光学フィルム、塗布組成物、偏光板、及び画像表示装置
【課題】防汚性、防塵性に優れる、光学フィルムを提供すること。
【解決手段】支持体上に、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層を有する光学フィルムであって、該光学フィルムが含フッ素シラン化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
【解決手段】支持体上に、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層を有する光学フィルムであって、該光学フィルムが含フッ素シラン化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層を有する光学フィルムであって、該光学フィルムが含フッ素シラン化合物を含有する光学フィルム。
【請求項２】
該導電性粒子を含有する層の上層に、含フッ素シラン化合物を含有する防汚層を有する請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層に、オルガノシランの加水分解物及び／又は縮合反応物の少なくともいずれか１種の硬化物を含有する請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層が、含フッ素シラン化合物を含有し、かつ該層が最表面層である請求項１または３に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式［１］で表される化合物である請求項１〜４に記載の光学フィルム。
一般式［１］ （Ｒｆ−Ｌ1）n−Ｓｉ（Ｒ11）4-n
（式中、Ｒｆは炭素数１〜２０の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数６〜１４の含フッ素芳香族基を表す。Ｌ1は炭素数１０以下の２価の連結基を表し、Ｒ11はアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。）
【請求項６】
前記一般式［１］で表される含フッ素シラン化合物が下記一般式［２］で表される化合物である請求項５に記載の光学フィルム。
一般式[２] ＣnＦ2n+1−（ＣＨ2）m−Ｓｉ（Ｒ）3
（式中、ｎは１０以上の整数を表し、ｍは１〜５の整数を表す。Ｒは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）
【請求項７】
前記含フッ素シラン化合物が、パーフルオロポリエーテル基を含有する請求項１〜４に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[３]で表される化合物である請求項７に記載の光学フィルム。
一般式[３]
【化１】
（式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1は加水分解可能な基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。）
【請求項９】
前記一般式[３]で表される含フッ素シラン化合物が、下記一般式[４]で表される化合物である請求項８に記載の光学フィルム。
一般式[４]
【化２】
（式中、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｒ1 は加水分解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の整数、ｐは２〜１０の整数を表す。）
【請求項１０】
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[５]で表される化合物である請求項１〜４に記載の光学フィルム。
一般式[５]
Ｒｆ5[−（Ｌ5）ｎ−Ｘ−Ｒ51 −Ｓｉ（ＯＲ52）3 ]ｍ
（式中、Ｒｆ5はパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ51 はアルキレン基を、Ｒ52はアル
キル基を、Ｌ5は−ＣＯ−を、Ｘは−Ｏ−、−ＮＲ53−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２
ＮＲ53−、−ＮＲ53ＣＯ−から選ばれる基を、ｎは０又は１、ｍは２以下の自然数をそれぞれ表す。Ｒ53は水素原子又は炭素数３以下のアルキル基を表す。）
【請求項１１】
前記含フッ素シラン化合物を含有する層に、更に下記一般式[７]で表される化合物を含有する請求項１〜１０に記載の光学フィルム。
一般式[７]
Ｒ71 −Ｓｉ（ＯＲ72 ）3
（式中、Ｒ71 は炭素数１０以上の長鎖炭化水素基を、Ｒ72はアルキル基を表す。）
【請求項１２】
Ｘ線光電子分光法により測定した、膜表面のシリコン原子（Ｓｉ2ｐ）とフッ素原子（
Ｆ1ｓ）のピーク面積比（Ｓｉ2ｐ／Ｆ1ｓ）が０．０以上０．４以下である請求項１〜１１に記載の光学フィルム。
【請求項１３】
動摩擦係数が０．０２以上０．３０以下である請求項１〜１２に記載の光学フィルム。
【請求項１４】
水の接触角が９５度以上である請求項１〜１３に記載の光学フィルム。
【請求項１５】
光学フィルムの表面抵抗をｌｏｇ（ＳＲ）で表したときの値が１２以下である請求項１〜１４に記載の光学フィルム。
【請求項１６】
前記導電性粒子を含有する層が低屈折率層であり、膜厚が１３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である請求項１〜１５に記載の光学フィルム。
【請求項１７】
以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の各成分を含有する塗布組成物。
（Ａ）粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子。
（Ｂ）オルガノシラン、及び／又はその加水分解物、及び／又はその縮合反応物の少なくともいずれか１種。
（Ｃ）含フッ素シラン化合物及び／又はその加水分解物、及び／又はその縮合反応物の少なくともいずれか１種。
【請求項１８】
前記（Ｃ）成分である含フッ素シラン化合物が、下記一般式[１]〜[５]のいずれかで表される化合物である請求項１７記載の塗布組成物。
一般式［１］ （Ｒｆ−Ｌ1）n−Ｓｉ（Ｒ11）4-n
（式中、Ｒｆは炭素数１〜２０の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数６〜１４の含フッ素芳香族基を表す。Ｌ1は炭素数１０以下の２価の連結基を表し、Ｒ11はアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。）
一般式[２] ＣnＦ2n+1−（ＣＨ2）m−Ｓｉ（Ｒ）3
（式中、ｎは１０以上の整数を表し、ｍは１〜５の整数を表す。Ｒは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）
一般式[３]
【化３】
（式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1は加水分解可能な基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。）
一般式[４]
【化４】
（式中、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｒ1 は加水分解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の整数、ｐは２〜１０の整数を表す。）
一般式[５]
Ｒｆ5[−（Ｌ5）ｎ−Ｘ−Ｒ51 −Ｓｉ（ＯＲ52）3 ]ｍ
（式中、Ｒｆ5はパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ51 はアルキレン基を、Ｒ52はアル
キル基を、Ｌ5は−ＣＯ−を、Ｘは−Ｏ−、−ＮＲ53−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２
ＮＲ53−、−ＮＲ53ＣＯ−から選ばれる基を、ｎは０又は１、ｍは２以下の自然数をそれぞれ表す。Ｒ53は水素原子又は炭素数３以下のアルキル基を表す。）
【請求項１９】
請求項１〜１６のいずれかに記載の光学フィルムを有する偏光板。
【請求項２０】
請求項１〜１６のいずれかに記載の光学フィルムを有する画像表示装置。
【請求項１】
支持体上に、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層を有する光学フィルムであって、該光学フィルムが含フッ素シラン化合物を含有する光学フィルム。
【請求項２】
該導電性粒子を含有する層の上層に、含フッ素シラン化合物を含有する防汚層を有する請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層に、オルガノシランの加水分解物及び／又は縮合反応物の少なくともいずれか１種の硬化物を含有する請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層が、含フッ素シラン化合物を含有し、かつ該層が最表面層である請求項１または３に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式［１］で表される化合物である請求項１〜４に記載の光学フィルム。
一般式［１］ （Ｒｆ−Ｌ1）n−Ｓｉ（Ｒ11）4-n
（式中、Ｒｆは炭素数１〜２０の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数６〜１４の含フッ素芳香族基を表す。Ｌ1は炭素数１０以下の２価の連結基を表し、Ｒ11はアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。）
【請求項６】
前記一般式［１］で表される含フッ素シラン化合物が下記一般式［２］で表される化合物である請求項５に記載の光学フィルム。
一般式[２] ＣnＦ2n+1−（ＣＨ2）m−Ｓｉ（Ｒ）3
（式中、ｎは１０以上の整数を表し、ｍは１〜５の整数を表す。Ｒは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）
【請求項７】
前記含フッ素シラン化合物が、パーフルオロポリエーテル基を含有する請求項１〜４に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[３]で表される化合物である請求項７に記載の光学フィルム。
一般式[３]
【化１】
（式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1は加水分解可能な基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。）
【請求項９】
前記一般式[３]で表される含フッ素シラン化合物が、下記一般式[４]で表される化合物である請求項８に記載の光学フィルム。
一般式[４]
【化２】
（式中、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｒ1 は加水分解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の整数、ｐは２〜１０の整数を表す。）
【請求項１０】
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[５]で表される化合物である請求項１〜４に記載の光学フィルム。
一般式[５]
Ｒｆ5[−（Ｌ5）ｎ−Ｘ−Ｒ51 −Ｓｉ（ＯＲ52）3 ]ｍ
（式中、Ｒｆ5はパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ51 はアルキレン基を、Ｒ52はアル
キル基を、Ｌ5は−ＣＯ−を、Ｘは−Ｏ−、−ＮＲ53−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２
ＮＲ53−、−ＮＲ53ＣＯ−から選ばれる基を、ｎは０又は１、ｍは２以下の自然数をそれぞれ表す。Ｒ53は水素原子又は炭素数３以下のアルキル基を表す。）
【請求項１１】
前記含フッ素シラン化合物を含有する層に、更に下記一般式[７]で表される化合物を含有する請求項１〜１０に記載の光学フィルム。
一般式[７]
Ｒ71 −Ｓｉ（ＯＲ72 ）3
（式中、Ｒ71 は炭素数１０以上の長鎖炭化水素基を、Ｒ72はアルキル基を表す。）
【請求項１２】
Ｘ線光電子分光法により測定した、膜表面のシリコン原子（Ｓｉ2ｐ）とフッ素原子（
Ｆ1ｓ）のピーク面積比（Ｓｉ2ｐ／Ｆ1ｓ）が０．０以上０．４以下である請求項１〜１１に記載の光学フィルム。
【請求項１３】
動摩擦係数が０．０２以上０．３０以下である請求項１〜１２に記載の光学フィルム。
【請求項１４】
水の接触角が９５度以上である請求項１〜１３に記載の光学フィルム。
【請求項１５】
光学フィルムの表面抵抗をｌｏｇ（ＳＲ）で表したときの値が１２以下である請求項１〜１４に記載の光学フィルム。
【請求項１６】
前記導電性粒子を含有する層が低屈折率層であり、膜厚が１３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である請求項１〜１５に記載の光学フィルム。
【請求項１７】
以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の各成分を含有する塗布組成物。
（Ａ）粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子。
（Ｂ）オルガノシラン、及び／又はその加水分解物、及び／又はその縮合反応物の少なくともいずれか１種。
（Ｃ）含フッ素シラン化合物及び／又はその加水分解物、及び／又はその縮合反応物の少なくともいずれか１種。
【請求項１８】
前記（Ｃ）成分である含フッ素シラン化合物が、下記一般式[１]〜[５]のいずれかで表される化合物である請求項１７記載の塗布組成物。
一般式［１］ （Ｒｆ−Ｌ1）n−Ｓｉ（Ｒ11）4-n
（式中、Ｒｆは炭素数１〜２０の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数６〜１４の含フッ素芳香族基を表す。Ｌ1は炭素数１０以下の２価の連結基を表し、Ｒ11はアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。）
一般式[２] ＣnＦ2n+1−（ＣＨ2）m−Ｓｉ（Ｒ）3
（式中、ｎは１０以上の整数を表し、ｍは１〜５の整数を表す。Ｒは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）
一般式[３]
【化３】
（式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1は加水分解可能な基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。）
一般式[４]
【化４】
（式中、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｒ1 は加水分解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の整数、ｐは２〜１０の整数を表す。）
一般式[５]
Ｒｆ5[−（Ｌ5）ｎ−Ｘ−Ｒ51 −Ｓｉ（ＯＲ52）3 ]ｍ
（式中、Ｒｆ5はパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ51 はアルキレン基を、Ｒ52はアル
キル基を、Ｌ5は−ＣＯ−を、Ｘは−Ｏ−、−ＮＲ53−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２
ＮＲ53−、−ＮＲ53ＣＯ−から選ばれる基を、ｎは０又は１、ｍは２以下の自然数をそれぞれ表す。Ｒ53は水素原子又は炭素数３以下のアルキル基を表す。）
【請求項１９】
請求項１〜１６のいずれかに記載の光学フィルムを有する偏光板。
【請求項２０】
請求項１〜１６のいずれかに記載の光学フィルムを有する画像表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００７−２７２１９７（Ｐ２００７−２７２１９７Ａ）
【公開日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２８１３３（Ｐ２００７−２８１３３）
【出願日】平成１９年２月７日（２００７．２．７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月７日（２００７．２．７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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