説明

マイクロ波重合性組成物

【課題】イオン液体のブリードアウトを抑え、マイクロ波重合性組成物の経時での物性の悪化を低減させた硬化物を提供する。
【解決手段】イオン液体(A)と重合性化合物(D)を含有するマイクロ波重合性組成物であって、イオン液体(A)のカチオン(a1)が、好ましくは1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルテトラヒドロピリミジニウムであることを特徴とするマイクロ波重合性組成物(X);該組成物(X)を硬化してなる硬化物;該組成物(X)にマイクロ波を照射する重合性化合物(D)の重合方法である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、マイクロ波重合性組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、接着剤、粘着剤、塗料、コーティング剤、レジスト材料、成形材料には大量の有機溶剤を含む樹脂溶液が使われてきたが、地球環境または作業環境への関心の高まりとともに、大量の有機溶剤を飛散する樹脂溶液の使用を制限する様になってきている。それらに対処する一つの方法として、熱、紫外線、電子線硬化性樹脂組成物等の樹脂素材の開発が進められてきた。これら硬化性樹脂組成物に代表される無溶剤型樹脂組成物は、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、またはエステルアクリレート等の反応性オリゴマー及び、各種のビニル、アクリレート系モノマー等の低粘度単量体を主成分として構成されており、硬化物の硬度、耐溶剤性、強靱性、機械特性は使用する反応性オリゴマー、低粘度単量体の配合により調整され、通常は揮発性の有機溶剤等は使用されない。
【0003】
硬化を行うにあたっては、熱硬化性樹脂の場合、オーブン、電気炉などによる加熱であるため、熱伝導効率が低いため、熱が伝わりにくく、樹脂が硬化するまでに長時間を要する。また、加熱機器によっては、硬化に使用される熱量は、全体の加熱に要する熱量の10%にも達していない場合が多く、とても効率のよい方法とはいえない。
紫外線硬化型の場合、紫外線照射装置が比較的安価で市場に流通している点と、熱硬化型と比較して、硬化速度、エネルギー的に大きな優位性があることから、コーティング材料、レジスト材料などの硬化には、専らこの樹脂が使用されている。しかしながら、紫外線硬化の場合、紫外線の透過深度が非常に浅いため、薄膜の形成しかできず、また薄膜であっても着色剤、顔料などの紫外線を通さない物質が樹脂に含まれていると、使用することができないため、透明かつ薄膜でないものは紫外線硬化樹脂は一般的に使用することができない。
【0004】
電子線硬化型の場合、装置が高価であったり、照射強度の調節により、紫外線硬化型よりは厚膜で樹脂組成物を硬化させることができるが、表面近傍の樹脂が劣化したりと、均一な硬化物を得ることが難しい。
【0005】
そこでこれら従来の硬化方式の欠点を解決するために、近年マイクロ波を用いた化学反応が注目されており、マイクロ波を用いたポリイミド前駆体のイミド環化(例えば、特許文献1および2参照)など、マイクロ波を吸収して樹脂を硬化させる検討が行われている。
また、イオン液体を重合性化合物に添加することでマイクロ波吸収効率が上がるため、反応速度を速くできることが知られている(非特許文献1)。
添加されるイオン液体としてはカチオンがイミダゾリウムであるイオン液体が使用されている。
【特許文献1】特開平4−305148
【特許文献2】特開平5−040339
【非特許文献1】Macromolecular Rapid Communications (2007)、28、456
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
非特許文献1のようにイオン液体を重合性化合物に添加することで、反応速度は速くなり反応率も一般的な熱重合と比較して反応率も上昇する。しかしながら、イオン液体を添加し重合して得られた硬化物は、アルカリに対する耐性が弱く、アルカリ条件下での使用により、硬化物の機械的物性は経時で悪化していくという問題があった。すなわち、本発明の目的は、アルカリ耐性をマイクロ波硬化物に付与することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は鋭意研究した結果、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、イオン液体(A)と重合性化合物(D)を含有するマイクロ波重合性組成物であって、イオン液体(A)のカチオン(a1)が、一般式(1)又は一般式(2)で示される環状カチオンであることを特徴とするマイクロ波重合性組成物(X);
【化1】

【化2】

[一般式(1)又は一般式(2)において、R、R、及びRは、それぞれ水酸基、アミノ基、ビニル基、グリシジル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基及びアルデヒド基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を有していてもよい炭素数1〜10(官能基の炭素数は含まない)の炭化水素基、又はエーテル結合を有する炭素数1〜20の炭化水素基である。
は、水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜20の炭化水素基または水素原子である。Qは炭素数2〜20の2価の飽和炭化水素基である。]
該組成物(X)を硬化してなる硬化物;該組成物(X)にマイクロ波を照射する重合性化合物(D)の重合方法である。
【発明の効果】
【0008】
本発明のマイクロ波重合性組成物を用いれば、アルカリ耐性が高い樹脂硬化物を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
本発明において、イオン液体(A)とは、一般的に100℃以下で液体である塩をいい、カチオン(a1)とアニオン(a2)からなり、カチオン(a1)としては、下記の一般式(1)又は一般式(2)で示される環状カチオンであるものをいう。このカチオンは2位の炭素との反応により、水酸化物イオンを分子内に取り込み、アルカリ環境下で硬化物内に進入してくる水酸化物イオンを消費することで、その濃度を急激に低下させる。このような特徴は、他のイオン液体にも見られるが、カチオン(a1)は、特にこの作用が優れている。この作用により、硬化物のアルカリ耐性を飛躍的に上昇させることが可能となる。
【0010】
【化1】

【0011】
【化2】

【0012】
一般式(1)又は一般式(2)において、R、R、及びRは、それぞれ水酸基、アミノ基、ビニル基、グリシジル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基及びアルデヒド基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を有していてもよい炭素数1〜20(官能基の炭素数は含まない)の炭化水素基、又はエーテル結合を有する炭素数1〜20の炭化水素基である。Rは、水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜20の炭化水素基または水素原子である。Qは炭素数2〜20の2価の飽和炭化水素基である。
炭素数1〜20の炭化水素基としては、炭素数1〜20のアルキル基、及び芳香族基含有の炭素数6〜20の炭化水素基が挙げられる。炭素数1〜20のアルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、ラウリル、ステアリル等、水酸基で置換された炭素数1〜20の炭化水素基としてはヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシヘキシル、1−ヒドロキシラウリル等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。芳香族基含有の炭素数6〜20の炭化水素基としては、例えばフェニル基、ベンジル基が挙げられる。好ましくは、炭素数が1〜4の炭化水素基である。特に好ましくは炭素数が1〜3の炭化水素基である。Qは炭素数2〜20の2価の飽和炭化水素基であり、カチオン(a1)が5員環(例えばQがエチレン基等)、または6員環(例えばQがプロピレン基等)になるものが好ましい。
【0013】
カチオン(a1)の好適な例を挙げると、イミダゾリニウム基(a11)、テトラヒドロピリミジニウム基(a12)等である。
イミダゾリニウムカチオン(a11)の具体例としては、例えば、1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウム、1,2−ジメチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウム、1−メチル−2,3,4−トリエチルイミダゾリニウム、1,2,3,4−テトラエチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリエチルイミダゾリニウム、1,1−ジメチル−2−ヘプチルイミダゾリニウム、1,1−ジメチル−2−(−2’ヘプチル)イミダゾリニウム、1,1−ジメチル−2−(−3’ヘプチル)イミダゾリニウム、1,1−ジメチル−2−(−4’ヘプチル)イミダゾリニウム、1,1−ジメチル−2−ドデシルイミダゾリニウム、1,1−ジメチルイミダゾリニウム、1,1,2−トリメチルイミダゾリニウム、1,1,2,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,1,2,5−テトラメチルイミダゾリニウム、1,1,2,4,5−ペンタメチルイミダゾリニウムなどが挙げられる。
テトラヒドロピリミジニウム基(a12)の具体例としては、例えば、1,2,3−トリメチルテトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチルテトラヒドロピリミジニウム、1,2−ジメチル−3−メトキシエチルテトラヒドロピリミジニウムなどが挙げられる。
これらのうちで好ましいのは、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリメチルテトラヒドロピリミジニウム基である。
【0014】
本発明におけるアニオン(a2)としては、公知のアニオンが使用でき、例えば下記に例示するような酸からプロトンを除いたアニオンである。アニオンは2種以上の混合物であってもよい。
【0015】
(1)カルボン酸
モノカルボン酸{C1〜30の脂肪族モノカルボン酸[飽和モノカルボン酸(ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸など)および不飽和モノカルボン酸(アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸など)]および芳香族モノカルボン酸[安息香酸、ケイ皮酸、ナフトエ酸など]};
ポリカルボン酸(2〜4価のポリカルボン酸){脂肪族ポリカルボン酸[飽和ポリカルボン酸(シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸など);
不飽和ポリカルボン酸(マレイン酸、フマール酸、イタコン酸など)];
芳香族ポリカルボン酸[フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリト酸など];
脂肪族オキシカルボン酸[グリコール酸、乳酸、酒石酸など];
芳香族オキシカルボン酸[サリチル酸、マンデル酸など];
S含有ポリカルボン酸[チオジプロピオン酸];および
その他のポリカルボン酸[シクロブテン−1,2−ジカルボン酸、シクロペンテン−1,2−ジカルボン酸、フラン−2,3−ジカルボン酸、ビシクロ[2,2,1]ヘプタ−2−エン−2,3−ジカルボン酸、ビシクロ[2,2,1]ヘプタ−2,5−ジエン−2,3−ジカルボン酸]など}
(2)無機強酸:
フッ酸、塩酸、硫酸、燐酸、HClO4、HBF4、HPF6、HAsF6、HSbF6、フルオロスルホン酸等;
(3)ハロゲン原子含有アルキル基置換無機強酸(アルキル基の炭素数1〜30):HBFn(CF34-n(nは0〜3の整数)、HPFn(CF36-n(nは0〜5の整数)、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、ペンタクロロプロパンスルホン酸、ヘプタクロロブタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ペンタフルオロブタン酸、トリクロロ酢酸、ペンタクロロプロピオン酸およびヘプタクロロブタン酸等;
(4)ハロゲン原子含有スルホニルイミド(炭素数1〜30):
ビス(フルオロメチルスルホニル)イミド、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドおよびビス(フルオロスルホニル)イミド等;
(5)ハロゲン原子含有スルホニルメチド(炭素数3〜30):
トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メチド等;
(6)ハロゲン原子含有カルボン酸アミド(炭素数2〜30):
ビス(トリフルオロアセト)アミド等;
(7)ニトリル基含有イミド:
HN(CN)2等;
(8)ニトリル含有メチド:
HC(CN)3等;
(9)炭素数1〜30のハロゲン原子含有アルキルアミン:
HN(CF32
(10)チオシアン酸等;が挙げられる。
【0016】
これらのうちで好ましいものは、(3)ハロゲン原子含有アルキル基置換無機強酸および(4)ハロゲン原子含有スルホニルイミドであり、さらに好ましいのは(4)ハロゲン原子含有スルホニルイミド、特に好ましいのはビス(フルオロスルホニル)イミドおよびビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドである。
【0017】
本発明におけるイオン液体(A)の好ましい具体例としては、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとフタル酸アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとテトラフルオロボレートアニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとビス(フルオロスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとビス(フルオロメチルスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとBF4アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとBF3(CF3)アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとBF2(CF32アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとBF3(C25)アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとBF3(C49)アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとN(CN)2アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとC(CN)3アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとトリフルオロメタンスルホン酸アニオンからなるイオン液体、1,2,3−トリメチルイミダゾリニウムカチオンとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1−エチル−3−ブチルイミダゾリニウムカチオンとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−3−メチルイミダゾリニウムカチオンとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1−メトキシエチル−3−メチルイミダゾリニウムカチオンとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2−ジメチル−3−エチルイミダゾリニウムカチオンとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2,3−トリメチルテトラヒドロピリミジニウムとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルテトラヒドロピリミジニウムとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2−ジメチル−3−メトキシエチルテトラヒドロピリミジニウムとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2,3−トリメチルテトラヒドロピリミジニウムとフタル酸アニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルテトラヒドロピリミジニウムとフタル酸アニオンからなるイオン液体、1,2−ジメチル−3−メトキシエチルテトラヒドロピリミジニウムとフタル酸アニオンからなるイオン液体が挙げられる。
これらのなかで、特に好ましいものは1,2,3−トリメチルイミダゾリニウムカチオンとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムカチオンとフタル酸アニオンからなるイオン液体である。
【0018】
本発明に用いられる重合性化合物(D)としては、付加重合性化合物、重付加性化合物、重縮合系化合物、開環重合性化合物などである。
【0019】
付加重合性化合物の単官能性の重合性化合物(D)としてはオレフィン類(エチレン、プロピレン、ブテン-1、イソブテン、4-メチルペンテン-1、オクテンなど);芳香族ビニ ル炭化水素またはその置換体(スチレン、α-メチルスチレン、t-ブチルスチレン、ジメチルスチレン、アセトキシスチレン、ビニルトルエンなど);(メタ)アクリル酸およびそのアルキルエステル(アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチルなど);ビニルエーテル(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテルなど);ビニルアルコール誘導体(酢酸ビニル、酪酸ビニルなど);(メタ)アクリロニトリル;(メタ)アクリルアミドおよびそのN置換誘導体;エチレンのハロゲン置換化合物(塩化ビニル、塩化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデンなど);1,2-ジ置換不飽和ポリカルボン酸またはその誘導体(無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸およびそのエステル化合物など);多官能性の重合性化合物(D)としては、ジエン類(ブタジエン、イソプレンなど);多官能アクリレート(エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、グリセリンジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,10−デカンジオールジアクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジアクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物のジアクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物のジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、2−アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート)などが挙げられる。
【0020】
重付加性化合物の重合性化合物(D)としては、例えば重合によりポリウレタンを生成するような、活性水素含有化合物として、例えば低分子量ジオール[エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオールなど];ポリエーテルジオール[上記に例示した低分子量ジオールのアルキレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなど)付加物、アルキレンオキシドの開環重合物(ポリテトラメチレングリコールなど)];ポリエステルジオール[脂肪族ジカルボン酸(アジピン酸、マレイン酸、二量化リノレイン酸など)または芳香族ジカルボン酸(フタル酸、テレフタル酸など)と上記に例示した低分子量ジオールとの縮合ポリエステルジオール、ε-カプロラクトンの開環重合によるポリラクトン ジオールなど];低分子量ジアミン(イソホロンジアミン、4,4'-ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4'-ジアミノ-3,3'-ジメチルジシクロヘキシルメタンなど)が挙げられる。また、ジイソシアネートとしては、例えば芳香族ジイソシアネート(トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなど)、脂環式ジイソシアネート(イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、ジイソシアネートメチルシクロヘキサンなど)、脂肪族ジイソシアネート(ヘキサメチレンジイソシアネートなど)などが挙げられる。3官能以上の活性水素含有化合物(トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールなどの多価アルコール;ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンなどの多価アミ ン;トリエタノールアミンなどのアミノアルコールなど)および/または3官能以上のポリイソシアネート[トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、トリメチロールプロパンとヘキサメチレンジイソシアネートの1対3付加物、ヘキサメチレンジイソシアネートの環状3量体など]との組合せ などが挙げられる。
【0021】
エポキシ化合物としては、フェノールエーテル系グリシジル化合物(ビスフェノールA、ビスフェノールFなどのジグリシジルエーテル類など);エーテル系グリシジル化合物(ジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、ポリアリルグリシジルエーテルなど);
エステル系グリシジル化合物[グリシジル(メタ)アクリレートとエチレン性不飽和単量体(アクリロニトリルなど)との共重合体など];グリシジルアミン類(パラアミノフェノールのグリシジルエーテルなど)、非グリシジル型エポキシ化合物(エポキシ化ポリオレフィン、エポキシ化大豆油など)などを挙げることができる。
エポキシ硬化剤としては、ポリアミン類および(無水)ポリカルボン酸などを挙げることができる。
ポリアミン類としては、例えば脂肪族ポリアミン類(エチレンジアミン、テトラメチレンジアミンなどのアルキレンジアミン類、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンなどのポリアルキレンポリアミン類、アルキルアミノプロピルアミン、アミノエチルエタノールアミンなどのアルキルまたはヒドロキシアルキルアミン類、キシリレンジアミンなどの芳香環含有脂肪族アミン類、ポリオキシプロピレンポリアミンなどのポリエーテルポリアミン類など);脂環または複素環含有脂肪族ポリアミン類(N-アミノエチルピペラジン、1,3-ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミンなど);芳香族ポリアミン類(フェニレンジアミン、トルエンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなど);ポリアミドポリアミン類(上記ポリアミン類とダイマー酸との縮合物);ベンゾグアナミンおよび/またはアルキルグアナミンおよびその変性物;およびジシアンジアミドなどを挙げることができる。
【0022】
重縮合性化合物としては、例えば重合によりポリエステルを生成するような、脂肪族ジカルボン 酸エステル類の重合体(ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペートなど);ポリカーボネート;並びにこれらの2種以上の共エステル化物やこれら重合体を構成する化合物とアルキレンオキシド(ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなど)、3官能以上の低分子架橋剤(トリメチロールプロパン、グリセリン、トリメリット酸など)との共重縮合物が挙げられる。
ポリアミド系としては、6-ナイロン、6,6-ナイロン、6,10-ナイロン、11-ナイロン、12-ナイロン、4,6-ナイロン等およびこれらの2種以上の共アミド化物やこれら重合体を構成する化合物とポリエステルを構成する化合物もしくはアルキレンオキシド(ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなど)、3官能以上の低分子架橋剤(トリメリット酸など)との共重縮合物が挙げられる。
ポリイミド系としてはピロメリット酸と1,4-ジアミノベンゼンとの重縮合物;これらポリイミドを構成する化合物と上記ポリアミドを構成する化合物との共重縮合物、すなわちポリアミドイミドなどが挙げられる。これら、分子内に2つ以下の官能基を持つもの以外に、3つ以上の官能基をもつ、重合により、架橋構造を形成するような、重合性化合物も含まれる。例えば、3官能以上の活性水素含有化合物(トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールなどの多価アルコール;ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンなどの多価アミ ン;トリエタノールアミンなどのアミノアルコールなど)、トリメリット酸、および/または3官能以上のポリイソシアネート[トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、トリメチロールプロパンとヘキサメチレンジイソシアネートの1対3付加物、ヘキサメチレンジイソシアネートの環状3量体など]との組合せ などが挙げられる。
【0023】
開環重合性化合物としては、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等のラクトン類、εーカプロラクタム、エナントラクタム、ラウリルラクタム等のラクタム類などが挙げられる。
【0024】
本発明のマイクロ波重合性組成物(X)において、組成物(X)の重量に対して、イオン液体(A)の含有量は0.1〜25重量%であることが好ましい。イオン液体(A)は少量でもマイクロ波吸収による発熱性が高く、0.1重量%以上の添加で、十分にマイクロ波硬化組成物の温度を上昇させることができる。またイオン液体(A)が25重量%以下であれば、イオン液体によるマイクロ波照射時の発熱性が非常に高く、重合性化合物(D)の濃度も高いため重合反応をより速やかに完了させることができる。
【0025】
本発明のマイクロ波重合性組成物(X)には、必要によりイオン液体(A)と重合性化合物(D)以外の添加物(E)を含有してもよい。添加物(E)の添加量は組成物(X)の重量に対して0〜20重量%である。
添加物(E)としては、重合開始剤、触媒などの重合反応に直接関与するもの、他に溶剤、顔料、着色剤、可塑剤、酸化防止剤、耐光安定剤などが挙げられる。
【0026】
重合開始剤としては、過酸化物及びアゾ化合物が挙げられる。
過酸化物としては、無機過酸化物(例えば、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなど)、および有機過酸化物(例えば、過酸化ベンゾイル、ジ−t−ブチルパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ラウリルパーオキシドなど)などが挙げられる。アゾ化合物としては、アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、アゾビスシアノ吉草酸およびその塩(例えば塩酸塩など)、およびアゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロライドなどが挙げられる。好ましいものは有機過酸化物である。重合開始剤の使用量(重量%)としては、モノマーの合計重量に基づいて、通常、0.0001〜20%が好ましく、さらに好ましくは0.001〜15%、特に好ましくは0.005〜10%である。反応温度および反応時間は、ラジカル重合開始剤の種類により適宜決定される。
【0027】
本発明のマイクロ波重合性組成物(D)をマイクロ波照射により重合する方法は例えば以下の方法が挙げられる。
【0028】
(1)本発明のマイクロ波重合性組成物を配合する工程
本発明のマイクロ波重合性組成物は必須成分であるイオン液体、重合性化合物の他に、開始剤、触媒、顔料、着色剤、可塑剤、酸化防止剤、耐光安定剤等を添加することができる。混合方法としては、イオン液体、重合性化合物を均一溶解後、添加剤を添加、混合していけばよい。混合の際の温度は、粘度が高い場合、加熱して粘度を下げることもできるが、この場合、開始剤、触媒等は入れない方が好ましい。開始剤、触媒を添加する際は、重合が開始しない条件であることを確認してから添加したほうがよい。可能であれば、開始剤、触媒は、マイクロ波照射を行う直前に添加するのが最も好ましい。
(2)−1 本発明のマイクロ波重合性組成物を塗布する工程
本発明に係るマイクロ波重合性組成物を基材上に塗布する方法としては、例えば、塗付、スプレー法、スピンコート、スクリーン印刷、グラビア印刷、凹板印刷、フレキソ印刷、バーコート法による方法等が挙げられるが、特に限定されない。
本発明のマイクロ波重合性組成物の利用方法は多様に考えられるが、例えば基板の表面コートに使用する場合、コーティング膜の精度にも影響されるが、塗布法が低コストであり、簡便である。本発明のマイクロ波重合性組成物用いて塗膜を形成させる際に使用する基材は、高温、例えば200℃以上の温度での熱処理で変形、溶融、劣化等の損傷を受けてしまう素材であっても、使用することができる。なぜならば、温度上昇する部分が、マイクロ波硬化組成物に限られ、基材が熱伝導により昇温する前に、反応が完結してしまうからである。よって、本発明に係る本発明のマイクロ波重合性組成物を用いれば、より広い範囲の基材の中から選ぶことができ、高い密着性を有する被膜を形成させることができる。本発明に係るマイクロ波重合性組成物を適用する基材としては、例えば、熱にガラス、セラミックなどの基材をはじめ、高温をかけると変形または分解するおそれのある高分子系の基体(例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル樹脂等)が挙げられる。
【0029】
本発明のマイクロ波重合性組成物と基材との濡れ性が悪い場合には、使用するイオン液体の組成を調整することにより、濡れ性を向上させればよい。本発明のマイクロ波重合性組成物は重合性化合物を代えることなく、イオン液体により、溶解性パラメーター(SP値)を調整することができる。
【0030】
(2)−2 本発明のマイクロ波重合性組成物を鋳型に注入する工程
本発明に係るマイクロ波重合性組成物は液状であるため、様々な鋳型内に注入、あるいは展開し、硬化させることができる。注入する方法は特に限定されないが、従来から知られる重力注型法、トップゲート方式、アンダーゲート方式、真空注型法などが挙げられる。
【0031】
(3)マイクロ波照射工程
本発明のマイクロ波重合性組成物を基材に塗布、または鋳型内に注入した後、これをマイクロ波照射装置内にセットする。マイクロ波照射の強度は装置によるが、家庭用の電子レンジと同じ500W程度の照射でも、マイクロ波硬化組成物は十分に硬化することができる。硬化が可能な照射強度としては、30〜3000Wが好ましく、100〜1500Wが特に好ましい。照射強度を上げればその分、硬化速度は速くなるが、温度制御が困難になり、過昇温させてしまうので注意を要する。硬化に必要な時間は、マイクロ波硬化組成物の組成にもよるが、5秒〜10分である。照射時の雰囲気、温度は特に限定されないので、照射装置内の雰囲気管理等は特に必要としない。
【0032】
実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
以下、部は重量部とする。
【0033】
製造例1
<ウレタンプレポリマーの合成>
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(50部)と、ポリオキシテトラメチレングリコール(分子量1000)(100部)と、触媒としてジブチルチンジラウレート(0.01部)を攪拌装置、温度計、窒素導入管を備えた、ガラス製4つ口フラスコに入れ、80℃に加熱して、4時間反応させることで、ウレタンプレポリマー(P)を得た。イソシアネート基含量は5.6%であった。
【0034】
製造例2
<1、2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム系イオン液体の合成>
ガラス製オートクレーブに1,2−ジアミノプロパン(800部)(和光純薬製)と酢酸エチル(900部)(和光純薬製)を入れ、150℃で20時間反応を行い、100℃まで冷却した後、蒸留装置を取り付けた後、200℃で蒸留を行ない、2,4−ジメチルイミダゾリンを700部得た。これにエタノール(750部)を入れ、ジメチルカーボネート(1110部)(宇部興産製)を20℃で30分かけて滴下した。さらに50℃で10時間熟成を行った。反応物を減圧脱溶剤により生成したメタノールを除去し、1、2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムとメチルカーボネートの塩(C−1)を1000部得た。塩(C−1)(100部)をメタノール(100部)に溶解し、これにトリフルオロメタンスルホニルイミド(150部)(関東化学社製)を0.5時間かけて20℃で滴下を行い、減圧脱溶剤により、1、2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体(I−1)を得た。塩(C−1)(100部)をメタノール(100部)に溶解し、これにフタル酸(87部)を0.5時間かけて20℃で少量ずつ添加し、減圧脱溶剤により、1、2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムとフタル酸アニオンからなるイオン液体(I−2)を得た。
【0035】
製造例3
<1、2,3−トリメチルイミダゾリニウム系イオン液体の合成>
ガラス製オートクレーブにエチレンジアミン(582部)(和光純薬製)と酢酸エチル(900部)を入れ、150℃で20時間反応を行い、100℃まで冷却した後、蒸留装置を取り付けた後、200℃で蒸留を行ない、2−メチルイミダゾリンを700部得た。これにエタノール(750部)を入れ、ジメチルカーボネート(1110部)を20℃で30分かけて滴下した。さらに50℃で10時間熟成を行った。反応物を減圧脱溶剤により生成したメタノールを除去し、1、2,3−テトラメチルイミダゾリニウムとメチルカーボネートの塩(C−2)を1000部得た。塩(C−2)(92部)をメタノール(100部)に溶解し、これにトリフルオロメタンスルホンイミド(150部)を0.5時間かけて20℃で滴下を行い、減圧脱溶剤により、1、2,3−トリメチルイミダゾリニウムとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体(I−3)を得た。塩(C−2)(92部)をメタノール(100部)に溶解し、これにフタル酸(87部)を0.5時間かけて20℃で少量ずつ添加し、減圧脱溶剤により、1、2,3−トリメチルイミダゾリニウムとフタル酸アニオンからなるイオン液体(I−4)を得た。
【0036】
<実施例1>
製造例1で合成したウレタンプレポリマー(P)(100部)、1,4−ブタンジオール(7部)(和光純薬製)、イオン液体(I−3)(33部)を500mlの4つ口フラスコに入れ、スリーワンモーター(アズワン社製)を用いて150rpmで30℃で1時間混合することで、マイクロ波重合性組成物(X−1)を得た。イオン液体(A)の含有量はマイクロ波重合性組成物(X)の重量に対して、24重量%であった。
【0037】
<実施例2>
分子内のアクリレート基数が2で、分子量が約900のエポキシアクリレートEBECRYL 3105(ダイセル・サイテック社製)(70部)、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(12.4部)(新中村化学工業社製)、過酸化ベンゾイル(2.5部)(和光純薬製)、イオン液体(I−2)(0.1部)を500mlの4つ口フラスコに入れ、スリーワンモーター(アズワン社製)を用いて150rpmで30℃で1時間混合することで、マイクロ波重合性組成物(X−2)を得た。イオン液体(A)の含有量はマイクロ波重合性組成物(X)の重量に対して、0.1重量%であった。
【0038】
<実施例3>
分子内のアクリレート基数が2で、分子量が1500のウレタンアクリレートEBECRYL270(ダイセル・サイテック社製)(70部)、トリメチロールプロパントリアクリレート(15部)(新中村化学工業社製)、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(10部)、過酸化ベンゾイル(2.5部)、イオン液体(I−1)(2.5部)を500mlの4つ口フラスコに入れ、スリーワンモーター(アズワン社製)を用いて150rpmで30℃で1時間混合することで、マイクロ波重合性組成物(X−3)を得た。イオン液体(A)の含有量はマイクロ波重合性組成物(X)の重量に対して、2.5重量%であった。
【0039】
<実施例4>
ビスフェノールAジグリシジルエーテル(油化シェルエポキシ)(100部)と、エピキュア113(4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキサン)アミン)(油化シェルエポキシ)(30部)と、イオン液体(I−4)(10部)を500mlの4つ口フラスコに入れ、スリーワンモーター(アズワン社製)を用いて150rpmで30℃で1時間混合することで、マイクロ波重合性組成物(X−4)を得た。イオン液体(A)の含有量はマイクロ波重合性組成物(X)の重量に対して、7.1重量%であった。
【0040】
<比較例1>
製造例1で合成したウレタンプレポリマー(P)(100部)、1,4−ブタンジオール(7部)、1-ブチル−3−メチルイミダゾリウムとビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンからなるイオン液体(33部)(関東化学社製)を500mlの4つ口フラスコに入れ、スリーワンモーター(アズワン社製)を用いて150rpmで30℃で1時間混合することで、マイクロ波重合性組成物(X’−1)を得た。イオン液体(A)の含有量はマイクロ波重合性組成物(X)の重量に対して、24重量%であった。
【0041】
<比較例2>
分子内のアクリレート基数が2で、分子量が約900のエポキシアクリレートEBECRYL 3105(70部)、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(12.4部)、過酸化ベンゾイル(2.5部)、1-エチル−3−メチルイミダゾリウムと4フッ化ホウ素酸アニオンからなるイオン液体(0.1部)を500mlの4つ口フラスコに入れ、スリーワンモーター(アズワン社製)を用いて150rpmで30℃で1時間混合することで、マイクロ波重合性組成物(X’−2)を得た。イオン液体(A)の含有量はマイクロ波重合性組成物(X)の重量に対して、0.1重量%であった。
【0042】
<比較例3>
分子内のアクリレート基数が2で、分子量が1500のウレタンアクリレートEBECRYL270(70部)、トリメチロールプロパントリアクリレート(15部)、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(10部)、過酸化ベンゾイル(2.5部)、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムと臭化物イオンからなるイオン液体(2.5部)を500mlの4つ口フラスコに入れ、スリーワンモーター(アズワン社製)を用いて150rpmで30℃で1時間混合することで、マイクロ波重合性組成物(X’−3)を得た。イオン液体(A)の含有量はマイクロ波重合性組成物(X)の重量に対して、2.5重量%であった。
【0043】
<比較例4>
ビスフェノールAジグリシジルエーテル(油化シェルエポキシ)(100部)と、エピキュア113(4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキサン)アミン)(油化シェルエポキシ)(30部)と、1-エチル−3−メチルイミダゾリウムと4フッ化ホウ素酸アニオンからなるイオン液体(10部)を500mlの4つ口フラスコに入れ、スリーワンモーター(アズワン社製)を用いて150rpmで30℃で1時間混合することで、マイクロ波重合性組成物(X’−4)を得た。イオン液体(A)の含有量はマイクロ波重合性組成物(X)の重量に対して、7.1重量%であった。
【0044】
<マイクロ波照射による硬化試験>
マイクロ波重合性組成物(X−1)〜(X−4)、及び(X’−1)〜(X’−4)を、100×100×10mmのテフロン製の容器に、2mmの膜厚になるように展開した後、マイクロ波照射装置μリアクター(四国計測工業製)内に入れ、500Wの条件で120秒間マイクロ波照射を行ない、マイクロ波重合性組成物の硬化を行った。
厚さ2.0mmのシートが得られた。このシートについて、以下の試験方法で強度試験の測定を行なった。その結果を表1に示した。
【0045】
<硬化物強度試験>
引張破断点強度および引張破断点伸び
JIS K6301(1995年改正)に従い、引張速度200mm/分で引張試験(オートグラフAG−500N/50N IS、島津製作所製)を行なって測定した。
【0046】
<耐アルカリ試験>
JIS A1193(2005年制定)に基づいてアルカリ溶液Aを調整した。アルカリ溶液浸漬後、引張強度の確認を行った。硬化物強度試験で使用したのと同様の試験片をJIS A1193に従い、溶液Aに60℃で28日間漬けた後、強度試験を行った。これらの結果を表1に示す。
【0047】
【表1】

【0048】
上述のように、ウレタン系、アクリレート系、エポキシ系樹脂同士を比較すると、本発明のマイクロ波重合性組成物(X)は、従来からあるイオン液体を使用したマイクロ波重合性組成物と比較して、耐アルカリ試験後の物性の低下が小さいことが分る。
【産業上の利用可能性】
【0049】
本発明のマイクロ波重合性組成物は、接着剤、コーティング剤、塗料、レジスト材料、ポリマー製の各種成形物、レンズ、フィルム等の各種光学成形材料など、これまでオーブン、電気炉などによる加熱、またはUV硬化、電子線硬化などの方法により固化定着を行っていたものを、マイクロ波照射により強力に固化定着させることができるようになるため、省エネ、被接着体への熱履歴低減できる点、実用的な強度を持つ点、アルカリ耐性が非常に高い点からも極めて有用である。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
イオン液体(A)と重合性化合物(D)を含有するマイクロ波重合性組成物であって、イオン液体(A)のカチオン(a1)が、一般式(1)又は一般式(2)で示される環状カチオンであることを特徴とするマイクロ波重合性組成物(X)。
【化1】

【化2】

[一般式(1)又は一般式(2)において、R、R、及びRは、それぞれ水酸基、アミノ基、ビニル基、グリシジル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基及びアルデヒド基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を有していてもよい炭素数1〜10(官能基の炭素数は含まない)の炭化水素基、又はエーテル結合を有する炭素数1〜20の炭化水素基である。
は、水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜20の炭化水素基または水素原子である。Qは炭素数2〜20の2価の飽和炭化水素基である。]
【請求項2】
カチオン(a1)がイミダゾリニウムカチオン(a11)である請求項1に記載のマイクロ波重合性組成物(X)。
【請求項3】
イミダゾリニウムカチオン(a11)が1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウムである請求項2に記載のマイクロ波重合性組成物(X)。
【請求項4】
イミダゾリニウムカチオン(a11)が1,2,3−トリメチルイミダゾリニウムである請求項2に記載のマイクロ波重合性組成物(X)。
【請求項5】
組成物(X)の重量に対して、イオン液体(A)の含有量が0.1〜25重量%である請求項1〜4のいずれか1項に記載のマイクロ波重合性組成物(X)。
【請求項6】
請求項1〜5のいずれか1項に記載のマイクロ波重合性組成物(X)にマイクロ波を照射することを特徴とする重合性化合物(D)の重合方法。
【請求項7】
請求項1〜5のいずれか1項に記載の組成物(X)を硬化してなることを特徴とする硬化物。


【公開番号】特開2009−167362(P2009−167362A)
【公開日】平成21年7月30日(2009.7.30)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−9974(P2008−9974)
【出願日】平成20年1月21日(2008.1.21)
【公序良俗違反の表示】
(特許庁注:以下のものは登録商標)
1.テフロン
【出願人】(000002288)三洋化成工業株式会社 (1,719)
【Fターム(参考)】