｖ）]、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン （ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．２２（Ｖ）]、デシル−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（Ｃ１０−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．２０（Ｖ）]等が例示される。
【００８８】
前記１，４−ナフトキノン誘導体としては、２，３−ジシアノ−５−ニトロ−１，４−ナフトキノン（ＤＣＮＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．３８（Ｖ）]、２，３−ジシアノ−１，４−ナフトキノン（ＤＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．２１（Ｖ）]等が例示される。
【００８９】
前記ジフェノキノン誘導体としては、３，３’，５，５’−テトラブロモ-ジフェノキノン（ＴＢＤＱ）等が例示される。
【００９０】
前記遷移金属錯塩系化合物としては、例えば、（ＴＰＰ）2Ｐｄ（ｄｔｏ）2［Ｅ11/2＝＋１．２０（Ｖ）］、（ＴＰＰ）2Ｐｔ（ｄｔｏ）2［Ｅ11/2＝＋０．９０（Ｖ）］、（ＴＰＰ）2Ｎｉ（ｄｔｏ）2［Ｅ11/2＝＋０．５７（Ｖ）］、（ＴＰＰ）2Ｃｕ（ｄｔｏ）2［Ｅ11/2＝＋０．０８（Ｖ）］、（ＴＢＡ）2Ｃｕ（ｏｘ）2［Ｅ11/2＝＋１．２８（Ｖ）］等が挙げられるが、酸化還元半波電位Ｅ11/2の値の大きさの観点から、（ＴＰＰ）2Ｐｄ（ｄｔｏ）2、（ＴＢＡ）2Ｃｕ（ｏｘ）2が好ましい。
【００９１】
前記有機閉殻陰イオン性化合物としては、例えば、ピクラート、トシラート等が挙げられる。
【００９２】
前記シアノ基とニトロ基を有するフルオレン系化合物としては、例えば、９−ジシアノメチレン−２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン（ＤＴＥＮＦ）[Ｅ11/2＝＋０．２３（Ｖ）]、９−ジシアノメチレン−２，４，７−トリニトロ−フルオレノン（ＤＴＮＦ）[Ｅ11/2＝＋０．０１（Ｖ）]、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン（ＴＥＮＦ）[Ｅ11/2＝−０．１３（Ｖ）]、２，４，７−トリニトロフルオレノン（ＴＮＦ）[Ｅ11/2＝−０．４２（Ｖ）]等が挙げられるが、酸化還元半波電位Ｅ11/2の値の大きさの観点から、９−ジシアノメチレン−２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン（ＤＴＥＮＦ）が好ましい。
【００９３】
前記アクセプタ性化合物としては、酸化還元半波電位Ｅ11/2の値の大きさの観点から、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン、９−ジシアノメチレン−２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル及びブロマニルからなる群から選ばれるものが好ましく、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノンがより好ましい。
【００９４】
前記アクセプタ性化合物は、飽和カロメル電極（ＳＣＥ）により、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレートを０．１ｍｏｌ／Ｌ支持塩として含むアセトニトリル溶媒において、温度２０℃、電圧挿引速度１０ｍＶ／ｓの条件下で測定される酸化還元半波電位Ｅ11/2が、Ｅ11/2≧＋０．２０[Ｖ]を満たす化合物であることが、陽極からの正孔注入性の観点から好ましく、＋１．５０[Ｖ]≧Ｅ11/2≧＋０．２０[Ｖ]を満たす化合物であることがより好ましく、＋１．３０[Ｖ]≧Ｅ11/2≧＋０．２０[Ｖ]を満たす化合物であることが特に好ましい。
【００９５】
本発明の組成物において、前記アクセプタ性化合物の割合は、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、又は前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物１００重量部に対して、通常、０．１〜１００重量部であり、好ましくは１０〜５０重量部であり、より好ましくは１０〜３０重量部である。
【００９６】
本発明の組成物は、その他の成分を含んでいてもよい。
【００９７】
＜有機電界発光素子＞
本発明の組成物は、有機電界発光素子の作製に用いることができる。本発明の組成物を有機電界発光素子の作製に用いる場合、バッファ層等の層の材料として用いることが好ましい。また、本発明の組成物を用いて薄膜を形成させ、それをバッファ層等の層として用いてもよい。ここで、バッファ層とは、陽極と発光層との間に配置され、隣接する層と電気的に通じている層である。
【００９８】
前記薄膜の平均膜厚は、通常、０．５〜５００ｎｍであり、好ましくは２０〜７０ｎｍである。
【００９９】
本発明の組成物を用いて薄膜を形成させる方法としては、例えば、真空蒸着法、レーザー転写法等の乾式法；キャスティング法、スピンコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット法、キャピラリコート法、ノズルコート法、スプレーコート法等の湿式法が挙げられるが、本発明の組成物が溶解又は分散している溶液を用いる成膜方法であれば、この限りではない。ここで、膜形成手法の簡便さの観点から、湿式法が好ましい。
【０１００】
前記湿式法では、塗布液を調製し、該塗布液を所望の層（又は電極）上に、塗布・乾燥することで、前記薄膜を形成させることができる。塗布液中にはバインダーとして樹脂を含有させてもよく、樹脂は溶媒に溶解状態とすることも、分散状態とすることもできる。なお、前記溶媒には、酸化防止剤、粘度調整剤等を含有させてもよい。
【０１０１】
前記樹脂としては、非共役系高分子、共役系高分子を使用することができる。
前記非共役系高分子の樹脂としては、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン、ＡＢＳ樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチルセルロース、ポリアミド、フェノキシ樹脂、ケトン樹脂、炭化水素樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）が挙げられる。
前記共役系高分子の樹脂としては、パラフェニレン樹脂、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリオキサジアゾール、ポリアゾメチンが挙げられる。
【０１０２】
前記塗布液に用いられる溶媒は、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物、及び前記アクセプタ性化合物を溶解・分散することができる安定なものであればよい。このような溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等の有機塩素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ノルマルヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等が挙げられる。これらの溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０１０３】
前記塗布膜の乾燥温度は、使用した溶媒の沸点以上であることが好ましい。
【０１０４】
本発明の組成物を薄膜の材料として用い、その薄膜をバッファ層として使用した有機電界発光素子の構造としては、以下の構造が例示されるが、好ましくは、陽極／バッファ層／発光層／電子注入層／陰極、陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極であり、より好ましくは、陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極である。
陽極／バッファ層／発光層／陰極
陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／陰極
陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
陽極／バッファ層／発光層／電子輸送層／陰極
陽極／バッファ層／発光層／電子注入層／陰極
陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
陽極／バッファ層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
【実施例】
【０１０５】
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。なお、数平均分子量、重量平均分子量は、以下の方法により測定した。
【０１０６】
数平均分子量及び重量平均分子量は、ＧＰＣ（島津製作所社製、商品名：ＬＣ−１０Ａｖｐ）によりポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量を求めた。測定する重合体は、約０．５重量％の濃度になるようテトラヒドロフランに溶解させ、ＧＰＣに５０μＬ注入した。ＧＰＣの移動相はテトラヒドロフランを用い、０．６ｍＬ／分の流速で流した。カラムは、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ（東ソー社製）２本とＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ２０００（東ソー製）１本を直列に繋げた。検出器には示差屈折率検出器（島津製作所製、商品名：ＲＩＤ−１０Ａ）を用いた。
【０１０７】
＜合成例１＞（化合物（Ａ−４）の合成）
−化合物（Ａ−１）の合成−
３００ｍｌの４口フラスコに、１，４−ジブロモベンゼン５．００ｇ、アントラニル酸メチル７．０５ｇを取り、脱水トルエン１００ｍｌを加え、１時間窒素バブリングした。その後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム０．１９ｇ、トリ（ｔ−ブチル）ホスフィンテトラフルオロボレート０．２４ｇ、及び炭酸セシウム１０．３６ｇを加え、７０℃で５時間加熱した後に、２０時間還流した。セライト２０ｇを敷いたグラスフィルターで熱時濾過し、フィルター上の残留物を酢酸エチルで洗浄した。次に、溶媒を留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、脱イオン水、飽和食塩水の順番で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。そして、溶媒を留去し、５．４９ｇの粗生成物を得た。また、水相を１００ｍｌのクロロホルムで３回抽出し、水、飽和食塩水の順番で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。その後、溶媒を留去し、更に４．００ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物を合わせ、トルエン３０ｍｌで再結晶し、下記式（Ａ−１）：
で表される化合物（Ａ−１）６．２８ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
APPI-MS, positive 377 （[M＋H]+、exact mass＝376）
・1H-NMR(300MHz,CDCl3)
δ3.91(6Ｈ, s), 6.72(2H, t),7.17-7.26(6H, ｍ), 7.31(2H, t), 7.96(2H, d), 9.42(2H, s)
・13C-NMR(300MHz,CDCl3)
δ52.1,111.8, 114.1, 117.1, 124.4, 131.9, 134.5, 136.9, 148.7, 169.3。
【０１０８】
−化合物（Ａ−２）の合成−
３００ｍｌの４口フラスコに、１−ブロモ−４−ｎ−ヘキシルベンゼン８．９８ｇを取り、窒素置換した。その後、９０ｍｌの脱水ＴＨＦに溶解し、−７８℃に冷却した後、１０分でｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍへキサン溶液）を滴下した。次に、２時間保温した後、化合物（Ａ−１）２．００ｇを２０ｍｌの脱水ＴＨＦに溶解させ、滴下した。その後、徐々に室温まで昇温し、５時間攪拌した後に、０℃にて１００ｍｌの水を滴下した。次いで、分液し、水相を１００ｍｌの酢酸エチルで抽出した。油相を水、飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を留去したところ、８．８６ｇの粗生成物を得た(赤橙色固体)。得られた粗生成物をヘキサン５０ｍｌで再結晶し、下記式（Ａ−２）：
で表される化合物（Ａ−２）４．１４ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
ESI, positive 999 （[M＋K]+、exact mass＝960）
・1H-NMR(300MHz,CDCl3)
δ0.88(12H,t), 1.30(24H, m), 1.60(8H, ｍ), 2.60(8H, ｔ), 4.74(2H, brs), 5.68 (2H, brs), 6.55-6.63(6H, m), 6.75(2H,m), 7.03-7.26(20H, m)
・13C-NMR(300MHz,CDCl3)
δ14.4,22.9, 29.3, 31.6, 32.0, 35.8, 82.4, 118.8, 120.2, 122.0, 127.9, 128.4, 130.3, 136.1, 137.7, 142.3, 143.3, 144.0。
【０１０９】
−化合物（Ａ−３）の合成−
３００ｍｌのナス型フラスコに、化合物（Ａ−２）８．００ｇを取り、窒素置換した。その後、８０ｍｌの酢酸に溶解させ、０℃に冷却した。２．８ｍｌの濃塩酸を滴下した後、室温に昇温し、５時間攪拌した後、再度０℃に冷却して濾過、水洗した。次に、トルエン２５０ｍｌに溶解させ、水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順番で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。その後、溶媒を留去したところ１３．７５ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物をトルエン５０ｍｌで再結晶し、下記式（Ａ−３）：
で表される化合物（Ａ−３）６．７８ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
ESI, positive 963 （[M＋K]+、exact mass＝924）
・1H-NMR(300MHz,THF-d8)
δ0.90(12H,t), 1.34(24H, m), 1.55-1.62(8H, ｍ), 2.56(8H, ｔ), 6.37(2H, s), 6.63-6.70(6H, m), 6.87(8H, d), 6.98-7.01(10H, m),7.87(2H, s)
・13C-NMR(300MHz,THF-d8)
δ13.7, 22.8, 29.5, 31.8, 32.0, 35.7, 56.2, 113.5, 115.2, 118.2, 126.8, 127.1, 127.3, 130.1, 130.4, 134.5, 140.4, 141.8, 144.6。
【０１１０】
−化合物（Ａ−４）の合成−
３００ｍｌの４口フラスコを窒素置換し、化合物（Ａ−３）９．９０ｇ、及び１−ブロモ−４−ｎ−ブチルベンゼンを４．９４ｇ取り、脱水トルエン１５０ｍｌに溶解させた。２０分間窒素バブリングした後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム０．０５ｇ、トリ（ｔ−ブチル）ホスフィンテトラフルオロボレート０．０３ｇ、及びナトリウム−ｔ−ブトキシド０．３０ｇを加え、１０時間還流した。その後、０℃まで冷却後、水１００ｍｌを加え、分液し、水相を１００ｍｌのトルエンで２回抽出した。そして、油相を合わせ、水、飽和食塩水で洗浄し、シリカゲル６０ｇを敷いたグラスフィルターで濾過した。その後、トルエンで洗浄した後、溶媒を留去し、１６．５２ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物にヘキサン５０ｍｌを加え結晶化し、メタノール５０ｍｌを加え、濾過した。得られた固体をヘキサン５０ｍｌで再結晶し、下記式（Ａ−４）：
で表される化合物（Ａ−４）１０．０９ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
ESI, positive 1218 （[M＋H]+、exact mass＝1217）
・1H-NMR(300MHz,THF-d8)
δ0.62(12H,t), 0.69(6H, t), 1.00-1.34--17(28H, m), 1.27-1.37(12H, ｍ), 2.26-2.35(12H, m), 5.67(2H, s), 5.93(2H, d), 6.38-6.47(8H, d), 6.56-6.61(10H, m), 6.64(8H, d), 6.79(6H, d)
・13C-NMR(300MHz,THF-d8)
δ15.5, 15.6, 24.6, 24.7, 31.3, 33.7, 33.9, 35.8, 37.6, 58.3, 116.0, 117.8, 121.2, 128.0, 129.1, 130.8, 138.5, 140.9, 142.2, 144.1, 145.0, 146.0。
【０１１１】
＜合成例２＞（化合物Ａの合成）
３００ｍｌのナス型フラスコに、化合物（Ａ−４）１０．０９ｇを取り、窒素置換した。その後、１００ｍｌのクロロホルムに溶解させ、０℃に冷却した。次に、２．８７ｇのＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）をＤＭＦ６ｍｌに溶解させた溶液を２０分で滴下した。その後、冷浴を外し、７時間攪拌後、０℃に冷却して０．２９ｇのＮＢＳを０．５ｍｌのＤＭＦに溶解し、滴下した。さらに、２．５時間攪拌後、水１００ｍｌを滴下し、分液し、水相をクロロホルムで抽出した。また、油相を水、飽和食塩水で洗浄した後、シリカゲル５０ｇを敷いたグラスフィルターを通して濾過し、得られた固体をトルエン洗浄した。その後、溶媒を留去したところ、１２．４８ｇの粗生成物を得た。水相及び油相から得られた粗生成物をヘキサン１８０ｍｌ、ヘキサン２００ｍｌの順番で再結晶し、下記式（Ａ）：
で表される化合物（Ａ）９．５５ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
APCI, positive 1346 （[M＋H]+、exact mass＝1345）
・1H-NMR(300MHz,THF-d8)
δ0.90(12H,t), 0.97(6H, t), 1.30-1.45(28H, m), 1.57-1.69(12H, m), 2.56-2.61(12H, m), 5.95(2H, s), 6.16(2H, brs), 6.70(4H, d), 6.76(8H, d), 7.01(8H, d), 7.02(2H, m), 7.05(2H, m), 7.12(4H, d)
・13C-NMR(300MHz,THF-d8)
δ15.5, 15.6, 24.6, 24.7, 31.3, 33.6, 33.9, 35.7, 37.4, 37.6, 117.7, 129.4, 130.3, 132.0, 138.5, 142.7, 144.5。
【０１１２】
＜合成例３＞（高分子化合物１の合成）
窒素雰囲気下、化合物（Ａ）１．０１ｇ、２，７−ビス（１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン０．４０ｇ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．５ｍｇ、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド（アルドリッチ社製、商品名：Ａｌｉｑｕａｔ３３６）０．１０ｇ、及びトルエン１５ｍｌを混合し、９０℃に加熱した。この反応溶液に１７．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液４．１ｍｌを滴下し、２時間還流させた。反応後、フェニルホウ酸１０ｍｇを加え、さらに４．５時間還流させた。次いで、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で３時間撹拌した。冷却後、水１０ｍｌで２回、３重量％酢酸水溶液１０ｍｌで２回、水１０ｍｌで２回洗浄し、得られた溶液をメタノール１２０ｍＬに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン２５ｍＬに溶解させ、シリカゲルの上に活性アルミナを敷いたカラムを通すことにより精製した。得られたトルエン溶液をメタノール１２０ｍｌに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させて、高分子化合物１を０．８９ｇ得た。高分子化合物１のポリスチレン換算の数平均分子量は１．０×１０5であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．０×１０5であった。なお、仕込み原料より、高分子化合物１は、下記式で表される繰り返し単位を含むものと推定される。
【０１１３】
＜合成例４＞（高分子化合物２の合成）
窒素雰囲気下、化合物（Ａ）１．０ｇ、ビス[１，５−シクロオクタジエン]ニッケル錯体０．５５ｇ、２，２’−ビピリジル０．３１ｇ、及びＴＨＦ３５ｍｌを混合し、６０℃で３時間、加熱還流した。室温まで冷却した後、この反応溶液をメタノール４０ｍｌおよびアンモニア水溶液２０ｍｌの混合溶液に滴下し、０．５時間室温で撹拌させた。析出した固体をろ取した後、減圧乾燥した。得られた粗生成物をトルエン５０ｍｌに溶解させた後、ラジオライトカラムに通液後、アルミナカラムクロマトグラフィーにより精製した。得られたトルエン溶液を塩酸水溶液、アンモニア水溶液およびイオン交換水で洗浄した。水相を除去した後、有機相をメタノール７０ｍｌに滴下し、室温で０．５時間撹拌した。得られた沈殿物をろ取し、乾燥させて、高分子化合物２を０．４７ｇ得た。
高分子化合物２のポリスチレン換算の数平均分子量は４．２×１０4であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１．９×１０5であった。なお、仕込み原料より、高分子化合物２は、下記式で表される繰り返し単位を含むものと推定される。
【０１１４】
＜合成例５＞（正孔輸送性高分子材料の合成）
ジムロートを接続したフラスコに、下記式：
で表される化合物α ５．２５ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、下記式：
で表される化合物β ４．５５ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド（商品名：Ａｌｉｑｕａｔ３３６、アルドリッチ社製） ０．９１ｇ、及びトルエン６９ｍｌを加えてモノマー溶液を得た。窒素雰囲気下、モノマー溶液を加熱し８０℃で酢酸パラジウム ２ｍｇ、及びトリス（２−メチルフェニル）ホスフィン １５ｍｇを加えた。得られたモノマー溶液に、１７．５重量％炭酸ナトリウム水溶液 ９．８ｇを注加した後、１１０℃で１９時間攪拌した。次に、トルエン１．６ｍｌに溶解したフェニルホウ酸 １２１ｍｇを加え、１０５℃で１時間攪拌した。
有機相を水相と分離した後、有機相にトルエン３００ｍｌを加えた。有機相を３重量％酢酸水溶液 ４０ｍｌ（２回）、イオン交換水 １００ｍｌ（１回）の順番で洗浄し、水相と分離した。有機相にＮ，Ｎ−ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム三水和物 ０．４４ｇ、トルエン １２ｍｌを加え６５℃で４時間攪拌した。
あらかじめトルエンを通液したシリカゲル／アルミナカラムに反応生成物のトルエン溶液を通液し、この溶液をメタノール １４００ｍｌに滴下しポリマーを沈殿させ、沈殿物を濾過後乾燥し固体を得た。この固体をトルエン ４００ｍｌに溶解させ、メタノール １４００ｍｌに滴下しポリマーを沈殿させ、得られた沈殿物を濾過後乾燥し、正孔輸送性高分子化合物を６．３３ｇ得た。正孔輸送性高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量Ｍｎは８．８×１０4であり、重量平均分子量Ｍｗは３．２×１０5であった。
なお、正孔輸送性高分子化合物は、仕込み原料から、下記式：
で表される繰り返し単位を、１：１（モル比）で含むものと推定される。
【０１１５】
＜実施例１＞（組成物Ａの調製）
アクセプタ性化合物である２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンをジクロロメタン溶媒に、０．２重量％溶液となるように溶解させ、アクセプタ性化合物溶液１を調製した。
また、高分子化合物１をジクロロメタン溶媒に、０．３重量％溶液となるように溶解させ、高分子化合物１溶液を調製した。
これらのアクセプタ性化合物溶液１と高分子化合物１溶液とを、得られる溶液の高分子化合物１とアクセプタ性化合物の重量比が、８０：２０となるように混合し、組成物Ａ（混合溶液）を調製した。
【０１１６】
＜実施例２＞（有機電界発光素子１の作製）
組成物ＡをＩＴＯ陽極が成膜されたガラス基板上にスピンコート法により回転数８００ｒｐｍで塗布し、５０ｎｍの薄膜を成膜した。こうして得られたガラス基板Ａを２００℃で１０分間加熱処理して溶媒を蒸発させた。
次いで、正孔輸送性高分子材料を準備し、キシレン溶媒に０．８重量％溶液となるように溶解させ、正孔輸送性高分子材料溶液１を調製した。正孔輸送性高分子材料溶液１を、高分子化合物１とアクセプタ性化合物との混合膜を成膜したガラス基板上にスピンコート法によって膜厚が２０ｎｍとなるように成膜し、正孔輸送層とした。こうして得られたガラス基板Ｂを２００℃で１５分加熱処理して溶媒を蒸発させた。
【０１１７】
次いで、高分子発光材料（サメイション株式会社製、商品名：ＢＰ３６１）を準備し、キシレン溶媒に、１．２重量％溶液となるように溶解させ、高分子発光材料溶液１を調製した。高分子発光材料溶液１をガラス基板Ａ上にスピンコート法によって膜厚が７０ｎｍとなるように成膜し、発光層とした。こうして得られたガラス基板Ｃを１３０℃で２０分加熱処理して溶媒を蒸発させた。
【０１１８】
次いで、ガラス基板Ｃ上に真空蒸着装置でバリウムを５ｎｍ、次に、アルミニウムを８０ｎｍ堆積させ陰極とし、ガラス基板Ｄ（陰極形成済み）を得た。その後、エポキシ樹脂と封止用ガラス板を用いて、ガラス基板Ｄを封止し、有機電界発光素子１を作製した。
【０１１９】
＜実施例３＞（組成物Ｂの調製）
実施例１において、高分子化合物１の代わりに高分子化合物２を用いる以外は実施例１と同様にして調製した組成物を組成物Ｂとした。
【０１２０】
＜実施例４＞（有機電界発光素子２の作製）
実施例２において、組成物Ａの代わりに組成物Ｂを用いる以外は実施例２と同様にして作製した有機電界発光素子を有機電界発光素子２とした。
【０１２１】
＜合成例５＞（高分子化合物３の合成）
Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブロモフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブチルフェニル）−１，４−フェニレンジアミンを、Polymer Preprints 2001, 42(2), 587に記載の方法で合成した。
窒素雰囲気下、Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブロモフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブチルフェニル）−１，４−フェニレンジアミン２．７３ｇ、２，７−ビス（１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン２．１１ｇ、酢酸パラジウム１．８ｍｇ、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン１１．３ｍｇ、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド（アルドリッチ社製、商品名：Ａｌｉｑｕａｔ３３６）０．５２ｇ、及びトルエン１５ｍｌを混合し、９０℃に加熱した。この反応溶液に１７．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液１０．９ｍｌを滴下し、６時間還流させた。反応後、フェニルホウ酸４９ｍｇを加え、さらに２時間還流させた。次いで、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。冷却後、水５０ｍｌで２回、３重量％酢酸水溶液５０ｍｌで２回、水５０ｍｌで２回の順番で洗浄し、得られた溶液をメタノール６２０ｍｌに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン１２０ｍｌに溶解させ、シリカゲルの上に活性アルミナを敷いたカラムを通すことにより精製した。得られたトルエン溶液をメタノール６２０ｍｌに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し乾燥させて、高分子化合物３を３．１９ｇ得た。高分子化合物３のポリスチレン換算の数平均分子量は４．２×１０4であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１．７×１０5であった。なお、仕込み原料より、高分子化合物３は、下記式で表される繰り返し単位を含むものと推定される。
【０１２２】
＜合成例６＞（高分子化合物４の合成）
不活性雰囲気下、Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブロモフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブチルフェニル）−１，４−フェニレンジアミン（１０．２３８ｇ）、２，２’−ビピリジル（６．３２５ｇ）をあらかじめアルゴンでバブリングした、脱水テトラヒドロフラン４１０ｍＬに溶解した。この溶液を６０℃まで昇温後、ビス（１、５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）｛Ｎｉ（ＣＯＤ）2｝（１１．１４０ｇ）を加え、攪拌し、５時間反応させた。この反応液を室温まで冷却し、２５重量％アンモニア水５４ｍＬ／メタノール４１０ｍＬ／イオン交換水４１０ｍＬ混合溶液中に滴下して１時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥し、トルエン４５０ｍｌに溶解させた。溶解後、ラヂオライト１．８ｇを加えて３０分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行った。次に、４重量％アンモニア水８９０ｍＬを加え、２時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約８９０ｍＬを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。その後、有機層をメタノール１４００ｍｌに注加して０．５時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥させて、高分子化合物４を６．７２ｇ得た。また、高分子化合物４のポリスチレン換算の数平均分子量Ｍｎは８．６×１０3であり、重量平均分子量Ｍｗは９．７×１０4であった。なお、仕込み原料より、高分子化合物４は、下記式で表される繰り返し単位を含むものと推定される。
【０１２３】
＜比較例１＞（組成物Ｃの調製）
実施例１において、高分子化合物１の代わりに高分子化合物３を用いる以外は、実施例１と同様にして調製した組成物を組成物Ｃとした。
【０１２４】
＜比較例２＞（有機電界発光素子３の作製）
実施例２において、組成物Ａの代わりに組成物Ｃを用いる以外は、実施例２と同様にして作製した有機電界発光素子を有機電界発光素子３とした。
【０１２５】
＜比較例３＞（組成物Ｄの調製）
実施例１において、高分子化合物１の代わりに高分子化合物４を用いる以外は、実施例１と同様にして調製した組成物を組成物Ｄとした。
＜比較例４＞（有機電界発光素子４の作製）
実施例２において、組成物Ａの代わりに組成物Ｄを用いる以外は、実施例２と同様にして作製した有機電界発光素子を有機電界発光素子４とした。
【０１２６】
＜素子評価＞
−測定１−
定電圧・電流電源を準備して、有機電界発光素子１〜４のＩＴＯ陽極を電源の陽極に、アルミニウム陰極を電源の陰極に接続して、電圧を印加し、電流注入を行った。発光輝度１ｃｄ／ｍ2時の電圧、及び発光輝度１６００ｃｄ／ｍ2による連続駆動時の輝度半減寿命を測定した。得られた結果を表１に示す。
【０１２７】
【表１】
【０１２８】
−評価１−
表１から分かるとおり、本発明の組成物を用いた有機電界発光素子１、２は、その他の組成物を用いた有機電界発光素子３、４と比較して、発光輝度１ｃｄ／ｍ2時の電圧（発光開始電圧）が低下し、また輝度半減寿命が長くなると認められる。従って、本発明の組成物は、正孔注入性、素子寿命が優れていると認められる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミン化合物とアクセプタ性化合物とを含む組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
アミン化合物とアクセプタ性化合物とを含む組成物は、有機電界発光素子の材料として有用であり、種々検討されている。その具体例としては、トリアリールアミン系ポリマーと２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンとの組成物（特許文献１）、トリフェニルアミンと２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンとの組成物（特許文献２）等が挙げられる。
【０００３】
【特許文献１】特表２００５−５３１９１５号公報
【特許文献２】特開２００７−２０８１０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記組成物は、有機電界発光素子の材料として用いても、正孔注入性、素子寿命が十分ではない。
【０００５】
そこで、本発明は、有機電界発光素子の材料として用いた場合、正孔注入性及び素子寿命が優れた組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は第一に、下記式（１）：
（式中、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に、単環の芳香環又は縮合した芳香環を表し、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に、１価の基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1及びＲ4は、置換基を有していてもよい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基は、置換基を有していてもよい。）
で表される化合物、その残基を有する化合物、又は下記式（２）：
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、前記と同じ意味を有する。但し、Ａ環及びＣ環は、それぞれ結合手を有する。）
で表される繰り返し単位を含む化合物と、アクセプタ性化合物とを含む組成物、並びにこの組成物を用いてなる層を有する有機電界発光素子を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の組成物は、有機電界発光素子の材料（特には、バッファ層の材料）として用いた場合、正孔注入性及び素子寿命が優れたものである。したがって、本発明の組成物は、有機電界発光素子の材料として特に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明を詳細に説明する。
＜組成物＞
本発明の組成物は、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、又は前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物と、アクセプタ性化合物とを含むものである。前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物、アクセプタ性化合物は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０００９】
−式（１）の説明−
前記式（１）において、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に、単環の芳香環又は縮合した芳香環を表す。また、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ置換基を有していてもよい。
【００１０】
このような芳香環としては、単環の芳香環、縮合した芳香環等が挙げられる。前記単環の芳香環としては、例えば、ベンゼン環等が挙げられる。前記縮合した芳香環としては、例えば、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、ペリレン環、テトラセン環、ペンタセン環、フルオレン環等の芳香族炭化水素環；ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、チオフェンオキシド環、ベンゾチオフェンオキシド環、ジベンゾチオフェンオキシド環、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、ジベンゾピロール環、シロール環、ベンゾシロール環、ジベンゾシロール環、ボロール環、ベンゾボロール環、ジベンゾボロール環等の複素芳香環が挙げられるが、耐熱性、蛍光強度、素子特性等の観点から、芳香族炭化水素環が好ましい。前記芳香環としては、置換基を有していてもよい単環の芳香環が特に好ましい。
【００１１】
また、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基が挙げられる。
【００１２】
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００１３】
前記アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。このようなアルキル基の炭素数は、通常１〜３０程度であり、有機溶媒への溶解性の観点から、好ましくは３〜１５程度である。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基が好ましい。
【００１４】
前記アルコキシ基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。このようなアルコキシ基の炭素数は、通常１〜３０程度であり、有機溶媒への溶解性の観点から、好ましくは３〜１５程度である。このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、メトキシメチルオキシ基、２−メトキシエチルオキシ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基が好ましい。
【００１５】
前記アルキルチオ基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。このようなアルキルチオ基の炭素数は、通常１〜３０程度であり、有機溶媒への溶解性の観点から、好ましくは３〜１５程度である。このようなアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、３，７−ジメチルオクチルチオ基、ラウリルチオ基、トリフルオロメチルチオ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、デシルチオ基、３，７−ジメチルオクチルチオ基が好ましい。
【００１６】
前記アリール基は、芳香族炭化水素から水素原子１個を除いた原子団であり、縮合環をもつもの、独立したベンゼン環又は縮合環２個以上が直接又はビニレン等の基を介して結合したものも含まれる。このようなアリール基の炭素数は、通常６〜６０程度であり、好ましくは６〜３０程度である。このようなアリール基としては、例えば、フェニル基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル基（Ｃ1〜Ｃ12は、Ｃ1〜Ｃ12の直後に示す有機基の炭素数（ここでは、アルコキシフェニル基のうちのアルコキシ基中の炭素数）が１〜１２であることを示す。以下も同様である。）、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル基が好ましい。また、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル基としては、例えば、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ｉ−プロピルオキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ｉ−ブトキシフェニル基、ｓ−ブトキシフェニル基、ｔ−ブトキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、ヘプチルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、２−エチルヘキシルオキシフェニル基、ノニルオキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、３，７−ジメチルオクチルオキシフェニル基、ラウリルオキシフェニル基が挙げられる。さらに、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル基としては、例えば、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、プロピルフェニル基、メシチル基、メチルエチルフェニル基、ｉ−プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ｉ−ブチルフェニル基、ｓ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、イソアミルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基が挙げられる。
【００１７】
前記アリールオキシ基の炭素数は、通常６〜６０程度であり、好ましくは６〜３０程度である。このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェノキシ基が好ましい。また、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェノキシ基としては、例えば、メトキシフェノキシ基、エトキシフェノキシ基、プロピルオキシフェノキシ基、ｉ−プロピルオキシフェノキシ基、ブトキシフェノキシ基、ｉ−ブトキシフェノキシ基、ｓ−ブトキシフェノキシ基、ｔ−ブトキシフェノキシ基、ペンチルオキシフェノキシ基、ヘキシルオキシフェノキシ基、シクロヘキシルオキシフェノキシ基、ヘプチルオキシフェノキシ基、オクチルオキシフェノキシ基、２−エチルヘキシルオキシフェノキシ基、ノニルオキシフェノキシ基、デシルオキシフェノキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシフェノキシ基、ラウリルオキシフェノキシ基が挙げられる。さらに、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェノキシ基としては、例えば、メチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、プロピルフェノキシ基、１,３,５−トリメチルフェノキシ基、メチルエチルフェノキシ基、ｉ−プロピルフェノキシ基、ブチルフェノキシ基、ｉ−ブチルフェノキシ基、ｓ−ブチルフェノキシ基、ｔ−ブチルフェノキシ基、ペンチルフェノキシ基、イソアミルフェノキシ基、ヘキシルフェノキシ基、ヘプチルフェノキシ基、オクチルフェノキシ基、ノニルフェノキシ基、デシルフェノキシ基、ドデシルフェノキシ基が挙げられる。
【００１８】
前記アリールチオ基の炭素数は、通常６〜６０程度であり、好ましくは６〜３０程度である。このようなアリールチオ基としては、例えば、フェニルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基が挙げられる。これらの中でも、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニルチオ基が好ましい。
【００１９】
前記アリールアルキル基の炭素数は、通常７〜６０程度であり、好ましくは７〜３０程度である。このようなアリールアルキル基としては、例えば、フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、１−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、２−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル基が好ましい。
【００２０】
前記アリールアルコキシ基の炭素数は、通常７〜６０程度であり、好ましくは７〜３０程度である。このようなアリールアルコキシ基としては、例えば、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基、フェニルブトキシ基、フェニルペンチロキシ基、フェニルヘキシロキシ基、フェニルヘプチロキシ基、フェニルオクチロキシ基等のフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、１−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、２−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ基が好ましい。
【００２１】
前記アリールアルキルチオ基の炭素数は、通常７〜６０程度であり、好ましくは７〜３０程度である。このようなアリールアルキルチオ基としては、例えば、フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、１−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、２−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ基が好ましい。
【００２２】
前記アルケニル基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロピレニル基、２−プロピレニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、シクロヘキセニル基が挙げられる。また、このようなアルケニル基には、１，３−ブタジエニル基、シクロヘキサ−１，３−ジエニル基、１，３，５−ヘキサトリエニル基等のジエニル基やトリエニル基も含まれる。
【００２３】
前記アルキニル基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピレニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、シクロヘキシルエチニル基が挙げられる。また、このようなアルキニル基には、１，３−ブタジイニル基等のジイニル基も含まれる。
【００２４】
前記２置換アミノ基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び１価の複素環基からなる群から選択される２個の基で置換されたアミノ基が挙げられる。このような２置換アミノ基において、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、１価の複素環基はそれぞれ置換基を有していてもよい。また、このような２置換アミノ基の炭素数は、アルキル基等が有する置換基の炭素数を含めないで通常２〜６０程度、好ましくは２〜３０程度である。このような２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジ−２−エチルヘキシルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ジ−３，７−ジメチルオクチルアミノ基、ジラウリルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ（Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル）アミノ基、ジ（Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル）アミノ基、ジ−１−ナフチルアミノ基、ジ−２−ナフチルアミノ基、ジペンタフルオロフェニルアミノ基、ジピリジルアミノ基、ジピリダジニルアミノ基、ジピリミジルアミノ基、ジピラジルアミノ基、ジトリアジルアミノ基、ジ（フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル）アミノ基ジ（Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキル）アミノ基が挙げられる。
【００２５】
前記３置換シリル基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び１価の複素環基からなる群から選択される３個の基で置換されたシリル基が挙げられる。このような３置換シリル基の炭素数は通常３〜９０程度、好ましくは３〜４５程度である。なお、このような３置換シリル基において、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、１価の複素環基は置換基を有していてもよい。このような３置換シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ−ｉ−プロピルシリル基、ジメチル−ｉ−プロピリシリル基、ジエチル−ｉ−プロピルシリル基、ｔ−ブチルシリルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、２−エチルヘキシル−ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、３，７−ジメチルオクチル−ジメチルシリル基、ラウリルジメチルシリル基、フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルフェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、１−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、２−ナフチル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルシリル基、フェニル−Ｃ1〜Ｃ12アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−ｐ−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基が挙げられる。
【００２６】
前記アシル基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロベンゾイル基が挙げられる。
【００２７】
前記アシルオキシ基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基が挙げられる。
【００２８】
前記イミン残基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなイミン残基としては、例えば、以下に示す構造式で表される基が挙げられる。なお、以下に示す構造式において、波線はｓｙｎ又はａｎｔｉを表すが、ｓｙｎであってもａｎｔｉであってもよい。
（式中、Ｍｅはメチル基を表す。以下、同様である。）
【００２９】
前記アミド基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このようなアミド基としては、例えば、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基、ジペンタフルオロベンズアミド基が挙げられる。
【００３０】
前記酸イミド基としては、酸イミドからその窒素原子に結合した水素原子を除いて得られる残基が挙げられる。このような酸イミド基の炭素数は、通常４〜３０程度であり、好ましくは４〜１５程度である。このような酸イミド基としては、例えば、以下に示す構造式で表される基が挙げられる。
【００３１】
前記１価の複素環基は、複素環式化合物から水素原子１個を除いた残りの原子団をいう。このような１価の複素環基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。なお、このような１価の複素環基において、複素環は置換基を有していてもよいが、炭素数には、複素環上の置換基の炭素数は含まれない。また、ここで複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する原子が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、燐、硼素等のヘテロ原子を環内に含むものをいう。このような１価の複素環基としては、例えば、チエニル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルピリジル基、ピペリジル基、キノリル基、イソキノリル基が挙げられる。これらの中でも、１価の芳香族複素環基が好ましく、特に、チエニル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチエニル基、ピリジル基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルピリジル基
が好ましい。
【００３２】
前記置換カルボキシル基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は１価の複素環基で置換されたカルボキシル基が挙げられる。このような置換カルボキシル基の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。このような置換カルボキシル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、シクロヘキシロキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシロキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシロキシカルボニル基、３，７−ジメチルオクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、ペンタフルオロエトキシカルボニル基、パーフルオロブトキシカルボニル基、パーフルオロヘキシルオキシカルボニル基、パーフルオロオクチルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基が挙げられる。なお、このような置換カルボキシル基において、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、１価の複素環基は置換基を有していてもよい。また、置換カルボキシル基の炭素数にはアルキル基等の有する置換基の炭素数は含まれない。
【００３３】
前記ヘテロアリールオキシ基（即ち、Ｑ1−Ｏ−で表される基（ここで、Ｑ1は１価の複素環基を表す））の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。なお、このようなヘテロアリールオキシ基において、１価の複素環基は置換基を有していてもよいが、ヘテロアリールオキシ基の炭素数には、１価の複素環基上の置換基の炭素数は含まれない。このようなヘテロアリールオキシ基としては、例えば、チエニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチエニルオキシ基、ピロリルオキシ基、フリルオキシ基、ピリジルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルピリジルオキシ基、イミダゾリルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、トリアゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、チアゾールオキシ基、チアジアゾールオキシ基が挙げられる。また、Ｑ1としては１価の芳香族複素環基が好ましい。
【００３４】
前記ヘテロアリールチオ基（即ち、Ｑ2−Ｓ−で表される基（ここで、Ｑ2は１価の複素環基を表す））の炭素数は、通常２〜３０程度であり、好ましくは２〜１５程度である。なお、このようなヘテロアリールチオ基において、１価の複素環基は置換基を有していてもよいが、ヘテロアリールチオ基の炭素数には、１価の複素環基上の置換基の炭素数は含まれない。このようなヘテロアリールチオ基としては、チエニルメルカプト基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチエニルメルカプト基、ピロリルメルカプト基、フリルメルカプト基、ピリジルメルカプト基、Ｃ1〜Ｃ12アルキルピリジルメルカプト基、イミダゾリルメルカプト基、ピラゾリルメルカプト基、トリアゾリルメルカプト基、オキサゾリルメルカプト基、チアゾールメルカプト基、チアジアゾールメルカプト基が挙げられる。また、Ｑ2としては１価の芳香族複素環基が好ましい。
【００３５】
前記式（１）において、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に１価の基を表す。
【００３６】
本明細書において、１価の基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、３置換シリル基、アシル基、１価の複素環基、置換カルボキシル基等が挙げられる。
【００３７】
これらのアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、３置換シリル基、アシル基、１価の複素環基及び置換カルボキシル基としては、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として説明し例示したものと同様のものが挙げられる。
【００３８】
化合物の安定性の観点から、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は１価の複素環基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましい。
【００３９】
前記式（１）において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。
【００４０】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアルキル基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよいが置換基を有しない。このようなアルキル基の炭素数は、通常１〜３０程度であり、有機溶媒への溶解性の観点から、好ましくは３〜１５程度である。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が挙げられるが、有機溶媒への溶解性、合成の行いやすさの観点から、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基が好ましい。
【００４１】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアリール基、アリールアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基としては、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
【００４２】
前記式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、置換基を有していてもよいアリール基であることが特に好ましい。
【００４３】
前記式（１）で表される化合物の具体例を以下に挙げる。
【００４４】
前記式（１）で表される化合物の残基を有する化合物とは、前記式（１）で表される化合物における水素原子を１又は２以上取り除いた残りの原子団である残基を有する化合物である。
【００４５】
前記式（１）で表される化合物の残基を有する化合物の具体例を以下に挙げる。
【００４６】
−式（２）の説明−
前記式（２）において、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に単環の芳香環又は縮合した芳香環を表し、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に１価の基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。なお、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、前記式（１）の項で説明し例示したものと同様である。但し、Ａ環及びＣ環上に結合手を有する。なお、前記結合手の位置は、得られる化合物の導電性の観点から、分子内の共役がつながる位置であることが好ましい。
【００４７】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、前記式（２）で表される繰り返し単位のみからなる化合物であっても、その他の繰り返し単位を含む化合物であってもよい。ここで、「繰り返し単位」とは、分子中に２以上繰り返して含まれる単位を意味する。
【００４８】
前記式（２）で表される繰り返し単位の具体例を以下に挙げる。
【００４９】
さらに、有機電界発光素子に用いた時に寿命等の素子特性に優れるという観点から、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、更に下記式（３）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
（式中、Ａｒ1はアリーレン基又は２価の複素環基を表す。Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、１価の複素環基又はシアノ基を表す。ｎは０又は１を表す。Ａｒ1、Ｒ7及びＲ8は、置換基を有していてもよい。）
【００５０】
このようなＡｒ1におけるアリーレン基は、炭素数が通常６〜６０であり、好ましくは６〜２０である。このようなＡｒ1におけるアリーレン基としては、例えば、フェニレン基（例えば、下式１〜３）、ナフタレンジイル基（例えば、下式４〜１３）、アントラセニレン基（例えば、下式１４〜１９）、ビフェニレン基（例えば、下式２０〜２５）、トリフェニレン基（例えば、下式２６〜２８）、縮合環化合物基（例えば、下式２９〜３８）が挙げられる。なお、以下に示す式中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロアリールオキシ基又はヘテロアリールチオ基を表す。また、アリーレン基の炭素数には、Ｒが置換基である場合、その炭素数は含まれない。なお、Ｒは水素原子又は置換基を表し、該置換基は、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として説明し例示したものと同じ意味を有し、以下、同様である。
【００５１】
【００５２】
また、本明細書において、２価の複素環基とは、複素環式化合物から水素原子２個を除いた残りの原子団をいう。このような２価の複素環基の炭素数は、通常４〜６０、好ましくは４〜２０である。ここで、複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する原子が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、リン、ホウ素等のヘテロ原子を環内に含むものをいう。
【００５３】
このような２価の複素環基としては、例えば、以下のものが挙げられる。なお、以下に示す式中、Ｒは、前記と同じ意味を有する。
ヘテロ原子として窒素を含む２価の複素環基として、例えば、ピリジン−ジイル基（例えば、下式３９〜４４）、ジアザフェニレン基（例えば、下式４５〜４８）、キノリンジイル基（例えば、下式４９〜６３）、キノキサリンジイル基（例えば、下式６４〜６８）、アクリジンジイル基（例えば、下式６９〜７２）、ビピリジルジイル基（例えば、下式７３〜７５）、フェナントロリンジイル基（例えば、下式７６〜７８）が挙げられる。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含みフルオレン構造を有する基として、例えば、下式７９〜９８で表される基が挙げられる。これらの中でも、窒素原子を含む下式８２〜８４で表されるカルバゾールやトリフェニルアミンジイル基等の芳香族アミンモノマーを有していることが望ましい。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含む５員環複素環基として、例えば、下式９４〜９８で表される基が挙げられる。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含む５員環縮合複素環基として、例えば、下式９９〜１０９で表される基、ベンゾチアジアゾール−４，７−ジイル基、ベンゾオキサジアゾール−４，７−ジイル基が挙げられる。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含む５員環複素環基でそのヘテロ原子のα位で結合し２量体やオリゴマーになっている基として、例えば、下式１１０〜１１１で表される基が挙げられる。
ヘテロ原子としてけい素、窒素、硫黄、セレン等を含む５員環複素環基でそのヘテロ原子のα位でフェニル基に結合している基として、例えば、下式１１２〜１１８で表される基が挙げられる。
ヘテロ原子として窒素、酸素、硫黄等を含む縮合した複素環基とベンゼン環又は単環性の複素環基とが結合した３環性の基として、例えば、下式１２０〜１２５で表される基が挙げられる。
【００５４】
（式中、Ｒは水素原子又は置換基を表す。）
【００５５】
前記式（３）中、Ｒ7、Ｒ8で表されるアルキル基、アリール基、１価の複素環基は、前記Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として例示し説明したものと同じものが挙げられる。
【００５６】
前記式（３）で表される繰り返し単位において、ｎが０であること、Ａｒ1がアリーレン基であることが好ましい。前記式（３）で表される繰り返し単位としては、下記式（４−１）：
（式中、Ｃ4環及びＣ5環はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表し、２つの結合手はそれぞれＣ4環又はＣ5環上に存在し、Ｒｗ及びＲｘはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基又はヘテロアリールチオ基を表す。Ｒｗ及びＲｘは、置換基を有していてもよい。）
で表されるものであることが好ましい。
【００５７】
芳香族炭化水素環とは、ベンゼン環又は縮合した芳香族炭化水素環を意味する。このような芳香族炭化水素環の炭素数は６〜３０程度、好ましくは６〜１５程度である。なお、芳香族炭化水素環の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。このような芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フェナレン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、ピレン環、クリセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ビフェニレン環、フルオレン環、アセナフチレン環が挙げられる。
【００５８】
Ｒｗ及びＲｘにおけるアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基としては、Ａ環、Ｂ環及びＣ環が有していてもよい置換基として説明し例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒｗ及びＲｘは、アルキル基であることが好ましい。
【００５９】
前記式（４−１）で表される繰り返し単位としては、下式１Ａ−０〜１Ａ−１３で表される繰り返し単位が挙げられる。また、このような繰り返し単位は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基及びハロゲン原子等からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有していてもよい。なお、下式１Ａ−０〜１Ａ−１３において、芳香族炭化水素における結合手は任意の位置をとり得る。
【００６０】
【００６１】
これらの繰り返し単位の中でも、式１Ａ−０、１Ａ−１、１Ａ−２、１Ａ−３で表される繰り返し単位が好ましく、式１Ａ−０で表される繰り返し単位が特に好ましい。
【００６２】
また、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、耐熱性の向上、電荷輸送性改善の観点から、下記式（５−１）、（５−２）及び（５−３）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種類の繰り返し単位を更に含むことが好ましく、２種類以上の繰り返し単位を含むことがより好ましい。
（式中、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5はそれぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表す。Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8はそれぞれ独立に、アリール基又は１価の複素環基を表す。Ｂ及びｂはそれぞれ独立に、０又は正の整数を表す。Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ5、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8は置換基を有していてもよい。）
（式中、Ｄ環及びＥ環はそれぞれ独立に、芳香環を表す。Ｙ1は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。Ｒ20は１価の基を表す。Ｄ環及びＥ環は、それぞれ結合手を有する。Ｄ環、Ｅ環、Ｙ1及びＲ20は、置換基を有していてもよい。）
（式中、Ｙ2は−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。）
【００６３】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位において、素子寿命等の素子特性の観点から、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5がそれぞれ独立にアリーレン基であり、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8がそれぞれ独立に、アリール基であるものが好ましい。また、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5がそれぞれ独立に、無置換のフェニレン基、無置換のビフェニレン基、無置換のナフチレン基、又は無置換のアントラセンジイル基であるものが好ましい。さらに、有機溶媒への溶解性、素子特性等の観点から、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8がそれぞれ独立に、置換基を有するアリール基であるものが好ましく、３つ以上の置換基を有するアリール基であるものがより好ましい。さらに、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8が３つ以上の置換基を有するフェニル基、３つ以上の置換基を有するナフチル基、又は３つ以上の置換基を有するアントラセニル基であるものがより好ましく、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8が３つ以上の置換基を有するフェニル基であるものがさらにより好ましい。
【００６４】
これらの繰り返し単位の中でも、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8が、それぞれ独立に下記式（５−４）で表される基であり、かつＢ＋ｂ≦３であるものが好ましく、Ｂ＋ｂ＝１であるものがより好ましく、Ｂ＝１、ｂ＝０であるものが特に好ましい。
【００６５】
前記式（５−４）において、Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｇはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、１価の複素環基又はハロゲン原子を表す。また、Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｇに含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。さらに、Ｒｈ及びＲｉはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、１価の複素環基又はハロゲン原子を表す。また、Ｒｈ及びＲｉに含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。
【００６６】
また、前記式（５−４）において、Ｒｅ及びＲｆがそれぞれ独立に、炭素数３以下のアルキル基、炭素数３以下のアルコキシ基、炭素数３以下のアルキルチオ基であり、かつＲgが炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基であることが好ましい。
【００６７】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位において、Ａｒ3が下記式（５−５）又は（５−６）で表される基であることが好ましい。
【００６８】
前記式（５−５）及び（５−６）において、構造中に含まれるベンゼン環は、無置換のものが好ましいが、それぞれ独立に１個以上４個以下の置換基を有していてもよい。それら置換基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。また、このようなベンゼン環に他の芳香族炭化水素環又は複素環が縮合していてもよい。
【００６９】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位としては、下記式１３３〜１４０で表されるものが挙げられる。
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を有する。）
【００７０】
前記式におけるＲがアルキル基を含む置換基である場合においては、高分子化合物の有機溶媒への溶解性を高めるために、炭素数が３以上のアルキル基が含まれることが好ましい。さらに、上記式１３３〜１４０で表される構造の中でも、発光波長を調節するという観点から、上記式１３３、１３４、１３７で表される構造が好ましい。
【００７１】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位のより好ましい例としては、下式１４１〜１４３で表されるものが挙げられる。
（式中、Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒｇ、Ｒｈ及びＲｉは、前記と同じ意味を有する。）
【００７２】
前記式（５−１）で表される繰り返し単位の特に好ましい例としては、耐熱性等の観点から、下記式（２２）〜（２４）で表されるものが挙げられる。
【００７３】
前記式（５−２）において、Ｄ環及びＥ環はそれぞれ独立に、芳香環を表す。Ｄ環及びＥ環上には置換基を有していてもよい。前記芳香環は、化合物の安定性の観点から、好ましくは芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
【００７４】
前記式（５−２）において、Ｙ1は、−ＣＨ2−であることが好ましい。また、Ｒ20で表される１価の基は、前記Ｒ1、Ｒ4で表される１価の基として説明し例示したものと同じである。
【００７５】
前記式（５−２）で表される繰り返し単位としては、下記式（５−７）で表されるものが挙げられる。
（式中、Ｙ1及びＲ20は、前記と同じ意味を有する。）
【００７６】
前記式（５−３）で表される繰り返し単位の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【００７７】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物の中でも、薄膜にした時の電荷輸送性、有機電界発光素子に用いた時に寿命等の素子特性の観点から、共役系高分子であるものが好ましい。ここで、共役系高分子とはポリマーの主鎖骨格に沿って非局在π電子対が存在している高分子を意味する。この非局在π電子対としては、２重結合の代わりに不対電子又は孤立電子対が共鳴に加わる場合もある。
【００７８】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物においては、発光特性や電荷輸送性を損なわない範囲で、非共役単位で連結されていてもよいし、繰り返し単位に前記非共役単位が含まれていてもよい。前記非共役単位としては、例えば、以下に示す式で表される構造、及び以下に示す式で表される構造のうち２つ以上を組み合わせた構造が挙げられる。
（式中、Ｒは前記と同じ意味を有する。Ａｒは芳香族炭化水素環又は複素環を表す。）
【００７９】
また、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、ランダム、ブロック又はグラフト共重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有する高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体であってもよい。蛍光又はりん光の量子収率の高い化合物を得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性を帯びたランダム共重合体やブロック又はグラフト共重合体が好ましい。さらに、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物には、主鎖に枝分かれがあり、末端部が３つ以上あるものやデンドリマーも含まれる。
【００８０】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物において、全繰り返し単位に対して、前記式（２）で表される繰り返し単位の割合が、１０〜１００モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましい。
【００８１】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物の例を以下に挙げる。
（式中、ｎは、各繰り返し単位のモル比を表す数である。）
【００８２】
本発明の組成物において、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、及び前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物の中でも、塗布法により有機電界発光素子を作製することができるので、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物が好ましい。
【００８３】
前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物は、分子量が３００〜５０００であることが好ましく、１０００〜３０００であることがより好ましく、１０００〜２０００であることがさらに好ましい。
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、ポリスチレン換算の数平均分子量が２×１０3以上であることが好ましく、２×１０3〜１×１０8であることがより好ましく、１×１０4〜１×１０6であることが特に好ましい。
【００８４】
−アクセプタ化合物−
前記アクセプタ性化合物としては、キノン系化合物、遷移金属錯塩系化合物、有機閉殻陰イオン性化合物、シアノ基とニトロ基を有するフルオレン系化合物、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル、ブロマニル等が挙げられる。これらのアクセプタ性化合物は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。なお、以下の説明において、酸化還元半波電位Ｅ11/2を、単に「Ｅ11/2」と記載することがある。
【００８５】
前記キノン系化合物としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン誘導体、テトラシアノキノジメタン誘導体、１，４−ナフトキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体等が挙げられるが、酸化還元半波電位Ｅ11/2の値の大きさの観点から、ｐ−ベンゾキノン誘導体、テトラシアノキノジメタン誘導体が好ましい。
【００８６】
前記ｐ−ベンゾキノン誘導体としては、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）[Ｅ11/2＝＋０．５６（Ｖ）]、２，３−ジブロモ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＢＤＱ）[Ｅ11/2＝＋０．５３（Ｖ）]、２，３−ジヨード−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＩＤＱ）[Ｅ11/2＝＋０．５１（Ｖ）]、２，３−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（Ｑ（ＣＮ）2）[Ｅ11/2＝＋０．３４（Ｖ）]等が例示される。
【００８７】
前記テトラシアノキノジメタン誘導体としては、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．６０（Ｖ）]、２，３，５−トリフルオロメチル−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（ＣＦ３−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．４３（Ｖ）]、２，５−ジフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（Ｆ２−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．４０（Ｖ）]、２−モノフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（Ｆ−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．３２（Ｖ）]、１１，１１，１２，１２−テトラシアノナフト−２，６−キノジメタン（ＴＮＡＰ）[Ｅ11/2＝＋０．２６（Ｖ）]、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン （ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．２２（Ｖ）]、デシル−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（Ｃ１０−ＴＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．２０（Ｖ）]等が例示される。
【００８８】
前記１，４−ナフトキノン誘導体としては、２，３−ジシアノ−５−ニトロ−１，４−ナフトキノン（ＤＣＮＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．３８（Ｖ）]、２，３−ジシアノ−１，４−ナフトキノン（ＤＣＮＱ）[Ｅ11/2＝＋０．２１（Ｖ）]等が例示される。
【００８９】
前記ジフェノキノン誘導体としては、３，３’，５，５’−テトラブロモ-ジフェノキノン（ＴＢＤＱ）等が例示される。
【００９０】
前記遷移金属錯塩系化合物としては、例えば、（ＴＰＰ）2Ｐｄ（ｄｔｏ）2［Ｅ11/2＝＋１．２０（Ｖ）］、（ＴＰＰ）2Ｐｔ（ｄｔｏ）2［Ｅ11/2＝＋０．９０（Ｖ）］、（ＴＰＰ）2Ｎｉ（ｄｔｏ）2［Ｅ11/2＝＋０．５７（Ｖ）］、（ＴＰＰ）2Ｃｕ（ｄｔｏ）2［Ｅ11/2＝＋０．０８（Ｖ）］、（ＴＢＡ）2Ｃｕ（ｏｘ）2［Ｅ11/2＝＋１．２８（Ｖ）］等が挙げられるが、酸化還元半波電位Ｅ11/2の値の大きさの観点から、（ＴＰＰ）2Ｐｄ（ｄｔｏ）2、（ＴＢＡ）2Ｃｕ（ｏｘ）2が好ましい。
【００９１】
前記有機閉殻陰イオン性化合物としては、例えば、ピクラート、トシラート等が挙げられる。
【００９２】
前記シアノ基とニトロ基を有するフルオレン系化合物としては、例えば、９−ジシアノメチレン−２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン（ＤＴＥＮＦ）[Ｅ11/2＝＋０．２３（Ｖ）]、９−ジシアノメチレン−２，４，７−トリニトロ−フルオレノン（ＤＴＮＦ）[Ｅ11/2＝＋０．０１（Ｖ）]、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン（ＴＥＮＦ）[Ｅ11/2＝−０．１３（Ｖ）]、２，４，７−トリニトロフルオレノン（ＴＮＦ）[Ｅ11/2＝−０．４２（Ｖ）]等が挙げられるが、酸化還元半波電位Ｅ11/2の値の大きさの観点から、９−ジシアノメチレン−２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン（ＤＴＥＮＦ）が好ましい。
【００９３】
前記アクセプタ性化合物としては、酸化還元半波電位Ｅ11/2の値の大きさの観点から、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン、９−ジシアノメチレン−２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル及びブロマニルからなる群から選ばれるものが好ましく、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノンがより好ましい。
【００９４】
前記アクセプタ性化合物は、飽和カロメル電極（ＳＣＥ）により、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレートを０．１ｍｏｌ／Ｌ支持塩として含むアセトニトリル溶媒において、温度２０℃、電圧挿引速度１０ｍＶ／ｓの条件下で測定される酸化還元半波電位Ｅ11/2が、Ｅ11/2≧＋０．２０[Ｖ]を満たす化合物であることが、陽極からの正孔注入性の観点から好ましく、＋１．５０[Ｖ]≧Ｅ11/2≧＋０．２０[Ｖ]を満たす化合物であることがより好ましく、＋１．３０[Ｖ]≧Ｅ11/2≧＋０．２０[Ｖ]を満たす化合物であることが特に好ましい。
【００９５】
本発明の組成物において、前記アクセプタ性化合物の割合は、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、又は前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物１００重量部に対して、通常、０．１〜１００重量部であり、好ましくは１０〜５０重量部であり、より好ましくは１０〜３０重量部である。
【００９６】
本発明の組成物は、その他の成分を含んでいてもよい。
【００９７】
＜有機電界発光素子＞
本発明の組成物は、有機電界発光素子の作製に用いることができる。本発明の組成物を有機電界発光素子の作製に用いる場合、バッファ層等の層の材料として用いることが好ましい。また、本発明の組成物を用いて薄膜を形成させ、それをバッファ層等の層として用いてもよい。ここで、バッファ層とは、陽極と発光層との間に配置され、隣接する層と電気的に通じている層である。
【００９８】
前記薄膜の平均膜厚は、通常、０．５〜５００ｎｍであり、好ましくは２０〜７０ｎｍである。
【００９９】
本発明の組成物を用いて薄膜を形成させる方法としては、例えば、真空蒸着法、レーザー転写法等の乾式法；キャスティング法、スピンコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット法、キャピラリコート法、ノズルコート法、スプレーコート法等の湿式法が挙げられるが、本発明の組成物が溶解又は分散している溶液を用いる成膜方法であれば、この限りではない。ここで、膜形成手法の簡便さの観点から、湿式法が好ましい。
【０１００】
前記湿式法では、塗布液を調製し、該塗布液を所望の層（又は電極）上に、塗布・乾燥することで、前記薄膜を形成させることができる。塗布液中にはバインダーとして樹脂を含有させてもよく、樹脂は溶媒に溶解状態とすることも、分散状態とすることもできる。なお、前記溶媒には、酸化防止剤、粘度調整剤等を含有させてもよい。
【０１０１】
前記樹脂としては、非共役系高分子、共役系高分子を使用することができる。
前記非共役系高分子の樹脂としては、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン、ＡＢＳ樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチルセルロース、ポリアミド、フェノキシ樹脂、ケトン樹脂、炭化水素樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）が挙げられる。
前記共役系高分子の樹脂としては、パラフェニレン樹脂、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリオキサジアゾール、ポリアゾメチンが挙げられる。
【０１０２】
前記塗布液に用いられる溶媒は、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物、及び前記アクセプタ性化合物を溶解・分散することができる安定なものであればよい。このような溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等の有機塩素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ノルマルヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等が挙げられる。これらの溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０１０３】
前記塗布膜の乾燥温度は、使用した溶媒の沸点以上であることが好ましい。
【０１０４】
本発明の組成物を薄膜の材料として用い、その薄膜をバッファ層として使用した有機電界発光素子の構造としては、以下の構造が例示されるが、好ましくは、陽極／バッファ層／発光層／電子注入層／陰極、陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極であり、より好ましくは、陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極である。
陽極／バッファ層／発光層／陰極
陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／陰極
陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
陽極／バッファ層／発光層／電子輸送層／陰極
陽極／バッファ層／発光層／電子注入層／陰極
陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
陽極／バッファ層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
陽極／バッファ層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
【実施例】
【０１０５】
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。なお、数平均分子量、重量平均分子量は、以下の方法により測定した。
【０１０６】
数平均分子量及び重量平均分子量は、ＧＰＣ（島津製作所社製、商品名：ＬＣ−１０Ａｖｐ）によりポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量を求めた。測定する重合体は、約０．５重量％の濃度になるようテトラヒドロフランに溶解させ、ＧＰＣに５０μＬ注入した。ＧＰＣの移動相はテトラヒドロフランを用い、０．６ｍＬ／分の流速で流した。カラムは、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ（東ソー社製）２本とＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ２０００（東ソー製）１本を直列に繋げた。検出器には示差屈折率検出器（島津製作所製、商品名：ＲＩＤ−１０Ａ）を用いた。
【０１０７】
＜合成例１＞（化合物（Ａ−４）の合成）
−化合物（Ａ−１）の合成−
３００ｍｌの４口フラスコに、１，４−ジブロモベンゼン５．００ｇ、アントラニル酸メチル７．０５ｇを取り、脱水トルエン１００ｍｌを加え、１時間窒素バブリングした。その後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム０．１９ｇ、トリ（ｔ−ブチル）ホスフィンテトラフルオロボレート０．２４ｇ、及び炭酸セシウム１０．３６ｇを加え、７０℃で５時間加熱した後に、２０時間還流した。セライト２０ｇを敷いたグラスフィルターで熱時濾過し、フィルター上の残留物を酢酸エチルで洗浄した。次に、溶媒を留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、脱イオン水、飽和食塩水の順番で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。そして、溶媒を留去し、５．４９ｇの粗生成物を得た。また、水相を１００ｍｌのクロロホルムで３回抽出し、水、飽和食塩水の順番で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。その後、溶媒を留去し、更に４．００ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物を合わせ、トルエン３０ｍｌで再結晶し、下記式（Ａ−１）：
で表される化合物（Ａ−１）６．２８ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
APPI-MS, positive 377 （[M＋H]+、exact mass＝376）
・1H-NMR(300MHz,CDCl3)
δ3.91(6Ｈ, s), 6.72(2H, t),7.17-7.26(6H, ｍ), 7.31(2H, t), 7.96(2H, d), 9.42(2H, s)
・13C-NMR(300MHz,CDCl3)
δ52.1,111.8, 114.1, 117.1, 124.4, 131.9, 134.5, 136.9, 148.7, 169.3。
【０１０８】
−化合物（Ａ−２）の合成−
３００ｍｌの４口フラスコに、１−ブロモ−４−ｎ−ヘキシルベンゼン８．９８ｇを取り、窒素置換した。その後、９０ｍｌの脱水ＴＨＦに溶解し、−７８℃に冷却した後、１０分でｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍへキサン溶液）を滴下した。次に、２時間保温した後、化合物（Ａ−１）２．００ｇを２０ｍｌの脱水ＴＨＦに溶解させ、滴下した。その後、徐々に室温まで昇温し、５時間攪拌した後に、０℃にて１００ｍｌの水を滴下した。次いで、分液し、水相を１００ｍｌの酢酸エチルで抽出した。油相を水、飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を留去したところ、８．８６ｇの粗生成物を得た(赤橙色固体)。得られた粗生成物をヘキサン５０ｍｌで再結晶し、下記式（Ａ−２）：
で表される化合物（Ａ−２）４．１４ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
ESI, positive 999 （[M＋K]+、exact mass＝960）
・1H-NMR(300MHz,CDCl3)
δ0.88(12H,t), 1.30(24H, m), 1.60(8H, ｍ), 2.60(8H, ｔ), 4.74(2H, brs), 5.68 (2H, brs), 6.55-6.63(6H, m), 6.75(2H,m), 7.03-7.26(20H, m)
・13C-NMR(300MHz,CDCl3)
δ14.4,22.9, 29.3, 31.6, 32.0, 35.8, 82.4, 118.8, 120.2, 122.0, 127.9, 128.4, 130.3, 136.1, 137.7, 142.3, 143.3, 144.0。
【０１０９】
−化合物（Ａ−３）の合成−
３００ｍｌのナス型フラスコに、化合物（Ａ−２）８．００ｇを取り、窒素置換した。その後、８０ｍｌの酢酸に溶解させ、０℃に冷却した。２．８ｍｌの濃塩酸を滴下した後、室温に昇温し、５時間攪拌した後、再度０℃に冷却して濾過、水洗した。次に、トルエン２５０ｍｌに溶解させ、水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順番で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。その後、溶媒を留去したところ１３．７５ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物をトルエン５０ｍｌで再結晶し、下記式（Ａ−３）：
で表される化合物（Ａ−３）６．７８ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
ESI, positive 963 （[M＋K]+、exact mass＝924）
・1H-NMR(300MHz,THF-d8)
δ0.90(12H,t), 1.34(24H, m), 1.55-1.62(8H, ｍ), 2.56(8H, ｔ), 6.37(2H, s), 6.63-6.70(6H, m), 6.87(8H, d), 6.98-7.01(10H, m),7.87(2H, s)
・13C-NMR(300MHz,THF-d8)
δ13.7, 22.8, 29.5, 31.8, 32.0, 35.7, 56.2, 113.5, 115.2, 118.2, 126.8, 127.1, 127.3, 130.1, 130.4, 134.5, 140.4, 141.8, 144.6。
【０１１０】
−化合物（Ａ−４）の合成−
３００ｍｌの４口フラスコを窒素置換し、化合物（Ａ−３）９．９０ｇ、及び１−ブロモ−４−ｎ−ブチルベンゼンを４．９４ｇ取り、脱水トルエン１５０ｍｌに溶解させた。２０分間窒素バブリングした後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム０．０５ｇ、トリ（ｔ−ブチル）ホスフィンテトラフルオロボレート０．０３ｇ、及びナトリウム−ｔ−ブトキシド０．３０ｇを加え、１０時間還流した。その後、０℃まで冷却後、水１００ｍｌを加え、分液し、水相を１００ｍｌのトルエンで２回抽出した。そして、油相を合わせ、水、飽和食塩水で洗浄し、シリカゲル６０ｇを敷いたグラスフィルターで濾過した。その後、トルエンで洗浄した後、溶媒を留去し、１６．５２ｇの粗生成物を得た。得られた粗生成物にヘキサン５０ｍｌを加え結晶化し、メタノール５０ｍｌを加え、濾過した。得られた固体をヘキサン５０ｍｌで再結晶し、下記式（Ａ−４）：
で表される化合物（Ａ−４）１０．０９ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
ESI, positive 1218 （[M＋H]+、exact mass＝1217）
・1H-NMR(300MHz,THF-d8)
δ0.62(12H,t), 0.69(6H, t), 1.00-1.34--17(28H, m), 1.27-1.37(12H, ｍ), 2.26-2.35(12H, m), 5.67(2H, s), 5.93(2H, d), 6.38-6.47(8H, d), 6.56-6.61(10H, m), 6.64(8H, d), 6.79(6H, d)
・13C-NMR(300MHz,THF-d8)
δ15.5, 15.6, 24.6, 24.7, 31.3, 33.7, 33.9, 35.8, 37.6, 58.3, 116.0, 117.8, 121.2, 128.0, 129.1, 130.8, 138.5, 140.9, 142.2, 144.1, 145.0, 146.0。
【０１１１】
＜合成例２＞（化合物Ａの合成）
３００ｍｌのナス型フラスコに、化合物（Ａ−４）１０．０９ｇを取り、窒素置換した。その後、１００ｍｌのクロロホルムに溶解させ、０℃に冷却した。次に、２．８７ｇのＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）をＤＭＦ６ｍｌに溶解させた溶液を２０分で滴下した。その後、冷浴を外し、７時間攪拌後、０℃に冷却して０．２９ｇのＮＢＳを０．５ｍｌのＤＭＦに溶解し、滴下した。さらに、２．５時間攪拌後、水１００ｍｌを滴下し、分液し、水相をクロロホルムで抽出した。また、油相を水、飽和食塩水で洗浄した後、シリカゲル５０ｇを敷いたグラスフィルターを通して濾過し、得られた固体をトルエン洗浄した。その後、溶媒を留去したところ、１２．４８ｇの粗生成物を得た。水相及び油相から得られた粗生成物をヘキサン１８０ｍｌ、ヘキサン２００ｍｌの順番で再結晶し、下記式（Ａ）：
で表される化合物（Ａ）９．５５ｇを得た。
−分析データ−
・LC-MS
APCI, positive 1346 （[M＋H]+、exact mass＝1345）
・1H-NMR(300MHz,THF-d8)
δ0.90(12H,t), 0.97(6H, t), 1.30-1.45(28H, m), 1.57-1.69(12H, m), 2.56-2.61(12H, m), 5.95(2H, s), 6.16(2H, brs), 6.70(4H, d), 6.76(8H, d), 7.01(8H, d), 7.02(2H, m), 7.05(2H, m), 7.12(4H, d)
・13C-NMR(300MHz,THF-d8)
δ15.5, 15.6, 24.6, 24.7, 31.3, 33.6, 33.9, 35.7, 37.4, 37.6, 117.7, 129.4, 130.3, 132.0, 138.5, 142.7, 144.5。
【０１１２】
＜合成例３＞（高分子化合物１の合成）
窒素雰囲気下、化合物（Ａ）１．０１ｇ、２，７−ビス（１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン０．４０ｇ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．５ｍｇ、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド（アルドリッチ社製、商品名：Ａｌｉｑｕａｔ３３６）０．１０ｇ、及びトルエン１５ｍｌを混合し、９０℃に加熱した。この反応溶液に１７．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液４．１ｍｌを滴下し、２時間還流させた。反応後、フェニルホウ酸１０ｍｇを加え、さらに４．５時間還流させた。次いで、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で３時間撹拌した。冷却後、水１０ｍｌで２回、３重量％酢酸水溶液１０ｍｌで２回、水１０ｍｌで２回洗浄し、得られた溶液をメタノール１２０ｍＬに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン２５ｍＬに溶解させ、シリカゲルの上に活性アルミナを敷いたカラムを通すことにより精製した。得られたトルエン溶液をメタノール１２０ｍｌに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させて、高分子化合物１を０．８９ｇ得た。高分子化合物１のポリスチレン換算の数平均分子量は１．０×１０5であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．０×１０5であった。なお、仕込み原料より、高分子化合物１は、下記式で表される繰り返し単位を含むものと推定される。
【０１１３】
＜合成例４＞（高分子化合物２の合成）
窒素雰囲気下、化合物（Ａ）１．０ｇ、ビス[１，５−シクロオクタジエン]ニッケル錯体０．５５ｇ、２，２’−ビピリジル０．３１ｇ、及びＴＨＦ３５ｍｌを混合し、６０℃で３時間、加熱還流した。室温まで冷却した後、この反応溶液をメタノール４０ｍｌおよびアンモニア水溶液２０ｍｌの混合溶液に滴下し、０．５時間室温で撹拌させた。析出した固体をろ取した後、減圧乾燥した。得られた粗生成物をトルエン５０ｍｌに溶解させた後、ラジオライトカラムに通液後、アルミナカラムクロマトグラフィーにより精製した。得られたトルエン溶液を塩酸水溶液、アンモニア水溶液およびイオン交換水で洗浄した。水相を除去した後、有機相をメタノール７０ｍｌに滴下し、室温で０．５時間撹拌した。得られた沈殿物をろ取し、乾燥させて、高分子化合物２を０．４７ｇ得た。
高分子化合物２のポリスチレン換算の数平均分子量は４．２×１０4であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１．９×１０5であった。なお、仕込み原料より、高分子化合物２は、下記式で表される繰り返し単位を含むものと推定される。
【０１１４】
＜合成例５＞（正孔輸送性高分子材料の合成）
ジムロートを接続したフラスコに、下記式：
で表される化合物α ５．２５ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、下記式：
で表される化合物β ４．５５ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド（商品名：Ａｌｉｑｕａｔ３３６、アルドリッチ社製） ０．９１ｇ、及びトルエン６９ｍｌを加えてモノマー溶液を得た。窒素雰囲気下、モノマー溶液を加熱し８０℃で酢酸パラジウム ２ｍｇ、及びトリス（２−メチルフェニル）ホスフィン １５ｍｇを加えた。得られたモノマー溶液に、１７．５重量％炭酸ナトリウム水溶液 ９．８ｇを注加した後、１１０℃で１９時間攪拌した。次に、トルエン１．６ｍｌに溶解したフェニルホウ酸 １２１ｍｇを加え、１０５℃で１時間攪拌した。
有機相を水相と分離した後、有機相にトルエン３００ｍｌを加えた。有機相を３重量％酢酸水溶液 ４０ｍｌ（２回）、イオン交換水 １００ｍｌ（１回）の順番で洗浄し、水相と分離した。有機相にＮ，Ｎ−ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム三水和物 ０．４４ｇ、トルエン １２ｍｌを加え６５℃で４時間攪拌した。
あらかじめトルエンを通液したシリカゲル／アルミナカラムに反応生成物のトルエン溶液を通液し、この溶液をメタノール １４００ｍｌに滴下しポリマーを沈殿させ、沈殿物を濾過後乾燥し固体を得た。この固体をトルエン ４００ｍｌに溶解させ、メタノール １４００ｍｌに滴下しポリマーを沈殿させ、得られた沈殿物を濾過後乾燥し、正孔輸送性高分子化合物を６．３３ｇ得た。正孔輸送性高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量Ｍｎは８．８×１０4であり、重量平均分子量Ｍｗは３．２×１０5であった。
なお、正孔輸送性高分子化合物は、仕込み原料から、下記式：
で表される繰り返し単位を、１：１（モル比）で含むものと推定される。
【０１１５】
＜実施例１＞（組成物Ａの調製）
アクセプタ性化合物である２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンをジクロロメタン溶媒に、０．２重量％溶液となるように溶解させ、アクセプタ性化合物溶液１を調製した。
また、高分子化合物１をジクロロメタン溶媒に、０．３重量％溶液となるように溶解させ、高分子化合物１溶液を調製した。
これらのアクセプタ性化合物溶液１と高分子化合物１溶液とを、得られる溶液の高分子化合物１とアクセプタ性化合物の重量比が、８０：２０となるように混合し、組成物Ａ（混合溶液）を調製した。
【０１１６】
＜実施例２＞（有機電界発光素子１の作製）
組成物ＡをＩＴＯ陽極が成膜されたガラス基板上にスピンコート法により回転数８００ｒｐｍで塗布し、５０ｎｍの薄膜を成膜した。こうして得られたガラス基板Ａを２００℃で１０分間加熱処理して溶媒を蒸発させた。
次いで、正孔輸送性高分子材料を準備し、キシレン溶媒に０．８重量％溶液となるように溶解させ、正孔輸送性高分子材料溶液１を調製した。正孔輸送性高分子材料溶液１を、高分子化合物１とアクセプタ性化合物との混合膜を成膜したガラス基板上にスピンコート法によって膜厚が２０ｎｍとなるように成膜し、正孔輸送層とした。こうして得られたガラス基板Ｂを２００℃で１５分加熱処理して溶媒を蒸発させた。
【０１１７】
次いで、高分子発光材料（サメイション株式会社製、商品名：ＢＰ３６１）を準備し、キシレン溶媒に、１．２重量％溶液となるように溶解させ、高分子発光材料溶液１を調製した。高分子発光材料溶液１をガラス基板Ａ上にスピンコート法によって膜厚が７０ｎｍとなるように成膜し、発光層とした。こうして得られたガラス基板Ｃを１３０℃で２０分加熱処理して溶媒を蒸発させた。
【０１１８】
次いで、ガラス基板Ｃ上に真空蒸着装置でバリウムを５ｎｍ、次に、アルミニウムを８０ｎｍ堆積させ陰極とし、ガラス基板Ｄ（陰極形成済み）を得た。その後、エポキシ樹脂と封止用ガラス板を用いて、ガラス基板Ｄを封止し、有機電界発光素子１を作製した。
【０１１９】
＜実施例３＞（組成物Ｂの調製）
実施例１において、高分子化合物１の代わりに高分子化合物２を用いる以外は実施例１と同様にして調製した組成物を組成物Ｂとした。
【０１２０】
＜実施例４＞（有機電界発光素子２の作製）
実施例２において、組成物Ａの代わりに組成物Ｂを用いる以外は実施例２と同様にして作製した有機電界発光素子を有機電界発光素子２とした。
【０１２１】
＜合成例５＞（高分子化合物３の合成）
Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブロモフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブチルフェニル）−１，４−フェニレンジアミンを、Polymer Preprints 2001, 42(2), 587に記載の方法で合成した。
窒素雰囲気下、Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブロモフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブチルフェニル）−１，４−フェニレンジアミン２．７３ｇ、２，７−ビス（１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン２．１１ｇ、酢酸パラジウム１．８ｍｇ、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン１１．３ｍｇ、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド（アルドリッチ社製、商品名：Ａｌｉｑｕａｔ３３６）０．５２ｇ、及びトルエン１５ｍｌを混合し、９０℃に加熱した。この反応溶液に１７．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液１０．９ｍｌを滴下し、６時間還流させた。反応後、フェニルホウ酸４９ｍｇを加え、さらに２時間還流させた。次いで、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。冷却後、水５０ｍｌで２回、３重量％酢酸水溶液５０ｍｌで２回、水５０ｍｌで２回の順番で洗浄し、得られた溶液をメタノール６２０ｍｌに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン１２０ｍｌに溶解させ、シリカゲルの上に活性アルミナを敷いたカラムを通すことにより精製した。得られたトルエン溶液をメタノール６２０ｍｌに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し乾燥させて、高分子化合物３を３．１９ｇ得た。高分子化合物３のポリスチレン換算の数平均分子量は４．２×１０4であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１．７×１０5であった。なお、仕込み原料より、高分子化合物３は、下記式で表される繰り返し単位を含むものと推定される。
【０１２２】
＜合成例６＞（高分子化合物４の合成）
不活性雰囲気下、Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブロモフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−ブチルフェニル）−１，４−フェニレンジアミン（１０．２３８ｇ）、２，２’−ビピリジル（６．３２５ｇ）をあらかじめアルゴンでバブリングした、脱水テトラヒドロフラン４１０ｍＬに溶解した。この溶液を６０℃まで昇温後、ビス（１、５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）｛Ｎｉ（ＣＯＤ）2｝（１１．１４０ｇ）を加え、攪拌し、５時間反応させた。この反応液を室温まで冷却し、２５重量％アンモニア水５４ｍＬ／メタノール４１０ｍＬ／イオン交換水４１０ｍＬ混合溶液中に滴下して１時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥し、トルエン４５０ｍｌに溶解させた。溶解後、ラヂオライト１．８ｇを加えて３０分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行った。次に、４重量％アンモニア水８９０ｍＬを加え、２時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約８９０ｍＬを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。その後、有機層をメタノール１４００ｍｌに注加して０．５時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥させて、高分子化合物４を６．７２ｇ得た。また、高分子化合物４のポリスチレン換算の数平均分子量Ｍｎは８．６×１０3であり、重量平均分子量Ｍｗは９．７×１０4であった。なお、仕込み原料より、高分子化合物４は、下記式で表される繰り返し単位を含むものと推定される。
【０１２３】
＜比較例１＞（組成物Ｃの調製）
実施例１において、高分子化合物１の代わりに高分子化合物３を用いる以外は、実施例１と同様にして調製した組成物を組成物Ｃとした。
【０１２４】
＜比較例２＞（有機電界発光素子３の作製）
実施例２において、組成物Ａの代わりに組成物Ｃを用いる以外は、実施例２と同様にして作製した有機電界発光素子を有機電界発光素子３とした。
【０１２５】
＜比較例３＞（組成物Ｄの調製）
実施例１において、高分子化合物１の代わりに高分子化合物４を用いる以外は、実施例１と同様にして調製した組成物を組成物Ｄとした。
＜比較例４＞（有機電界発光素子４の作製）
実施例２において、組成物Ａの代わりに組成物Ｄを用いる以外は、実施例２と同様にして作製した有機電界発光素子を有機電界発光素子４とした。
【０１２６】
＜素子評価＞
−測定１−
定電圧・電流電源を準備して、有機電界発光素子１〜４のＩＴＯ陽極を電源の陽極に、アルミニウム陰極を電源の陰極に接続して、電圧を印加し、電流注入を行った。発光輝度１ｃｄ／ｍ2時の電圧、及び発光輝度１６００ｃｄ／ｍ2による連続駆動時の輝度半減寿命を測定した。得られた結果を表１に示す。
【０１２７】
【表１】
【０１２８】
−評価１−
表１から分かるとおり、本発明の組成物を用いた有機電界発光素子１、２は、その他の組成物を用いた有機電界発光素子３、４と比較して、発光輝度１ｃｄ／ｍ2時の電圧（発光開始電圧）が低下し、また輝度半減寿命が長くなると認められる。従って、本発明の組成物は、正孔注入性、素子寿命が優れていると認められる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）：
（式中、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に、単環の芳香環又は縮合した芳香環を表し、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に、１価の基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1及びＲ4は、置換基を有していてもよい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基は、置換基を有していてもよい。）
で表される化合物、その残基を有する化合物、又は下記式（２）：
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、前記と同じ意味を有する。但し、Ａ環及びＣ環は、それぞれ結合手を有する。）
で表される繰り返し単位を含む化合物と、アクセプタ性化合物とを含む組成物。
【請求項２】
前記Ａ環、Ｂ環及びＣ環が、置換基を有していてもよい単環の芳香環である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が、置換基を有していてもよいアリール基である請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
さらに、下記式（３）：
（式中、Ａｒ1はアリーレン基又は２価の複素環基を表す。Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、１価の複素環基又はシアノ基を表す。ｎは０又は１を表す。Ａｒ1、Ｒ7及びＲ8は、置換基を有していてもよい。）
で表される繰り返し単位を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記式（３）で表される繰り返し単位が、下記式（４−１）：
（式中、Ｃ4環及びＣ5環はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表し、２つの結合手はそれぞれＣ4環又はＣ5環上に存在し、Ｒｗ及びＲｘはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基又はヘテロアリールチオ基を表す。Ｒｗ及びＲｘは、置換基を有していてもよい。）
で表されるものである請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物が、さらに、下記式（５−１）、（５−２）及び（５−３）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種類の繰り返し単位を含む化合物である請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
（式中、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5はそれぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表す。Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8はそれぞれ独立に、アリール基又は１価の複素環基を表す。Ｂ及びｂはそれぞれ独立に、０又は正の整数を表す。Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ5、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8は置換基を有していてもよい。）
（式中、Ｄ環及びＥ環はそれぞれ独立に、芳香環を表す。Ｙ1は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。Ｒ20は１価の基を表す。Ｄ環及びＥ環は、それぞれ結合手を有する。Ｄ環、Ｅ環、Ｙ1及びＲ20は、置換基を有していてもよい。）
（式中、Ｙ2は−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。）
【請求項７】
前記アクセプタ性化合物が、キノン系化合物、遷移金属錯塩系化合物、有機閉殻陰イオン性化合物、シアノ基とニトロ基を有するフルオレン系化合物、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル及びブロマニルからなる群から選ばれるものである請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
前記アクセプタ性化合物が、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン、９−ジシアノメチレン−２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル及びブロマニルからなる群から選ばれるものである請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記アクセプタ性化合物の割合が、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、又は前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物１００重量部に対して、０．１〜１００重量部である請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物を用いてなる層を有する有機電界発光素子。
【請求項１】
下記式（１）：
（式中、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に、単環の芳香環又は縮合した芳香環を表し、Ｒ1及びＲ4はそれぞれ独立に、１価の基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1及びＲ4は、置換基を有していてもよい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6で表されるアリール基、アリールアルキル基、アルケニル基、アルキニル基は、置換基を有していてもよい。）
で表される化合物、その残基を有する化合物、又は下記式（２）：
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、前記と同じ意味を有する。但し、Ａ環及びＣ環は、それぞれ結合手を有する。）
で表される繰り返し単位を含む化合物と、アクセプタ性化合物とを含む組成物。
【請求項２】
前記Ａ環、Ｂ環及びＣ環が、置換基を有していてもよい単環の芳香環である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が、置換基を有していてもよいアリール基である請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
さらに、下記式（３）：
（式中、Ａｒ1はアリーレン基又は２価の複素環基を表す。Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、１価の複素環基又はシアノ基を表す。ｎは０又は１を表す。Ａｒ1、Ｒ7及びＲ8は、置換基を有していてもよい。）
で表される繰り返し単位を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記式（３）で表される繰り返し単位が、下記式（４−１）：
（式中、Ｃ4環及びＣ5環はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表し、２つの結合手はそれぞれＣ4環又はＣ5環上に存在し、Ｒｗ及びＲｘはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、２置換アミノ基、３置換シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、１価の複素環基、置換カルボキシル基、ヘテロアリールオキシ基又はヘテロアリールチオ基を表す。Ｒｗ及びＲｘは、置換基を有していてもよい。）
で表されるものである請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物が、さらに、下記式（５−１）、（５−２）及び（５−３）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種類の繰り返し単位を含む化合物である請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
（式中、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5はそれぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表す。Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8はそれぞれ独立に、アリール基又は１価の複素環基を表す。Ｂ及びｂはそれぞれ独立に、０又は正の整数を表す。Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ5、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8は置換基を有していてもよい。）
（式中、Ｄ環及びＥ環はそれぞれ独立に、芳香環を表す。Ｙ1は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。Ｒ20は１価の基を表す。Ｄ環及びＥ環は、それぞれ結合手を有する。Ｄ環、Ｅ環、Ｙ1及びＲ20は、置換基を有していてもよい。）
（式中、Ｙ2は−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。）
【請求項７】
前記アクセプタ性化合物が、キノン系化合物、遷移金属錯塩系化合物、有機閉殻陰イオン性化合物、シアノ基とニトロ基を有するフルオレン系化合物、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル及びブロマニルからなる群から選ばれるものである請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
前記アクセプタ性化合物が、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン、９−ジシアノメチレン−２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル及びブロマニルからなる群から選ばれるものである請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記アクセプタ性化合物の割合が、前記式（１）で表される化合物、その残基を有する化合物、又は前記式（２）で表される繰り返し単位を含む化合物１００重量部に対して、０．１〜１００重量部である請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物を用いてなる層を有する有機電界発光素子。
【公開番号】特開２００９−１４９８４６（Ｐ２００９−１４９８４６Ａ）
【公開日】平成２１年７月９日（２００９．７．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２６２５８４（Ｐ２００８−２６２５８４）
【出願日】平成２０年１０月９日（２００８．１０．９）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【出願人】（５０６０６１６６８）サメイション株式会社 (51)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月９日（２００９．７．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１０月９日（２００８．１０．９）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【出願人】（５０６０６１６６８）サメイション株式会社 (51)
【Ｆターム（参考）】
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