ディスプレイ用フィルター
【課題】低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供する。
【解決手段】基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）で構成され、かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、前記表面層は、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【解決手段】基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）で構成され、かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、前記表面層は、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置には、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的としたディスプレイ用フィルターがディスプレイの視認側に配置される。特にＰＤＰはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念され、日本ではＶＣＣＩ（情報処理装置等電波障害自主規制協議会）、米国ではＦＣＣ（米国連邦通信委員会）等の基準値内に抑えることが規格化されている。
【０００３】
一方、プラズマディスプレイの低価格化に伴って、ディスプレイ用フィルターも年々低価格化しており、コストダウンの要求も厳しくなっている。一般的なディスプレイ用フィルターは、プラスチックフィルム等の基材上に、ハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を有する光学機能性フィルムと、プラスチックフィルム等の基材上に導電層（電磁波遮蔽層）が形成された電磁波遮蔽フィルムとを接着層を介して積層して製造されているが、この２枚の基材からなるディスプレイ用フィルターに対して、１枚のみの基材で構成することによって低価格化が可能となる。
【０００４】
１枚のみの基材からなるディスプレイ用フィルターの１つの構成として、基材上に形成された導電性メッシュからなる導電層を被覆するようにハードコート層や反射防止層等の機能層を配置する態様が挙げられる。導電性メッシュは、スパッタや真空蒸着で形成された金属薄膜に比べて、低抵抗の導電層を比較的低コストで得られるということから好ましく用いられている。
【０００５】
導電性メッシュからなる導電層を機能層で被覆したディスプレイ用フィルターが知られている。例えば、導電性メッシュ上にハードコート、防眩層あるいは反射防止層等の硬化層が直接に配置された透明導電性ハードコートフィルムが特許文献１に記載されており、また、導電性メッシュ上にハードコート層、あるいはハードコート層と反射防止層を積層したディスプレイ用フィルターが特許文献２に記載されており、また、金属パターン層（導電性メッシュ）の凹凸を平坦化するための平坦化層と反射防止層を積層した光学フィルターが特許文献３に記載されている。
【０００６】
ディスプレイ用フィルターを構成する導電性メッシュは、通常、金属で形成されているために、その金属光沢が、ディスプレイの表示画像の視認性を低下させるという問題がある。即ち、蛍光灯などの外光の映り込み像が鮮明になって表示画像の視認性が低下するという問題がある。従って、導電性メッシュの金属光沢を抑制するために、導電性メッシュの表面に黒化層を設けることが一般に行われている。黒化層の形成方法として、導電性メッシュを構成する金属層表面を酸化処理して黒化する方法（例えば特許文献４）、導電性メッシュを構成する金属層の表面に黒色の金属酸化物層を蒸着法やメッキ法で形成する方法（例えば特許文献５、６）、あるいは導電性メッシュを構成する金属層（例えば銅メッキ層）上にＮｉ−Ｓｎ合金のメッキを施して黒色化する方法（例えば特許文献７）が知られている。
【特許文献１】特開２００７−１４０２８２号公報
【特許文献２】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献３】特開平１１−３３７７０２号公報
【特許文献４】特開２００６−１９１０１０号公報
【特許文献５】特開２０００−２２３８８６号公報
【特許文献６】特開２００１−１２７４８５号公報
【特許文献７】特開２００６−１７３１８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記した、特許文献４の方法（導電性メッシュを構成する金属層表面を酸化処理する方法）は、導電性メッシュの金属光沢を抑制するという意味では有効であるが、その反面、酸化処理液は高アルカリであるために基材と導電性メッシュの密着性を低下させるという問題があり、特に本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる金属層の製法として好適な気相製膜法で形成された金属層を用いた導電性メッシュは、その影響を受けやすいという問題がある。また、酸化処理で形成された黒化層は脆弱であるために脱離しやすく、ディスプレイ用フィルターの製造工程の中の導電性メッシュ上に表面層を塗工する工程で、黒化層の一部が脱離して、異物としてディスプレイ用フィルター上に残留したり、ロール等の搬送経路を汚染するという問題がある。また更に、黒化層として十分な性能を得るためには１μｍ程度の厚みが必要であり、その黒化層の厚み分、金属層の厚みが目減りし、電磁波遮蔽性が低下するという問題がある。
【０００８】
一方、上記の特許文献５〜７の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）は、導電性メッシュの金属光沢を抑制するのに十分な黒化層（実際は黒色を呈しない場合が多い）を形成することは難しいという問題がある。しかし、その反面、特に蒸着法等の気相製膜法で黒化層を形成する方法は、前述の酸化処理のような湿式処理を必要としないので、作業環境の面で好ましく、また、０．１μｍ以下という薄膜の形成が容易にできるという利点があり、厚みが小さい導電性メッシュを作成する上で有益である。
【０００９】
上述した、従来から一般的に採用されている、２枚基材のディスプレイ用フィルターの場合は、導電性メッシュに対して視認側（観賞側）には、粘着剤層、近赤外線遮蔽層、色補正層、プラスチックフィルム等からなる基材、あるいは反射防止層等の表面層が配置されているので、上記した後者の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）で形成された黒化層であっても、導電性メッシュの金属光沢を抑制するという観点からはあまり問題にはならなかった。
【００１０】
しかしながら、本発明が対象とするディスプレイ用フィルターは、導電性メッシュに対して視認側には、プラスチックフィルム基材や粘着剤層等の導電性メッシュの金属光沢を軽減する層が存在しないので、上記した後者の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）で形成された黒化層では、導電性メッシュの金属光沢を抑制することは不十分であり、表示画像の視認性の低下を招くという問題のあることが新たに判明した。
【００１１】
また、上述した導電性メッシュを被覆するように機能層を積層したディスプレイ用フィルターに関する特許文献１〜３についても、導電性メッシュの金属光沢が起因する表示画像の視認性の低下を抑制するために機能層（ハードコート層、反射防止層、防眩層等）に粒子を含有させることは記載されていない。
【００１２】
そこで、本発明は、上記した問題に鑑み、低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、
前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）とで構成され、
かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、
前記表面層は、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
２）前記表面層が、前記透光性粒子を表面層の全成分１００質量％に対して２〜２０質量％含有する、前記１）に記載のディスプレイ用フィルター。
３）前記表面層が、更に着色剤を含有する、前記１）または２）に記載のディスプレイ用フィルター。
４）前記表面層の中心線平均粗さＲａが、３００〜１０００ｎｍである、前記１）〜３）のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
５）前記金属層（Ａ）を構成する特定金属が、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、前記１）〜４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
６）前記層（Ｂ）を構成する金属化合物が、金属酸化物、金属硫化物、及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である、前記１）〜５）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
７）前記表面層が、少なくともハードコート層を含み、該ハードコート層が、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有する、前記１）〜６）のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
８）前記ハードコート層が、更に着色剤を含有する、前記７）に記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材上に導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有する。ここで導電性メッシュ上の表面層は、該導電性メッシュを被覆するように表面層が形成される。また表面層とは、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときに、視認側（鑑賞者側）の最表面となる層である。表面層の詳細については後述する。
【００１６】
（導電性メッシュ）
本発明にかかる導電性メッシュは、基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）で構成される。
【００１７】
ここで、金属層（Ａ）を構成する特定金属は、導電性が高い金属が好ましく、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、更に、銀、銅、アルミニウムの中のいずれかの金属が好ましく、特に、銅が好ましい。
【００１８】
層（Ｂ）には、金属層（Ａ）の特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物が用いられる。異種の金属としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、チタン等からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属が挙げられ、金属層（Ａ）の特定金属とは異なる金属が選択される。また金属化合物としては、上記の異種金属で例示された金属の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、及びフッ化物からなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられる。これらの中でも、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物が好ましく用いられる。なお、金属層（Ａ）の特定金属と、層（Ｂ）の金属化合物中の金属としては同じ金属であってもよく、例えば、金属層（Ａ）が銅で構成されている場合に、層（Ｂ）が酸化銅で構成される態様などは、本発明に含まれる。
【００１９】
上記の金属酸化物としては、ＩＴＯ、ＡＴＯ、酸化銅、酸化クロム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化銀、酸化コバルト、酸化水銀、酸化金、酸化イリジウム等が好ましく用いられる。
【００２０】
上記の金属窒化物としては、窒化アルミニウム、窒化チタン等が好ましく用いられる。
【００２１】
上記の金属硫化物としては、硫化クロム、硫化銅、硫化パラジウム、硫化ニッケル、硫化コバルト、硫化鉄、硫化タンタル、硫化チタン等が好ましく用いられる。
【００２２】
本発明にかかる導電性メッシュを構成する金属層（Ａ）の厚みは、０．５〜４μｍである。金属層（Ａ）は導電性メッシュの電磁波遮蔽性能を発現する層であり、十分な電磁波遮蔽性能を確保するためには、厚みが０．５μｍ以上必要であり、厚みが１μｍ以上であることが好ましい。一方、導電性メッシュの厚みは、金属層（Ａ）の厚みに大きく依存するので、金属層（Ａ）の厚みが４μｍより大きくなると、導電性メッシュの合計厚みが大きくなり、表面層の塗工性が低下し、また、導電性メッシュのコスト、加工性の点で不利となる。
【００２３】
本発明の導電性メッシュには、従来の一般的な黒化処理（酸化処理）は特に施す必要性はない。つまり、この黒化処理に代えて、層（Ｂ）を金属層（Ａ）の上に積層することによって、金属層（Ａ）の金属光沢を低減することができるからである。層（Ｂ）は導電性メッシュの最表面に配置することが好ましい。
本発明の導電性メッシュには、従来の一般的な黒化処理（酸化処理）は必ずしも施す必要はない。つまり、この黒化処理に代えて、層（Ｂ）を金属層（Ａ）の上に積層し、さらに平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有した表面層を設けることによって、金属層（Ａ）の金属光沢に起因する視認性の低下を抑制することができるからである。本発明において、層（Ｂ）は導電性メッシュの最表面に配置することが好ましい。
【００２４】
導電性メッシュを構成する層（Ｂ）は、金属層（Ａ）の金属光沢を低減するため、あるいは、金属層（Ａ）の色目を変化させるための層である。本発明において、層（Ｂ）は、０．１μｍ以下の極薄膜である。層（Ｂ）の厚みが０．１μｍより大きくなると、コスト、加工性の点で不利である。また、金属層（Ａ）と層（Ｂ）の屈折率差で金属層（Ａ）の色目を変化させるためには、層（Ｂ）は光透過性が必要であり、層（Ｂ）の厚みが０．１μｍより大きくなると、光透過性が低下し、上記目的を達成できなくなる。
【００２５】
例えば、金属層（Ａ）として銅を用いた場合、その赤味がかった色合いを、異種金属で構成される層（Ｂ）を積層することによって、所望する色目に変更することができる。
【００２６】
上記した層（Ｂ）の目的を達成するためには、層（Ｂ）の厚みは、０．００５μｍ以上必要であり、好ましくは０．０１μｍ以上である。
【００２７】
本発明にかかる、導電性メッシュの厚み（金属層（Ａ）と層（Ｂ）を含む導電性メッシュの合計厚み）は、４μｍが好ましく、３．５μｍ以下がより好ましく、特に３μｍ以下が好ましい。一方、導電性メッシュの合計厚みの下限としては、０．６μｍ以上が好ましく、０．８μｍ以上がより好ましく、特に１μｍ以上が好ましい。
【００２８】
本発明にかかる導電性メッシュの製造方法について、以下に説明する。
【００２９】
導電性メッシュを製造するに際し、予め、基材上に特定金属からなる金属層（Ａ）と該特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）が、基材側から金属層（Ａ）、層（Ｂ）の順に積層される。金属層（Ａ）と層（Ｂ）の積層方式としては、気相製膜法を用いることが好ましい。気相製膜法は、層（Ｂ）のような極薄膜を均一に精度よく製膜するのに適しており、また、金属層（Ａ）と層（Ｂ）を気相製膜法で、連続的に製膜することができ、生産性の面で有利である。また、気相製膜法は、湿式メッキ法に比べて、作業環境面で好ましい。
【００３０】
気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。
【００３１】
基材上に気相製膜法で積層された、金属層（Ａ）と層（Ｂ）のパターン加工方法について、２つの好ましい加工方法を説明する。以下の説明において、金属層（Ａ）と層（Ｂ）が積層されたものを、単に含金属積層膜と言う。
【００３２】
１つのパターン加工方法は、含金属積層膜をエッチング法によってメッシュパターン状に加工する方法である。もう１つの加工方法は、予め基材上に、溶剤に可溶な樹脂を用いて導電性メッシュのパターンとは逆パターンを形成し、次いで、基材のパターン形成面に気相製膜法で含金属積層膜を積層し、溶剤にて逆パターンの樹脂とその上の含金属積層膜を除去することによって、メッシュパターンの含金属積層膜を形成する方法である。
【００３３】
前者のパターン加工方法について詳細に説明する。かかる加工方法は、基材上に気相製膜法で積層された含金属積層膜の上に、フォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、含金属積層膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、含金属積層膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。
【００３４】
感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は含金属積層膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。
【００３５】
エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【００３６】
後者のパターン加工方法について詳細に説明する。このパターン加工方法は、一般にリフトオフと呼ばれる方法であり、基材上に予め剥離可能な樹脂を用いて導電性メッシュとは逆パターンの樹脂層を形成し、その上から含金属積層膜を積層し、次いで、前記逆パターンの樹脂層を剥離する方法である。前記の逆パターンの樹脂層を剥離するときに、同時に樹脂層上の含金属積層膜も一緒に剥離されるため、樹脂層を形成しなかった部分にのみ含金属積層膜のパターンが形成される。従って、この加工方法は、剥離可能な樹脂層は導電性メッシュとは逆パターンに形成する必要がある。
【００３７】
基材上に、予め、導電性メッシュパターンとは逆パターンに形成される、剥離可能な樹脂層に用いられる樹脂としては、溶剤に可溶な樹脂が好ましく用いられる。かかる樹脂としては、水溶性樹脂、有機溶剤に可溶な樹脂、及びアルカリに可溶な樹脂を用いることができる。これらの樹脂の中でも、作業環境等の観点から、水溶性樹脂が好ましく、特に水溶性の高分子樹脂が好ましく用いられる。
【００３８】
水溶性高分子樹脂としては、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニル−マレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロースが挙げられ、これらの水溶性高分子樹脂の１種もしくは２種以上の混合物を用いることができる。
【００３９】
有機溶剤に可溶な樹脂としては、例えば、ポリイミドエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ポリヒダントイン樹脂、ポリパラバン樹脂や溶剤可溶型ポリイミド樹脂などがある。またシリコーングリースや油性インクなどを用いることもできる。
【００４０】
アルカリに可溶な樹脂としては一般的なレジストを用いることが可能である。レジストを構成するバインダポリマーとしては、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１,２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１，３ −ブタジエン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１,３−ブタジエン、ポリ−１,３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステルを使用することができる。さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。
【００４１】
剥離可能な樹脂を用いて、基材上に導電性メッシュとは逆パターンの樹脂層を形成する方法としては、印刷法やフォトリソグラフィー法などを用いることができる。印刷法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット、凹版印刷、凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷など様々な方法を用いることができる。
【００４２】
フォトリソグラフィー法は、前述のエッチング法によるパターン加工方法で説明したフォトリソグラフィー法を用いることができる。
【００４３】
本発明にかかる導電性メッシュにおいて、金属層（Ａ）として、銅を用いる場合は、金属層（Ａ）と基材との接着性を向上させるために、基材と金属層（Ａ）との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル層を配置するのが好ましい。このニッケル層は、前述した気相製膜法で形成することが好ましい。このニッケル層は、金属層をパターン加工するときに、同じようにパターン加工され、導電性メッシュの一部を構成する。
【００４４】
本発明において、導電性メッシュの線幅は３〜３０μｍの範囲が好ましく、５〜２０μｍの範囲がより好ましく、特に５〜１２μｍの範囲が好ましい。導電性メッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、８０〜４００μｍの範囲がより好ましく、特に１００〜３００μｍの範囲が好ましい。ここで、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュの開口部のピッチを意味し、具体的には、１つの開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離である。導電性メッシュとして、開口部が正方形の格子状のメッシュパターンが一般的に用いられているが、開口部が正方形の格子状の導電性メッシュの場合は、そのピッチは、隣接する細線間の距離（正方形の向かい合う２辺の距離）となる。
【００４５】
導電性メッシュのメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、４角形からなる格子状メッシュパターン、６角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。
（表面層）
次に、導電性メッシュ上に積層される表面層について説明する。本発明にかかる表面層は、光学機能及び／または表面保護機能を有する層であることが好ましい。光学機能としては、反射防止機能、防眩機能等があり、表面保護機能としては、ハードコート機能、防汚機能等がある。
【００４６】
また、本発明の表面層は、導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下を抑制するための層である。上述したように、導電性メッシュを構成する金属層（Ａ）の金属光沢を防止し、表示画像の視認性の低下を抑制するには、極薄膜の層（Ｂ）のみでは不十分であり、それを補うために本発明の表面層、即ち、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有する表面層が配置される。
【００４７】
本発明にかかる表面層は、単一層で構成されてもよいし、複数層で構成されていてもよい。また、複数の機能を併せ持つ層で構成されてもよい。
【００４８】
本発明にかかる表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。この場合、ハードコート層のみで構成されていてもよいし、他の機能層、例えば反射防止層、防眩層、防汚層等との積層構成であってもよい。表面層が複数の積層構成の場合は、ハードコート層は、導電性メッシュに最も近い位置に配置されることが好ましい（つまり、導電性メッシュを被覆するようにハードコート層を形成することが好ましい。）。
【００４９】
本発明にかかる表面層は、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有する。かかる透光性粒子としては、無機系、有機系のものが挙げられるが、有機系材料により形成されるものが好ましい。透光性粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。
【００５０】
プラスチックビーズとしては、アクリル系、スチレン系、メラミン系、アクリル−スチレン系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系等が挙げられる。本発明では、透明性に優れるアクリル系を用いるのが好ましい。
【００５１】
また、透光性粒子の形状は球状（真球状、楕円状、など）のものが好ましく、より好ましくは真球状のものである。
【００５２】
表面層に含有する透光性粒子の平均粒子径としては、好ましくは１．５〜１５μｍであり、より好ましくは２〜１２μｍである。ここで、透光性粒子の平均粒子径は、体積基準の体積平均径であり、フィルターサンプルの光学顕微鏡写真を撮影して顕微鏡写真を解析することにより測定される。
【００５３】
表面層における透光性粒子の含有量は、表面層の全成分１００質量％に対して２〜２０質量％の範囲が好ましく、３〜１５質量％の範囲がより好ましく、更に３〜１２質量％の範囲が好ましく、特に３〜１０質量％の範囲が好ましい。なお、表面層が複数層で構成される場合も、表面層を構成する全ての層の全成分合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。また表面層が複数層で構成され、さらに複数層の一部の層にのみ透光性粒子が含有され、他の層には透光性粒子が含有されていない場合であっても、表面層を構成する全ての層の全成分の合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。
【００５４】
前述したように、表面層は少なくともハードコート層を含むことが好ましく、ハードコート層に上記した透光性粒子を含有させることが好ましい。ハードコート層に透光性粒子を含有させる場合の透光性粒子の含有量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して２〜２０質量％の範囲が好ましく、３〜１５質量％の範囲がより好ましく、更に３〜１２質量％の範囲が好ましく、特に３〜１０質量％の範囲が好ましい。
【００５５】
本発明において、表面層の中心線平均粗さＲａは３００〜１０００ｎｍの範囲であることが好ましく、４００〜９００ｎｍの範囲がより好ましく、特に５００〜８００ｎｍの範囲が好ましい。表面層の中心線平均粗さＲａは、上記した透光性粒子の平均粒子径、及び含有量を上記の範囲内で調整することによって制御することが好ましい。
【００５６】
本発明にかかる表面層は、更に着色剤を含有することが好ましい。表面層に着色剤を含有させることによって、導電性メッシュの金属光沢に起因する視認性に低下を更に改善することができる。かかる着色剤としては、表面層にニュートラルな色味を付けることができる、顔料、染料、色素などを用いることが好ましい。着色剤としては、黒色系のものが好ましく、例えば、カーボンブラック、黒鉛、黒色クロム、チタンブラック等が好ましく用いられる。また、下記の赤色顔料、緑色顔料、青色顔料を、２種以上混合して用いることもできる。
【００５７】
赤色顔料としてはＣｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ Ｎｏ．ピグメントレッド（以下、ＰＲと略す）９、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２５４等が、緑色顔料としてはＣｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ Ｎｏ．ピグメントグリーン（以下、ＰＧと略す）７、３６等が、青色顔料としてはＣｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ Ｎｏ．ピグメントブルー（以下、ＰＢと略す）１５：３、１５：４、１５：６、２１、２２、６０、６４等が挙げられる。
【００５８】
上記した、黒色、赤色、緑色、及び青色の顔料の粒子径としては、平均一次粒子径が５〜４００ｎｍの範囲のものが好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲のものがより好ましく、特に１０〜１００ｎｍの範囲のものが好ましい。ここで、平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装（株）製の「ナノトラック」を用いて測定することができる。
【００５９】
上記の着色剤の含有量は、表面層の全成分１００質量％に対して０．０１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、特に０．０５〜５質量％の範囲が好ましい。なお、表面層が複数層で構成される場合も、表面層を構成する全ての層の全成分合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。また表面層が複数層で構成され、さらに複数層の一部の層にのみ着色剤が含有され、他の層には着色剤が含有されていない場合であっても、表面層を構成する全ての層の全成分の合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。
【００６０】
本発明において、ディスプレイ用フィルター全体の可視光の視感透過率を、２５〜６５％の範囲に調整することが好ましく、３０〜６０％の範囲に調整することが好ましい。従って、表面層への着色剤の添加量についても、ディスプレイ用フィルター全体の視感透過率が上記の範囲になるように調整することが好ましい。
【００６１】
着色剤は、表面層を構成するいずれかの層に含有させることができ、表面層が複数構成の場合は、複数の層に含有させることができる。着色剤は、ハードコート層に含有させることが好ましい。
【００６２】
ハードコート層に着色剤を含有させる場合の着色剤の含有量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して０．０１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、特に０．０５〜５質量％の範囲が好ましい。
【００６３】
本発明の導電性メッシュは、従来のような、導電性メッシュの表面に完全な黒化層（酸化処理等による黒化層）を形成するものではないので、導電性メッシュの金属光沢の影響として、外光の映り込みを助長する場合がある。この外光の映り込みは、上記した本発明の表面層を導電性メッシュ上に積層することによって、効果的に抑制することができるようになる。
【００６４】
本発明にかかる導電性メッシュの厚みは、前述したように、４μｍ以下が好ましく、この厚みは、従来の一般的な導電性メッシュの厚み（１０μｍ程度）に比べて、小さいものである。従って、導電性メッシュ上に塗工形成される表面層の塗工性が良好となる。
本発明において、表面層の厚みは、１〜１５μｍの範囲が好ましく、２〜１２μｍの範囲がより好ましく、２．５〜１０μｍの範囲が特に好ましい。
【００６５】
（ハードコート層）
本発明にかかる表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。以下、本発明に用いることができるハードコート層について詳細に説明する。
【００６６】
本発明において、ハードコート層は、ディスプレイ用フィルターの耐擦傷性を高めると言う観点から、硬度が高いことが好ましい。ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
【００６７】
本発明におけるハードコート層は、樹脂成分としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーを含むことができる。かかる樹脂成分として、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂等が挙げられるが、性能、コスト、生産性などのバランスを考慮するとアクリレート系樹脂が好ましく適用される。
【００６８】
上記のアクリレート系の硬化性樹脂としては、多官能アクリレートを主成分とする硬化組成物であることが好ましい。多官能アクリレートとしては、１分子中に３個以上（好ましくは４個以上、更に好ましくは５個以上）の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体もしくはオリゴマー、プレポリマーを挙げることができる。ここで、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基を略して表示したものである。以降、「（メタ）・・・」は、上記と同義である。
【００６９】
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらは、１種または２種以上を混合して使用することができる。
【００７０】
これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーの使用割合は、ハードコート層の全成分（有機溶剤を除く）１００質量％に対して５０〜９０質量％の範囲が好ましく、５０〜８０質量％の範囲がより好ましい。
【００７１】
上記の化合物以外にハードコート層の剛直性を緩和させたり、硬化時の収縮を緩和させたりする目的で１〜２官能のアクリレートを併用するのが好ましい。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。
【００７２】
分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００７３】
（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート。
【００７４】
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート。
【００７５】
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート。
【００７６】
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパン。
【００７７】
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、更にアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類。
【００７８】
（ｆ）分子内に２個のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類。
【００７９】
分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−及びｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。
【００８０】
これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して１０〜４０質量％の範囲が好ましく、２０〜４０質量％の範囲がより好ましい。
【００８１】
また、ハードコート層の改質剤として、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、有機高分子化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、顔料あるいは安定剤などを用いることができ、これらは活性線または熱による反応を損なわない範囲内でハードコート層に含有させることができる。
【００８２】
本発明において、上記のハードコート層を硬化させる方法としては、例えば、活性線として紫外線等を照射する方法や高温加熱法等を用いることができ、これらの方法を用いる場合には、ハードコート層に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。
【００８３】
光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【００８４】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して、０．０１〜１０質量％の範囲が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２００℃以上の高温で熱硬化させる場合には熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。
【００８５】
ハードコート層には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルまたは２，５−ｔ−ブチルハイドロキノンなどの熱重合防止剤を加えることができる。熱重合防止剤の添加量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して、０．００５〜０．０５質量％の範囲が好ましい。
【００８６】
本発明で必要に応じて用いられる活性線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯または炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また更に、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【００８７】
本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、更に好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。
【００８８】
ハードコート層の硬化方法としては、ハードコート層に高い硬度を付与するという観点、生産性の観点から、活性線を照射する方法が好ましく、特に紫外線を照射する方法が好ましい。従って、本発明のハードコート層は、紫外線硬化型のハードコート層が好ましい。
【００８９】
また、ハードコート層は、高屈折率化することによって、後述する高屈折率層を兼ねることができる。ハードコート層を高屈折率化する手段としては、ハードコート層に、平均一次粒子径が１〜５０ｎｍ程度の金属酸化物微粒子を含有させること、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を含有させる方法が挙げられる。上記の金属酸化物微粒子としては、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が挙げられる。
【００９０】
ハードコート層の厚みは、１〜１５μｍの範囲が好ましく、２〜１２μｍの範囲がより好ましく、２．５〜１０μｍの範囲が特に好ましい。
（表面層を構成する他の機能層）
前述したように、本発明の表面層は、反射防止層、防汚層等の他の機能層を、ハードコート層上に積層することができる。また、ハードコート層に反射防止機能、防汚機能を付与することもできる。
（反射防止層）
反射防止層は、具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコーン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、または、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物あるいはシリコーン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものなどが挙げられる。
【００９１】
反射防止性能とコストのバランスのとれた構成としては、最表層から低屈折率層と高屈折率層を積層した構成が好ましいが、本発明においては、高屈折率層は積層されていなくてもよく、その場合は低屈折率層のみとなる。
【００９２】
上記した高屈折率層の屈折率としては、１．５〜１．８の範囲が好ましく、１．５５〜１．７の範囲がより好ましい。低屈折率層の屈折率としては、１．２５〜１．４５の範囲が好ましく、１．３〜１．４の範囲がより好ましい。
【００９３】
尚、上記屈折率は、シリコンウエハー上に乾燥膜厚が０．１μｍとなるように、測定対象となる層の塗料を塗布、乾燥、必要に応じて硬化して被膜を形成した後、位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍにおける屈折率を測定することによって求めることができる。
【００９４】
（高屈折率層）
高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、（メタ）アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。
【００９５】
かかる（メタ）アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（モノマー）を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。
【００９６】
高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。
【００９７】
かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、６，４’，４”−トリメトキシ−２、３−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等が挙げられる。
【００９８】
また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が好ましい。
【００９９】
また、高屈折率層には、屈折率が１．６以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。これによって高屈折率化が図られ、また帯電防止効果も得られる。
金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）である。
【０１００】
高屈折率層中の金属酸化物微粒子の含有量は、樹脂成分１００質量部に対して、０．１〜２０質量部の範囲が好ましい。
【０１０１】
上記金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は１〜５０ｎｍの粒子が好適に使用される。ここで、平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装（株）製の「ナノトラック」を用いて測定することができる。
【０１０２】
高屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。厚みの下限は、２０ｎｍ程度である。
【０１０３】
（低屈折率層）
低屈折率層は、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、ＭｇＦ2 、ＣａＦ2 、ＳｉＯ2 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。
【０１０４】
低屈折率層の１つの好ましい態様として、ＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、或いはＳｉＯ2ゾルを含むゾル液からＳｉＯ2ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。
【０１０５】
低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
【０１０６】
かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。
【０１０７】
多官能性シラン化合物として多官能性フッ素非含有シラン化合物を用いることができる。かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの４官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。
【０１０８】
また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜５０ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましい。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。
【０１０９】
かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。
【０１１０】
低屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。厚みの下限は２０ｎｍ程度である。
【０１１１】
（防汚層）
本発明にかかる表面層には、防汚機能を付与することができる。防汚機能は、ハードコート層あるいは反射防止層に付与されてもよいし、防汚層を新たに積層してもよい。
防汚機能は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層を新たに設ける場合の防汚層の厚みは、１〜１０ｎｍの範囲が好ましい。
【０１１２】
（基材）
本発明のディスプレイ用フィルターには、基材が用いられるが、該フィルターは１枚のみの基材で構成されることが好ましい。本発明にかかる基材としては、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。
【０１１３】
かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から８０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。またプラスチックフィルムとしては、複数の層を積層した積層フィルムを用いることもできる。
【０１１４】
本発明に用いられるプラスチックフィルムは、導電性メッシュ、表面層あるいは後述する近赤外線遮蔽層との密着性（接着強度）を強化するためのプライマー層（易接着層、下引き層）を設けておくのが好ましい。
【０１１５】
（ディスプレイ用フィルター）
本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも一つの機能を有する層を付与するのが好ましい。
【０１１６】
近赤外線遮蔽機能は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、プラスチックフィルムや機能層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。
【０１１７】
本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいはハードコート層や後述する接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。
【０１１８】
近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【０１１９】
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。
【０１２０】
近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。
【０１２１】
色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、ハードコート層あるいは後述する接着層に色素を含有させてもよい。
【０１２２】
可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材、近赤外線遮蔽層、ハードコート層、あるいは後述する接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。
【０１２３】
上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に設けることができる。
【０１２４】
本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。本発明のディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。
上記の高剛性基板は、通常、０．５〜５ｍｍの厚みを有する基板であって、かかる高剛性基板は、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する基材には含まれない。
【０１２５】
接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。
【０１２６】
接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。
【０１２７】
以下に、本発明のディスプレイ用フィルターの構成例のいくつかを例示するが、本発明はこれらに限定されることはない。尚、下記構成の中で、接着層がディスプレイ側となる。
１）接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層
２）接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層／反射防止層
３）接着層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層
４）接着層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層／反射防止層
上記１）及び２）の近赤外線遮蔽層は、色調調整機能を併せ持つものであり、上記３）及び４）の接着層は、近赤外線遮蔽機能と色調調整機能を併せ持つものである。また、上記１）及び３）のハードコート層は、防眩機能を併せ持つことができる。
【実施例】
【０１２８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例で作製されたディスプレイ用フィルターの各サンプルの評価方法を以下に示す。
（１）表面層の中心線平均粗さＲa
表面層の中心線平均粗さＲaを、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。
【０１２９】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所以上について計測し、その平均値を表面層のＲa値とした。
・測定条件：
送り速さ；０．５ｍｍ／Ｓ
カットオフ値λｃ；
Ｒaが２０ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．０８ｍｍ
Ｒaが２０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．２５ｍｍ
Ｒaが１００ｎｍより大きく２０００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．８ｍｍ
評価長さ；８ｍｍ
尚、上記測定条件で測定するに際し、まずカットオフ値λｃ＝０．８ｍｍで測定し、その結果、Ｒａが１００ｎｍより大きい場合はそのＲａを採用する。一方、上記測定の結果、Ｒａが１００ｎｍ以下の場合は、λｃ＝０．２５ｍｍで再測定し、その結果、Ｒａが２０ｎｍより大きい場合は、そのＲａを採用する。一方、上記の再測定の結果、Ｒａが２０ｎｍ以下の場合は、λｃ＝０．０８ｍｍで測定し、そのＲａを採用する。
・Ｒａ：表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）でＲaと定義されたパラメータ。ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づいて測定した。
【０１３０】
（２）導電性メッシュの厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧２６ｋＶ、観察倍率３０００倍）にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測した。
【０１３１】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとした。
【０１３２】
（３）導電性メッシュの線幅及びピッチ
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電性メッシュのピッチを測長した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの線幅、ピッチとした。なお、導電性メッシュのピッチとは、メッシュ構造のある開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。
【０１３３】
（４）表面層（ハードコート層）の厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２０００倍）にて観察し、表面層の厚みを計測する。
【０１３４】
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所を選び、図１に示すように、任意の２箇所の開口部上に存在する表面層最下点（表面層の視認側の表面の最下点）と表面層下部（表面層の基材側の表面）との距離の平均値（（Ｈｒ１＋Ｈｒ２）／２）を算出し、１０箇所における平均値を表面層の厚み（Ｈｒ）とする。なおＨｒ１、Ｈｒ２は、基材表面に対して法線とする。
【０１３５】
また、表面層中の粒子濃度が低く顕微鏡視野内に凸構造が１つしか見られない場合には、図２に示すように凸部を視野の中央部に配置し、視野端部の表面層厚み（Ｈｒ１、Ｈｒ２）を用いて、同様の方法にて表面層厚みを算出する。
【０１３６】
表面層下部とその下の層の境界が確認しにくい場合には、確認しやすい場所を選んで観測する。
（５）透光性粒子の平均粒子径
ディスプレイ用フィルターサンプルを光学顕微鏡（検査・研究顕微鏡 ＤＭＬＢ ＨＣ ／ライカマイクロシステムズ社製）にて観察し、顕微鏡写真を撮る（撮像条件：透過モード、倍率；５００倍、コンデンサユニット；最下位置に設定）。フィルターの任意の１０ヶ所で写真を撮像し、得られた１０枚の写真の任意の１００μｍ四方の領域内において、粒子の全形が上記領域内に存在するすべての粒子をスケールで測定して個々の粒子の粒子径（ｄｍ）（単位：μｍ）を求め、ｄｍを四捨五入したデータ群を用いて、１μｍ毎の個数分布を得る（ｄｍを四捨五入した値（ｄ）が、１μｍ毎の個数分布における各チャンネルの代表値となる）。この個数分布データを用いて下記式により体積基準の体積平均径を算出する。尚、粒子の形状が円形でない場合は、粒子の最大径をその粒子の粒子径とした。
【０１３７】
Ｄ ＝ Σ（ｖｎ×ｄｎ） ／ Σ ｖｎ
（ ｖｎ ＝（Ｎｎ×ｄｎ３）／Σ（Ｎｎ×ｄｎ３） ）
Ｄ：透光性粒子の平均粒子径（μｍ）
ｖｎ：１μｍ毎の個数分布における、各チャンネルの体積基準％
Ｎｎ：各チャンネルにおける個数
ｄｎ：各チャンネルの代表値
（６）表示画像の視認性の評価
プラズマテレビ（松下電器産業（株）社製のＴＨ−４２ＰＸ５００）のディスプレイパネルから純正の全面フィルターを取り外した後、以下の実施例及び比較例で作製したサンプルを、表面層が観賞側となるようにパネルに直に設置した。さらに、外光として３波長蛍光灯（東芝ライテック（株）製のネオラインラピッドマスター；３波長形昼白色ＦＬＲ４０Ｓ Ｎ−ＥＤＬ／Ｍ）を、パネルの鉛直照度と水平照度がそれぞれ１００ルクスと７０ルクスとなるように設置した。
【０１３８】
次に、パネル点灯の状態で、パネルから１．３ｍ離れた位置で、表示画像の視認性を目視で、以下の基準で評価した。
◎：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が見えない（極めて良）
○：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が不鮮明である（良）
△：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が僅かに不鮮明である（可）
×：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が鮮明に見える（不可）
（７）視感透過率
ディスプレイ用フィルターサンプルについて、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、観察者側（樹脂層側）からの入射光に対する透過率を波長３００〜１３００ｎｍの範囲で測定し、可視光波長領域（３８０〜７８０ｎｍ）の視感透過率を求める。
（実施例１）
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）ＱＴ９６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ａ）となる銅層（厚み３μｍ）を形成した。更に、上記銅層の上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、層（Ｂ）となる窒化銅層（０．０２μｍ）を形成した。
【０１３９】
続いて、上記窒化銅の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が１０μｍ、ピッチが２００μｍであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層（Ａ）の厚みは３μｍであり、窒化銅からなる層（Ｂ）の厚みは０．０２μｍであり、ニッケル層、金属層（Ａ）、及び層（Ｂ）からなる導電性メッシュの厚みは、３．０４μｍであった。
＜ハードコート層の塗工＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３５質量部、Ｎ−ビニルピロリドンを１２質量部、メチルメタクリレートを３質量部、メチルエチルケトンを５０質量部含む塗液を作製した（ＨＣ塗剤１）。
このＨＣ塗剤１に、透光性粒子として平均粒子径３．５μｍのアクリル系粒子（綜研化学製のケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）を５質量％添加してハードコート層用の塗料を作製した。尚、上記のアクリル系粒子の濃度は、ハードコート層の全固形分（有機溶媒を除く全成分）１００質量％に対する濃度であり、以下の実施例も同義である。
【０１４０】
上記で得られた導電層の導電メッシュ上に、上記のハードコート層用塗料をマイクログラビアコーターでｗｅｔ塗布量７ｇ／ｍ２となるように塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。
＜ディスプレイ用フィルターの作製＞
＜Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮蔽層の積層＞
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製 ＫＡＹＡＳＯＲＢ（登録商標） ＩＲＧ−０６８を１４．５質量部、日本触媒（株）製 イーエクスカラー（登録商標） ＩＲ−１０Ａを８質量部、さらに５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製ＴＡＰ−２を２．９質量部、メチルエチルケトン２０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製 ハルスハイブリッド（登録商標） ＩＲ−Ｇ２０５（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料を作製した。
【０１４１】
ハードコート層を形成した側と反対側の光学用ポリエステルフィルム面に、ダイコーターを用いて上記塗料を塗工し、１２０℃で乾燥して、厚み１０μｍの近赤外線遮蔽層を積層した。
＜粘着剤層の積層＞
厚みが２５μｍのアクリル系透明粘着剤からなる粘着剤層を上記の近赤外線遮蔽層の上に積層した。尚、ディスプレイ用フィルター全体の可視光視感透過率が４０％となるように、上記粘着剤層にカーボンブラックを含有させた。
【０１４２】
（実施例２〜４、比較例１、２）
実施例１のＨＣ塗剤１に含有させる透光性粒子の平均粒子径及び含有量を表１のように変更した。また、ハードコート層用塗料のｗｅｔ塗布量も表１のように変更した。それ以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
（実施例５）
以下の導電性メッシュに変更する以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）ＱＴ９６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ａ）となる銅層（厚み３μｍ）を形成した。更に、上記銅層の上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、層（Ｂ）となる酸化銅層（０．０２μｍ）を形成した。
【０１４３】
続いて、上記酸化銅の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が１０μｍ、ピッチが２００μｍであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層（Ａ）の厚みは３μｍであり、酸化銅からなる層（Ｂ）の厚みは０．０２μｍであり、ニッケル層、金属層（Ａ）、及び層（Ｂ）からなる導電性メッシュの厚みは、３．０４μｍであった。
【０１４４】
（実施例６〜９）
実施例１〜４のそれぞれのハードコート層用塗料に、更に着色剤としてカーボンブラック（御国色素（株）＃２０１）を、ＨＣ塗剤１の全固形分（有機溶媒を除く全成分）１００質量％に対して、０．１３質量％添加した塗料を用いる以外は、実施例１〜４と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。尚、実施例６は実施例１、実施例７は実施例２、実施例８は実施例３、実施例９は実施例４に準じる。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、表面層の中心線平均粗さＲａ、表示画像の視認性について評価した。その結果を表１に示す。
【０１４５】
【表１】
【０１４６】
表１の結果から、本発明の実施例は、表示画像の視認性に優れていることが分かる。特に実施例６〜９は、表面層が透光性粒子に加えて着色剤を含有しており、表示画像の視認性が一段と改良している。
一方、平均粒子径が１μｍ未満の透光性粒子を含有する比較例１、及び透光性粒子を含有しない比較例２は、表示画像の視認性は改良されていない。
【図面の簡単な説明】
【０１４７】
【図１】本発明の一例のディスプレイ用フィルターの表面層の厚みを示す模式断面図。
【図２】本発明の他の例のディスプレイ用フィルターの表面層の厚みを示す模式断面図。
【符号の説明】
【０１４８】
１ 透光性粒子
２ 表面層（ハードコート層）
３ 基材
４ 導電性メッシュ
Ｈｍ：導電性メッシュの厚み
Ｈｒ１：表面層の厚み
Ｈｒ２：表面層の厚み
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置には、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的としたディスプレイ用フィルターがディスプレイの視認側に配置される。特にＰＤＰはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念され、日本ではＶＣＣＩ（情報処理装置等電波障害自主規制協議会）、米国ではＦＣＣ（米国連邦通信委員会）等の基準値内に抑えることが規格化されている。
【０００３】
一方、プラズマディスプレイの低価格化に伴って、ディスプレイ用フィルターも年々低価格化しており、コストダウンの要求も厳しくなっている。一般的なディスプレイ用フィルターは、プラスチックフィルム等の基材上に、ハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を有する光学機能性フィルムと、プラスチックフィルム等の基材上に導電層（電磁波遮蔽層）が形成された電磁波遮蔽フィルムとを接着層を介して積層して製造されているが、この２枚の基材からなるディスプレイ用フィルターに対して、１枚のみの基材で構成することによって低価格化が可能となる。
【０００４】
１枚のみの基材からなるディスプレイ用フィルターの１つの構成として、基材上に形成された導電性メッシュからなる導電層を被覆するようにハードコート層や反射防止層等の機能層を配置する態様が挙げられる。導電性メッシュは、スパッタや真空蒸着で形成された金属薄膜に比べて、低抵抗の導電層を比較的低コストで得られるということから好ましく用いられている。
【０００５】
導電性メッシュからなる導電層を機能層で被覆したディスプレイ用フィルターが知られている。例えば、導電性メッシュ上にハードコート、防眩層あるいは反射防止層等の硬化層が直接に配置された透明導電性ハードコートフィルムが特許文献１に記載されており、また、導電性メッシュ上にハードコート層、あるいはハードコート層と反射防止層を積層したディスプレイ用フィルターが特許文献２に記載されており、また、金属パターン層（導電性メッシュ）の凹凸を平坦化するための平坦化層と反射防止層を積層した光学フィルターが特許文献３に記載されている。
【０００６】
ディスプレイ用フィルターを構成する導電性メッシュは、通常、金属で形成されているために、その金属光沢が、ディスプレイの表示画像の視認性を低下させるという問題がある。即ち、蛍光灯などの外光の映り込み像が鮮明になって表示画像の視認性が低下するという問題がある。従って、導電性メッシュの金属光沢を抑制するために、導電性メッシュの表面に黒化層を設けることが一般に行われている。黒化層の形成方法として、導電性メッシュを構成する金属層表面を酸化処理して黒化する方法（例えば特許文献４）、導電性メッシュを構成する金属層の表面に黒色の金属酸化物層を蒸着法やメッキ法で形成する方法（例えば特許文献５、６）、あるいは導電性メッシュを構成する金属層（例えば銅メッキ層）上にＮｉ−Ｓｎ合金のメッキを施して黒色化する方法（例えば特許文献７）が知られている。
【特許文献１】特開２００７−１４０２８２号公報
【特許文献２】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献３】特開平１１−３３７７０２号公報
【特許文献４】特開２００６−１９１０１０号公報
【特許文献５】特開２０００−２２３８８６号公報
【特許文献６】特開２００１−１２７４８５号公報
【特許文献７】特開２００６−１７３１８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記した、特許文献４の方法（導電性メッシュを構成する金属層表面を酸化処理する方法）は、導電性メッシュの金属光沢を抑制するという意味では有効であるが、その反面、酸化処理液は高アルカリであるために基材と導電性メッシュの密着性を低下させるという問題があり、特に本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる金属層の製法として好適な気相製膜法で形成された金属層を用いた導電性メッシュは、その影響を受けやすいという問題がある。また、酸化処理で形成された黒化層は脆弱であるために脱離しやすく、ディスプレイ用フィルターの製造工程の中の導電性メッシュ上に表面層を塗工する工程で、黒化層の一部が脱離して、異物としてディスプレイ用フィルター上に残留したり、ロール等の搬送経路を汚染するという問題がある。また更に、黒化層として十分な性能を得るためには１μｍ程度の厚みが必要であり、その黒化層の厚み分、金属層の厚みが目減りし、電磁波遮蔽性が低下するという問題がある。
【０００８】
一方、上記の特許文献５〜７の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）は、導電性メッシュの金属光沢を抑制するのに十分な黒化層（実際は黒色を呈しない場合が多い）を形成することは難しいという問題がある。しかし、その反面、特に蒸着法等の気相製膜法で黒化層を形成する方法は、前述の酸化処理のような湿式処理を必要としないので、作業環境の面で好ましく、また、０．１μｍ以下という薄膜の形成が容易にできるという利点があり、厚みが小さい導電性メッシュを作成する上で有益である。
【０００９】
上述した、従来から一般的に採用されている、２枚基材のディスプレイ用フィルターの場合は、導電性メッシュに対して視認側（観賞側）には、粘着剤層、近赤外線遮蔽層、色補正層、プラスチックフィルム等からなる基材、あるいは反射防止層等の表面層が配置されているので、上記した後者の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）で形成された黒化層であっても、導電性メッシュの金属光沢を抑制するという観点からはあまり問題にはならなかった。
【００１０】
しかしながら、本発明が対象とするディスプレイ用フィルターは、導電性メッシュに対して視認側には、プラスチックフィルム基材や粘着剤層等の導電性メッシュの金属光沢を軽減する層が存在しないので、上記した後者の方法（蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法）で形成された黒化層では、導電性メッシュの金属光沢を抑制することは不十分であり、表示画像の視認性の低下を招くという問題のあることが新たに判明した。
【００１１】
また、上述した導電性メッシュを被覆するように機能層を積層したディスプレイ用フィルターに関する特許文献１〜３についても、導電性メッシュの金属光沢が起因する表示画像の視認性の低下を抑制するために機能層（ハードコート層、反射防止層、防眩層等）に粒子を含有させることは記載されていない。
【００１２】
そこで、本発明は、上記した問題に鑑み、低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、
前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）とで構成され、
かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、
前記表面層は、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
２）前記表面層が、前記透光性粒子を表面層の全成分１００質量％に対して２〜２０質量％含有する、前記１）に記載のディスプレイ用フィルター。
３）前記表面層が、更に着色剤を含有する、前記１）または２）に記載のディスプレイ用フィルター。
４）前記表面層の中心線平均粗さＲａが、３００〜１０００ｎｍである、前記１）〜３）のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
５）前記金属層（Ａ）を構成する特定金属が、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、前記１）〜４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
６）前記層（Ｂ）を構成する金属化合物が、金属酸化物、金属硫化物、及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である、前記１）〜５）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
７）前記表面層が、少なくともハードコート層を含み、該ハードコート層が、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有する、前記１）〜６）のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
８）前記ハードコート層が、更に着色剤を含有する、前記７）に記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材上に導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有する。ここで導電性メッシュ上の表面層は、該導電性メッシュを被覆するように表面層が形成される。また表面層とは、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときに、視認側（鑑賞者側）の最表面となる層である。表面層の詳細については後述する。
【００１６】
（導電性メッシュ）
本発明にかかる導電性メッシュは、基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）で構成される。
【００１７】
ここで、金属層（Ａ）を構成する特定金属は、導電性が高い金属が好ましく、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、更に、銀、銅、アルミニウムの中のいずれかの金属が好ましく、特に、銅が好ましい。
【００１８】
層（Ｂ）には、金属層（Ａ）の特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物が用いられる。異種の金属としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、チタン等からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属が挙げられ、金属層（Ａ）の特定金属とは異なる金属が選択される。また金属化合物としては、上記の異種金属で例示された金属の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、及びフッ化物からなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられる。これらの中でも、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物が好ましく用いられる。なお、金属層（Ａ）の特定金属と、層（Ｂ）の金属化合物中の金属としては同じ金属であってもよく、例えば、金属層（Ａ）が銅で構成されている場合に、層（Ｂ）が酸化銅で構成される態様などは、本発明に含まれる。
【００１９】
上記の金属酸化物としては、ＩＴＯ、ＡＴＯ、酸化銅、酸化クロム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化銀、酸化コバルト、酸化水銀、酸化金、酸化イリジウム等が好ましく用いられる。
【００２０】
上記の金属窒化物としては、窒化アルミニウム、窒化チタン等が好ましく用いられる。
【００２１】
上記の金属硫化物としては、硫化クロム、硫化銅、硫化パラジウム、硫化ニッケル、硫化コバルト、硫化鉄、硫化タンタル、硫化チタン等が好ましく用いられる。
【００２２】
本発明にかかる導電性メッシュを構成する金属層（Ａ）の厚みは、０．５〜４μｍである。金属層（Ａ）は導電性メッシュの電磁波遮蔽性能を発現する層であり、十分な電磁波遮蔽性能を確保するためには、厚みが０．５μｍ以上必要であり、厚みが１μｍ以上であることが好ましい。一方、導電性メッシュの厚みは、金属層（Ａ）の厚みに大きく依存するので、金属層（Ａ）の厚みが４μｍより大きくなると、導電性メッシュの合計厚みが大きくなり、表面層の塗工性が低下し、また、導電性メッシュのコスト、加工性の点で不利となる。
【００２３】
本発明の導電性メッシュには、従来の一般的な黒化処理（酸化処理）は特に施す必要性はない。つまり、この黒化処理に代えて、層（Ｂ）を金属層（Ａ）の上に積層することによって、金属層（Ａ）の金属光沢を低減することができるからである。層（Ｂ）は導電性メッシュの最表面に配置することが好ましい。
本発明の導電性メッシュには、従来の一般的な黒化処理（酸化処理）は必ずしも施す必要はない。つまり、この黒化処理に代えて、層（Ｂ）を金属層（Ａ）の上に積層し、さらに平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有した表面層を設けることによって、金属層（Ａ）の金属光沢に起因する視認性の低下を抑制することができるからである。本発明において、層（Ｂ）は導電性メッシュの最表面に配置することが好ましい。
【００２４】
導電性メッシュを構成する層（Ｂ）は、金属層（Ａ）の金属光沢を低減するため、あるいは、金属層（Ａ）の色目を変化させるための層である。本発明において、層（Ｂ）は、０．１μｍ以下の極薄膜である。層（Ｂ）の厚みが０．１μｍより大きくなると、コスト、加工性の点で不利である。また、金属層（Ａ）と層（Ｂ）の屈折率差で金属層（Ａ）の色目を変化させるためには、層（Ｂ）は光透過性が必要であり、層（Ｂ）の厚みが０．１μｍより大きくなると、光透過性が低下し、上記目的を達成できなくなる。
【００２５】
例えば、金属層（Ａ）として銅を用いた場合、その赤味がかった色合いを、異種金属で構成される層（Ｂ）を積層することによって、所望する色目に変更することができる。
【００２６】
上記した層（Ｂ）の目的を達成するためには、層（Ｂ）の厚みは、０．００５μｍ以上必要であり、好ましくは０．０１μｍ以上である。
【００２７】
本発明にかかる、導電性メッシュの厚み（金属層（Ａ）と層（Ｂ）を含む導電性メッシュの合計厚み）は、４μｍが好ましく、３．５μｍ以下がより好ましく、特に３μｍ以下が好ましい。一方、導電性メッシュの合計厚みの下限としては、０．６μｍ以上が好ましく、０．８μｍ以上がより好ましく、特に１μｍ以上が好ましい。
【００２８】
本発明にかかる導電性メッシュの製造方法について、以下に説明する。
【００２９】
導電性メッシュを製造するに際し、予め、基材上に特定金属からなる金属層（Ａ）と該特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）が、基材側から金属層（Ａ）、層（Ｂ）の順に積層される。金属層（Ａ）と層（Ｂ）の積層方式としては、気相製膜法を用いることが好ましい。気相製膜法は、層（Ｂ）のような極薄膜を均一に精度よく製膜するのに適しており、また、金属層（Ａ）と層（Ｂ）を気相製膜法で、連続的に製膜することができ、生産性の面で有利である。また、気相製膜法は、湿式メッキ法に比べて、作業環境面で好ましい。
【００３０】
気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。
【００３１】
基材上に気相製膜法で積層された、金属層（Ａ）と層（Ｂ）のパターン加工方法について、２つの好ましい加工方法を説明する。以下の説明において、金属層（Ａ）と層（Ｂ）が積層されたものを、単に含金属積層膜と言う。
【００３２】
１つのパターン加工方法は、含金属積層膜をエッチング法によってメッシュパターン状に加工する方法である。もう１つの加工方法は、予め基材上に、溶剤に可溶な樹脂を用いて導電性メッシュのパターンとは逆パターンを形成し、次いで、基材のパターン形成面に気相製膜法で含金属積層膜を積層し、溶剤にて逆パターンの樹脂とその上の含金属積層膜を除去することによって、メッシュパターンの含金属積層膜を形成する方法である。
【００３３】
前者のパターン加工方法について詳細に説明する。かかる加工方法は、基材上に気相製膜法で積層された含金属積層膜の上に、フォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、含金属積層膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、含金属積層膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。
【００３４】
感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は含金属積層膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。
【００３５】
エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【００３６】
後者のパターン加工方法について詳細に説明する。このパターン加工方法は、一般にリフトオフと呼ばれる方法であり、基材上に予め剥離可能な樹脂を用いて導電性メッシュとは逆パターンの樹脂層を形成し、その上から含金属積層膜を積層し、次いで、前記逆パターンの樹脂層を剥離する方法である。前記の逆パターンの樹脂層を剥離するときに、同時に樹脂層上の含金属積層膜も一緒に剥離されるため、樹脂層を形成しなかった部分にのみ含金属積層膜のパターンが形成される。従って、この加工方法は、剥離可能な樹脂層は導電性メッシュとは逆パターンに形成する必要がある。
【００３７】
基材上に、予め、導電性メッシュパターンとは逆パターンに形成される、剥離可能な樹脂層に用いられる樹脂としては、溶剤に可溶な樹脂が好ましく用いられる。かかる樹脂としては、水溶性樹脂、有機溶剤に可溶な樹脂、及びアルカリに可溶な樹脂を用いることができる。これらの樹脂の中でも、作業環境等の観点から、水溶性樹脂が好ましく、特に水溶性の高分子樹脂が好ましく用いられる。
【００３８】
水溶性高分子樹脂としては、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニル−マレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロースが挙げられ、これらの水溶性高分子樹脂の１種もしくは２種以上の混合物を用いることができる。
【００３９】
有機溶剤に可溶な樹脂としては、例えば、ポリイミドエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ポリヒダントイン樹脂、ポリパラバン樹脂や溶剤可溶型ポリイミド樹脂などがある。またシリコーングリースや油性インクなどを用いることもできる。
【００４０】
アルカリに可溶な樹脂としては一般的なレジストを用いることが可能である。レジストを構成するバインダポリマーとしては、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１,２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１，３ −ブタジエン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１,３−ブタジエン、ポリ−１,３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステルを使用することができる。さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。
【００４１】
剥離可能な樹脂を用いて、基材上に導電性メッシュとは逆パターンの樹脂層を形成する方法としては、印刷法やフォトリソグラフィー法などを用いることができる。印刷法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット、凹版印刷、凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷など様々な方法を用いることができる。
【００４２】
フォトリソグラフィー法は、前述のエッチング法によるパターン加工方法で説明したフォトリソグラフィー法を用いることができる。
【００４３】
本発明にかかる導電性メッシュにおいて、金属層（Ａ）として、銅を用いる場合は、金属層（Ａ）と基材との接着性を向上させるために、基材と金属層（Ａ）との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル層を配置するのが好ましい。このニッケル層は、前述した気相製膜法で形成することが好ましい。このニッケル層は、金属層をパターン加工するときに、同じようにパターン加工され、導電性メッシュの一部を構成する。
【００４４】
本発明において、導電性メッシュの線幅は３〜３０μｍの範囲が好ましく、５〜２０μｍの範囲がより好ましく、特に５〜１２μｍの範囲が好ましい。導電性メッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、８０〜４００μｍの範囲がより好ましく、特に１００〜３００μｍの範囲が好ましい。ここで、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュの開口部のピッチを意味し、具体的には、１つの開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離である。導電性メッシュとして、開口部が正方形の格子状のメッシュパターンが一般的に用いられているが、開口部が正方形の格子状の導電性メッシュの場合は、そのピッチは、隣接する細線間の距離（正方形の向かい合う２辺の距離）となる。
【００４５】
導電性メッシュのメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、４角形からなる格子状メッシュパターン、６角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。
（表面層）
次に、導電性メッシュ上に積層される表面層について説明する。本発明にかかる表面層は、光学機能及び／または表面保護機能を有する層であることが好ましい。光学機能としては、反射防止機能、防眩機能等があり、表面保護機能としては、ハードコート機能、防汚機能等がある。
【００４６】
また、本発明の表面層は、導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下を抑制するための層である。上述したように、導電性メッシュを構成する金属層（Ａ）の金属光沢を防止し、表示画像の視認性の低下を抑制するには、極薄膜の層（Ｂ）のみでは不十分であり、それを補うために本発明の表面層、即ち、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有する表面層が配置される。
【００４７】
本発明にかかる表面層は、単一層で構成されてもよいし、複数層で構成されていてもよい。また、複数の機能を併せ持つ層で構成されてもよい。
【００４８】
本発明にかかる表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。この場合、ハードコート層のみで構成されていてもよいし、他の機能層、例えば反射防止層、防眩層、防汚層等との積層構成であってもよい。表面層が複数の積層構成の場合は、ハードコート層は、導電性メッシュに最も近い位置に配置されることが好ましい（つまり、導電性メッシュを被覆するようにハードコート層を形成することが好ましい。）。
【００４９】
本発明にかかる表面層は、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有する。かかる透光性粒子としては、無機系、有機系のものが挙げられるが、有機系材料により形成されるものが好ましい。透光性粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。
【００５０】
プラスチックビーズとしては、アクリル系、スチレン系、メラミン系、アクリル−スチレン系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系等が挙げられる。本発明では、透明性に優れるアクリル系を用いるのが好ましい。
【００５１】
また、透光性粒子の形状は球状（真球状、楕円状、など）のものが好ましく、より好ましくは真球状のものである。
【００５２】
表面層に含有する透光性粒子の平均粒子径としては、好ましくは１．５〜１５μｍであり、より好ましくは２〜１２μｍである。ここで、透光性粒子の平均粒子径は、体積基準の体積平均径であり、フィルターサンプルの光学顕微鏡写真を撮影して顕微鏡写真を解析することにより測定される。
【００５３】
表面層における透光性粒子の含有量は、表面層の全成分１００質量％に対して２〜２０質量％の範囲が好ましく、３〜１５質量％の範囲がより好ましく、更に３〜１２質量％の範囲が好ましく、特に３〜１０質量％の範囲が好ましい。なお、表面層が複数層で構成される場合も、表面層を構成する全ての層の全成分合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。また表面層が複数層で構成され、さらに複数層の一部の層にのみ透光性粒子が含有され、他の層には透光性粒子が含有されていない場合であっても、表面層を構成する全ての層の全成分の合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。
【００５４】
前述したように、表面層は少なくともハードコート層を含むことが好ましく、ハードコート層に上記した透光性粒子を含有させることが好ましい。ハードコート層に透光性粒子を含有させる場合の透光性粒子の含有量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して２〜２０質量％の範囲が好ましく、３〜１５質量％の範囲がより好ましく、更に３〜１２質量％の範囲が好ましく、特に３〜１０質量％の範囲が好ましい。
【００５５】
本発明において、表面層の中心線平均粗さＲａは３００〜１０００ｎｍの範囲であることが好ましく、４００〜９００ｎｍの範囲がより好ましく、特に５００〜８００ｎｍの範囲が好ましい。表面層の中心線平均粗さＲａは、上記した透光性粒子の平均粒子径、及び含有量を上記の範囲内で調整することによって制御することが好ましい。
【００５６】
本発明にかかる表面層は、更に着色剤を含有することが好ましい。表面層に着色剤を含有させることによって、導電性メッシュの金属光沢に起因する視認性に低下を更に改善することができる。かかる着色剤としては、表面層にニュートラルな色味を付けることができる、顔料、染料、色素などを用いることが好ましい。着色剤としては、黒色系のものが好ましく、例えば、カーボンブラック、黒鉛、黒色クロム、チタンブラック等が好ましく用いられる。また、下記の赤色顔料、緑色顔料、青色顔料を、２種以上混合して用いることもできる。
【００５７】
赤色顔料としてはＣｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ Ｎｏ．ピグメントレッド（以下、ＰＲと略す）９、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２５４等が、緑色顔料としてはＣｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ Ｎｏ．ピグメントグリーン（以下、ＰＧと略す）７、３６等が、青色顔料としてはＣｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ Ｎｏ．ピグメントブルー（以下、ＰＢと略す）１５：３、１５：４、１５：６、２１、２２、６０、６４等が挙げられる。
【００５８】
上記した、黒色、赤色、緑色、及び青色の顔料の粒子径としては、平均一次粒子径が５〜４００ｎｍの範囲のものが好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲のものがより好ましく、特に１０〜１００ｎｍの範囲のものが好ましい。ここで、平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装（株）製の「ナノトラック」を用いて測定することができる。
【００５９】
上記の着色剤の含有量は、表面層の全成分１００質量％に対して０．０１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、特に０．０５〜５質量％の範囲が好ましい。なお、表面層が複数層で構成される場合も、表面層を構成する全ての層の全成分合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。また表面層が複数層で構成され、さらに複数層の一部の層にのみ着色剤が含有され、他の層には着色剤が含有されていない場合であっても、表面層を構成する全ての層の全成分の合計１００質量％に対して、上述の量範囲が好ましい。
【００６０】
本発明において、ディスプレイ用フィルター全体の可視光の視感透過率を、２５〜６５％の範囲に調整することが好ましく、３０〜６０％の範囲に調整することが好ましい。従って、表面層への着色剤の添加量についても、ディスプレイ用フィルター全体の視感透過率が上記の範囲になるように調整することが好ましい。
【００６１】
着色剤は、表面層を構成するいずれかの層に含有させることができ、表面層が複数構成の場合は、複数の層に含有させることができる。着色剤は、ハードコート層に含有させることが好ましい。
【００６２】
ハードコート層に着色剤を含有させる場合の着色剤の含有量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して０．０１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、特に０．０５〜５質量％の範囲が好ましい。
【００６３】
本発明の導電性メッシュは、従来のような、導電性メッシュの表面に完全な黒化層（酸化処理等による黒化層）を形成するものではないので、導電性メッシュの金属光沢の影響として、外光の映り込みを助長する場合がある。この外光の映り込みは、上記した本発明の表面層を導電性メッシュ上に積層することによって、効果的に抑制することができるようになる。
【００６４】
本発明にかかる導電性メッシュの厚みは、前述したように、４μｍ以下が好ましく、この厚みは、従来の一般的な導電性メッシュの厚み（１０μｍ程度）に比べて、小さいものである。従って、導電性メッシュ上に塗工形成される表面層の塗工性が良好となる。
本発明において、表面層の厚みは、１〜１５μｍの範囲が好ましく、２〜１２μｍの範囲がより好ましく、２．５〜１０μｍの範囲が特に好ましい。
【００６５】
（ハードコート層）
本発明にかかる表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。以下、本発明に用いることができるハードコート層について詳細に説明する。
【００６６】
本発明において、ハードコート層は、ディスプレイ用フィルターの耐擦傷性を高めると言う観点から、硬度が高いことが好ましい。ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
【００６７】
本発明におけるハードコート層は、樹脂成分としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーを含むことができる。かかる樹脂成分として、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂等が挙げられるが、性能、コスト、生産性などのバランスを考慮するとアクリレート系樹脂が好ましく適用される。
【００６８】
上記のアクリレート系の硬化性樹脂としては、多官能アクリレートを主成分とする硬化組成物であることが好ましい。多官能アクリレートとしては、１分子中に３個以上（好ましくは４個以上、更に好ましくは５個以上）の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体もしくはオリゴマー、プレポリマーを挙げることができる。ここで、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基を略して表示したものである。以降、「（メタ）・・・」は、上記と同義である。
【００６９】
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらは、１種または２種以上を混合して使用することができる。
【００７０】
これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーの使用割合は、ハードコート層の全成分（有機溶剤を除く）１００質量％に対して５０〜９０質量％の範囲が好ましく、５０〜８０質量％の範囲がより好ましい。
【００７１】
上記の化合物以外にハードコート層の剛直性を緩和させたり、硬化時の収縮を緩和させたりする目的で１〜２官能のアクリレートを併用するのが好ましい。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。
【００７２】
分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００７３】
（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート。
【００７４】
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート。
【００７５】
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート。
【００７６】
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパン。
【００７７】
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、更にアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類。
【００７８】
（ｆ）分子内に２個のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類。
【００７９】
分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−及びｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。
【００８０】
これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して１０〜４０質量％の範囲が好ましく、２０〜４０質量％の範囲がより好ましい。
【００８１】
また、ハードコート層の改質剤として、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、有機高分子化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、顔料あるいは安定剤などを用いることができ、これらは活性線または熱による反応を損なわない範囲内でハードコート層に含有させることができる。
【００８２】
本発明において、上記のハードコート層を硬化させる方法としては、例えば、活性線として紫外線等を照射する方法や高温加熱法等を用いることができ、これらの方法を用いる場合には、ハードコート層に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。
【００８３】
光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【００８４】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して、０．０１〜１０質量％の範囲が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２００℃以上の高温で熱硬化させる場合には熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。
【００８５】
ハードコート層には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルまたは２，５−ｔ−ブチルハイドロキノンなどの熱重合防止剤を加えることができる。熱重合防止剤の添加量は、ハードコート層の全成分１００質量％に対して、０．００５〜０．０５質量％の範囲が好ましい。
【００８６】
本発明で必要に応じて用いられる活性線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯または炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また更に、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【００８７】
本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、更に好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。
【００８８】
ハードコート層の硬化方法としては、ハードコート層に高い硬度を付与するという観点、生産性の観点から、活性線を照射する方法が好ましく、特に紫外線を照射する方法が好ましい。従って、本発明のハードコート層は、紫外線硬化型のハードコート層が好ましい。
【００８９】
また、ハードコート層は、高屈折率化することによって、後述する高屈折率層を兼ねることができる。ハードコート層を高屈折率化する手段としては、ハードコート層に、平均一次粒子径が１〜５０ｎｍ程度の金属酸化物微粒子を含有させること、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を含有させる方法が挙げられる。上記の金属酸化物微粒子としては、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が挙げられる。
【００９０】
ハードコート層の厚みは、１〜１５μｍの範囲が好ましく、２〜１２μｍの範囲がより好ましく、２．５〜１０μｍの範囲が特に好ましい。
（表面層を構成する他の機能層）
前述したように、本発明の表面層は、反射防止層、防汚層等の他の機能層を、ハードコート層上に積層することができる。また、ハードコート層に反射防止機能、防汚機能を付与することもできる。
（反射防止層）
反射防止層は、具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコーン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、または、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物あるいはシリコーン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものなどが挙げられる。
【００９１】
反射防止性能とコストのバランスのとれた構成としては、最表層から低屈折率層と高屈折率層を積層した構成が好ましいが、本発明においては、高屈折率層は積層されていなくてもよく、その場合は低屈折率層のみとなる。
【００９２】
上記した高屈折率層の屈折率としては、１．５〜１．８の範囲が好ましく、１．５５〜１．７の範囲がより好ましい。低屈折率層の屈折率としては、１．２５〜１．４５の範囲が好ましく、１．３〜１．４の範囲がより好ましい。
【００９３】
尚、上記屈折率は、シリコンウエハー上に乾燥膜厚が０．１μｍとなるように、測定対象となる層の塗料を塗布、乾燥、必要に応じて硬化して被膜を形成した後、位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍにおける屈折率を測定することによって求めることができる。
【００９４】
（高屈折率層）
高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、（メタ）アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。
【００９５】
かかる（メタ）アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（モノマー）を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。
【００９６】
高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。
【００９７】
かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、６，４’，４”−トリメトキシ−２、３−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等が挙げられる。
【００９８】
また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が好ましい。
【００９９】
また、高屈折率層には、屈折率が１．６以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。これによって高屈折率化が図られ、また帯電防止効果も得られる。
金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）である。
【０１００】
高屈折率層中の金属酸化物微粒子の含有量は、樹脂成分１００質量部に対して、０．１〜２０質量部の範囲が好ましい。
【０１０１】
上記金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は１〜５０ｎｍの粒子が好適に使用される。ここで、平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装（株）製の「ナノトラック」を用いて測定することができる。
【０１０２】
高屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。厚みの下限は、２０ｎｍ程度である。
【０１０３】
（低屈折率層）
低屈折率層は、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、ＭｇＦ2 、ＣａＦ2 、ＳｉＯ2 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。
【０１０４】
低屈折率層の１つの好ましい態様として、ＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、或いはＳｉＯ2ゾルを含むゾル液からＳｉＯ2ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。
【０１０５】
低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
【０１０６】
かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。
【０１０７】
多官能性シラン化合物として多官能性フッ素非含有シラン化合物を用いることができる。かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの４官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。
【０１０８】
また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜５０ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましい。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。
【０１０９】
かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。
【０１１０】
低屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。厚みの下限は２０ｎｍ程度である。
【０１１１】
（防汚層）
本発明にかかる表面層には、防汚機能を付与することができる。防汚機能は、ハードコート層あるいは反射防止層に付与されてもよいし、防汚層を新たに積層してもよい。
防汚機能は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層を新たに設ける場合の防汚層の厚みは、１〜１０ｎｍの範囲が好ましい。
【０１１２】
（基材）
本発明のディスプレイ用フィルターには、基材が用いられるが、該フィルターは１枚のみの基材で構成されることが好ましい。本発明にかかる基材としては、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。
【０１１３】
かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から８０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。またプラスチックフィルムとしては、複数の層を積層した積層フィルムを用いることもできる。
【０１１４】
本発明に用いられるプラスチックフィルムは、導電性メッシュ、表面層あるいは後述する近赤外線遮蔽層との密着性（接着強度）を強化するためのプライマー層（易接着層、下引き層）を設けておくのが好ましい。
【０１１５】
（ディスプレイ用フィルター）
本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも一つの機能を有する層を付与するのが好ましい。
【０１１６】
近赤外線遮蔽機能は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、プラスチックフィルムや機能層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。
【０１１７】
本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいはハードコート層や後述する接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。
【０１１８】
近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【０１１９】
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。
【０１２０】
近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。
【０１２１】
色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、ハードコート層あるいは後述する接着層に色素を含有させてもよい。
【０１２２】
可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材、近赤外線遮蔽層、ハードコート層、あるいは後述する接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。
【０１２３】
上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に設けることができる。
【０１２４】
本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。本発明のディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。
上記の高剛性基板は、通常、０．５〜５ｍｍの厚みを有する基板であって、かかる高剛性基板は、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する基材には含まれない。
【０１２５】
接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。
【０１２６】
接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。
【０１２７】
以下に、本発明のディスプレイ用フィルターの構成例のいくつかを例示するが、本発明はこれらに限定されることはない。尚、下記構成の中で、接着層がディスプレイ側となる。
１）接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層
２）接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層／反射防止層
３）接着層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層
４）接着層／基材／導電性メッシュ／ハードコート層／反射防止層
上記１）及び２）の近赤外線遮蔽層は、色調調整機能を併せ持つものであり、上記３）及び４）の接着層は、近赤外線遮蔽機能と色調調整機能を併せ持つものである。また、上記１）及び３）のハードコート層は、防眩機能を併せ持つことができる。
【実施例】
【０１２８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例で作製されたディスプレイ用フィルターの各サンプルの評価方法を以下に示す。
（１）表面層の中心線平均粗さＲa
表面層の中心線平均粗さＲaを、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。
【０１２９】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所以上について計測し、その平均値を表面層のＲa値とした。
・測定条件：
送り速さ；０．５ｍｍ／Ｓ
カットオフ値λｃ；
Ｒaが２０ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．０８ｍｍ
Ｒaが２０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．２５ｍｍ
Ｒaが１００ｎｍより大きく２０００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．８ｍｍ
評価長さ；８ｍｍ
尚、上記測定条件で測定するに際し、まずカットオフ値λｃ＝０．８ｍｍで測定し、その結果、Ｒａが１００ｎｍより大きい場合はそのＲａを採用する。一方、上記測定の結果、Ｒａが１００ｎｍ以下の場合は、λｃ＝０．２５ｍｍで再測定し、その結果、Ｒａが２０ｎｍより大きい場合は、そのＲａを採用する。一方、上記の再測定の結果、Ｒａが２０ｎｍ以下の場合は、λｃ＝０．０８ｍｍで測定し、そのＲａを採用する。
・Ｒａ：表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）でＲaと定義されたパラメータ。ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づいて測定した。
【０１３０】
（２）導電性メッシュの厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧２６ｋＶ、観察倍率３０００倍）にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測した。
【０１３１】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとした。
【０１３２】
（３）導電性メッシュの線幅及びピッチ
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電性メッシュのピッチを測長した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの線幅、ピッチとした。なお、導電性メッシュのピッチとは、メッシュ構造のある開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。
【０１３３】
（４）表面層（ハードコート層）の厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２０００倍）にて観察し、表面層の厚みを計測する。
【０１３４】
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所を選び、図１に示すように、任意の２箇所の開口部上に存在する表面層最下点（表面層の視認側の表面の最下点）と表面層下部（表面層の基材側の表面）との距離の平均値（（Ｈｒ１＋Ｈｒ２）／２）を算出し、１０箇所における平均値を表面層の厚み（Ｈｒ）とする。なおＨｒ１、Ｈｒ２は、基材表面に対して法線とする。
【０１３５】
また、表面層中の粒子濃度が低く顕微鏡視野内に凸構造が１つしか見られない場合には、図２に示すように凸部を視野の中央部に配置し、視野端部の表面層厚み（Ｈｒ１、Ｈｒ２）を用いて、同様の方法にて表面層厚みを算出する。
【０１３６】
表面層下部とその下の層の境界が確認しにくい場合には、確認しやすい場所を選んで観測する。
（５）透光性粒子の平均粒子径
ディスプレイ用フィルターサンプルを光学顕微鏡（検査・研究顕微鏡 ＤＭＬＢ ＨＣ ／ライカマイクロシステムズ社製）にて観察し、顕微鏡写真を撮る（撮像条件：透過モード、倍率；５００倍、コンデンサユニット；最下位置に設定）。フィルターの任意の１０ヶ所で写真を撮像し、得られた１０枚の写真の任意の１００μｍ四方の領域内において、粒子の全形が上記領域内に存在するすべての粒子をスケールで測定して個々の粒子の粒子径（ｄｍ）（単位：μｍ）を求め、ｄｍを四捨五入したデータ群を用いて、１μｍ毎の個数分布を得る（ｄｍを四捨五入した値（ｄ）が、１μｍ毎の個数分布における各チャンネルの代表値となる）。この個数分布データを用いて下記式により体積基準の体積平均径を算出する。尚、粒子の形状が円形でない場合は、粒子の最大径をその粒子の粒子径とした。
【０１３７】
Ｄ ＝ Σ（ｖｎ×ｄｎ） ／ Σ ｖｎ
（ ｖｎ ＝（Ｎｎ×ｄｎ３）／Σ（Ｎｎ×ｄｎ３） ）
Ｄ：透光性粒子の平均粒子径（μｍ）
ｖｎ：１μｍ毎の個数分布における、各チャンネルの体積基準％
Ｎｎ：各チャンネルにおける個数
ｄｎ：各チャンネルの代表値
（６）表示画像の視認性の評価
プラズマテレビ（松下電器産業（株）社製のＴＨ−４２ＰＸ５００）のディスプレイパネルから純正の全面フィルターを取り外した後、以下の実施例及び比較例で作製したサンプルを、表面層が観賞側となるようにパネルに直に設置した。さらに、外光として３波長蛍光灯（東芝ライテック（株）製のネオラインラピッドマスター；３波長形昼白色ＦＬＲ４０Ｓ Ｎ−ＥＤＬ／Ｍ）を、パネルの鉛直照度と水平照度がそれぞれ１００ルクスと７０ルクスとなるように設置した。
【０１３８】
次に、パネル点灯の状態で、パネルから１．３ｍ離れた位置で、表示画像の視認性を目視で、以下の基準で評価した。
◎：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が見えない（極めて良）
○：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が不鮮明である（良）
△：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が僅かに不鮮明である（可）
×：表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が鮮明に見える（不可）
（７）視感透過率
ディスプレイ用フィルターサンプルについて、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、観察者側（樹脂層側）からの入射光に対する透過率を波長３００〜１３００ｎｍの範囲で測定し、可視光波長領域（３８０〜７８０ｎｍ）の視感透過率を求める。
（実施例１）
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）ＱＴ９６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ａ）となる銅層（厚み３μｍ）を形成した。更に、上記銅層の上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、層（Ｂ）となる窒化銅層（０．０２μｍ）を形成した。
【０１３９】
続いて、上記窒化銅の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が１０μｍ、ピッチが２００μｍであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層（Ａ）の厚みは３μｍであり、窒化銅からなる層（Ｂ）の厚みは０．０２μｍであり、ニッケル層、金属層（Ａ）、及び層（Ｂ）からなる導電性メッシュの厚みは、３．０４μｍであった。
＜ハードコート層の塗工＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３５質量部、Ｎ−ビニルピロリドンを１２質量部、メチルメタクリレートを３質量部、メチルエチルケトンを５０質量部含む塗液を作製した（ＨＣ塗剤１）。
このＨＣ塗剤１に、透光性粒子として平均粒子径３．５μｍのアクリル系粒子（綜研化学製のケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）を５質量％添加してハードコート層用の塗料を作製した。尚、上記のアクリル系粒子の濃度は、ハードコート層の全固形分（有機溶媒を除く全成分）１００質量％に対する濃度であり、以下の実施例も同義である。
【０１４０】
上記で得られた導電層の導電メッシュ上に、上記のハードコート層用塗料をマイクログラビアコーターでｗｅｔ塗布量７ｇ／ｍ２となるように塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。
＜ディスプレイ用フィルターの作製＞
＜Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮蔽層の積層＞
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製 ＫＡＹＡＳＯＲＢ（登録商標） ＩＲＧ−０６８を１４．５質量部、日本触媒（株）製 イーエクスカラー（登録商標） ＩＲ−１０Ａを８質量部、さらに５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製ＴＡＰ−２を２．９質量部、メチルエチルケトン２０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製 ハルスハイブリッド（登録商標） ＩＲ−Ｇ２０５（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料を作製した。
【０１４１】
ハードコート層を形成した側と反対側の光学用ポリエステルフィルム面に、ダイコーターを用いて上記塗料を塗工し、１２０℃で乾燥して、厚み１０μｍの近赤外線遮蔽層を積層した。
＜粘着剤層の積層＞
厚みが２５μｍのアクリル系透明粘着剤からなる粘着剤層を上記の近赤外線遮蔽層の上に積層した。尚、ディスプレイ用フィルター全体の可視光視感透過率が４０％となるように、上記粘着剤層にカーボンブラックを含有させた。
【０１４２】
（実施例２〜４、比較例１、２）
実施例１のＨＣ塗剤１に含有させる透光性粒子の平均粒子径及び含有量を表１のように変更した。また、ハードコート層用塗料のｗｅｔ塗布量も表１のように変更した。それ以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
（実施例５）
以下の導電性メッシュに変更する以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）ＱＴ９６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、金属層（Ａ）となる銅層（厚み３μｍ）を形成した。更に、上記銅層の上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により、層（Ｂ）となる酸化銅層（０．０２μｍ）を形成した。
【０１４３】
続いて、上記酸化銅の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が１０μｍ、ピッチが２００μｍであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層（Ａ）の厚みは３μｍであり、酸化銅からなる層（Ｂ）の厚みは０．０２μｍであり、ニッケル層、金属層（Ａ）、及び層（Ｂ）からなる導電性メッシュの厚みは、３．０４μｍであった。
【０１４４】
（実施例６〜９）
実施例１〜４のそれぞれのハードコート層用塗料に、更に着色剤としてカーボンブラック（御国色素（株）＃２０１）を、ＨＣ塗剤１の全固形分（有機溶媒を除く全成分）１００質量％に対して、０．１３質量％添加した塗料を用いる以外は、実施例１〜４と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。尚、実施例６は実施例１、実施例７は実施例２、実施例８は実施例３、実施例９は実施例４に準じる。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、表面層の中心線平均粗さＲａ、表示画像の視認性について評価した。その結果を表１に示す。
【０１４５】
【表１】
【０１４６】
表１の結果から、本発明の実施例は、表示画像の視認性に優れていることが分かる。特に実施例６〜９は、表面層が透光性粒子に加えて着色剤を含有しており、表示画像の視認性が一段と改良している。
一方、平均粒子径が１μｍ未満の透光性粒子を含有する比較例１、及び透光性粒子を含有しない比較例２は、表示画像の視認性は改良されていない。
【図面の簡単な説明】
【０１４７】
【図１】本発明の一例のディスプレイ用フィルターの表面層の厚みを示す模式断面図。
【図２】本発明の他の例のディスプレイ用フィルターの表面層の厚みを示す模式断面図。
【符号の説明】
【０１４８】
１ 透光性粒子
２ 表面層（ハードコート層）
３ 基材
４ 導電性メッシュ
Ｈｍ：導電性メッシュの厚み
Ｈｒ１：表面層の厚み
Ｈｒ２：表面層の厚み
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、
前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）とで構成され、
かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、
前記表面層は、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記表面層が、前記透光性粒子を表面層の全成分１００質量％に対して２〜２０質量％含有する、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記表面層が、更に着色剤を含有する、請求項１または２に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記表面層の中心線平均粗さＲａが、３００〜１０００ｎｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
前記金属層（Ａ）を構成する特定金属が、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項６】
前記層（Ｂ）を構成する金属化合物が、金属酸化物、金属硫化物、及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項７】
前記表面層が、少なくともハードコート層を含み、該ハードコート層が、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項８】
前記ハードコート層が、更に着色剤を含有する、請求項７に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項１】
基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、
前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層（Ａ）と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層（Ｂ）とで構成され、
かつ前記金属層（Ａ）の厚みが０．５〜４μｍ、前記層（Ｂ）の厚みが０．００５〜０．１μｍであり、
前記表面層は、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記表面層が、前記透光性粒子を表面層の全成分１００質量％に対して２〜２０質量％含有する、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記表面層が、更に着色剤を含有する、請求項１または２に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記表面層の中心線平均粗さＲａが、３００〜１０００ｎｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
前記金属層（Ａ）を構成する特定金属が、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項６】
前記層（Ｂ）を構成する金属化合物が、金属酸化物、金属硫化物、及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項７】
前記表面層が、少なくともハードコート層を含み、該ハードコート層が、平均粒子径が１〜２０μｍの透光性粒子を含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項８】
前記ハードコート層が、更に着色剤を含有する、請求項７に記載のディスプレイ用フィルター。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１０−４８８４４（Ｐ２０１０−４８８４４Ａ）
【公開日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２１０３３９（Ｐ２００８−２１０３３９）
【出願日】平成２０年８月１９日（２００８．８．１９）
【出願人】（０００２２２４６２）東レフィルム加工株式会社 (142)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年８月１９日（２００８．８．１９）
【出願人】（０００２２２４６２）東レフィルム加工株式会社 (142)
【Ｆターム（参考）】
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