搬送装置及び基板処理装置
【課題】生産性を向上させることができ、かつメンテナンスが容易な搬送装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板４，５を搬送する搬送手段と、基板４，５が搬送される搬送方向と交差する方向の基板４，５の移動を規制する規制１０とを有する搬送装置において、
規制装置１０は、基板４，５を通過させる幅を回転角によって変更させることができる、回動可能に支持された、回転軸１、第１のサイドローラ２及び第２のサイドローラ３からなる軸部材を有する。
【解決手段】基板４，５を搬送する搬送手段と、基板４，５が搬送される搬送方向と交差する方向の基板４，５の移動を規制する規制１０とを有する搬送装置において、
規制装置１０は、基板４，５を通過させる幅を回転角によって変更させることができる、回動可能に支持された、回転軸１、第１のサイドローラ２及び第２のサイドローラ３からなる軸部材を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被搬送材を搬送する搬送装置、及び基板を被搬送材とする基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板処理装置においては、生産品種の変更に際して幅寸法の異なる基板を処理する場合がある。また、適格な処理を行うためには、基板の幅方向への移動を規制する必要がある。
【０００３】
幅方向の移動を規制するための機構としては、サイドローラを基板の搬送経路の両側に設けたものが挙げられる。この機構は、サイドローラに基板の側端を当接させることで基板の幅方向の移動を規制し、基板のサイズが変更されると、基板のサイズに合わせてサイドローラを搬送経路の幅方向に平行移動させるものである。
【０００４】
この他、引用文献１には、傾斜させた搬送ローラを用い、その搬送ローラの下位側に配置されたサイドローラを基板の幅に合わせてボールネジ機構により移動させる構成の位置保持手段が開示されている。
【特許文献１】特開平０９−２３２２６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、サイドローラを幅方向に平行移動させることでその間隔を変更する構成の場合、サイドローラを基板の幅に合わせてその位置を調整するのに時間を要していた。その結果、生産に寄与しない無駄時間が多くなり、生産性が向上しない場合があった。
【０００６】
一方、引用文献１に開示された方式の場合、ボールネジ機構が摺動部を有するため、定期的なメンテナンスが要求される。また、ボールネジ機構が基板処理装置内に配置されていることから、注油等、メンテナンスも煩雑となる。
【０００７】
そこで、本発明は、生産性を向上させることができ、かつメンテナンスが容易な搬送装置及び基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため本発明の搬送装置は、被搬送材を搬送する搬送手段と、被搬送材が搬送される搬送方向と交差する方向の被搬送材の移動を規制する規制手段とを有する搬送装置において、規制手段は、被搬送材を通過させる幅を回転角によって変更させることができる、回動可能に支持された軸部材を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、規制手段が、被搬送材を通過させる幅を変更させることができる回動可能に支持された軸部材を有するので、生産性を向上させることができ、かつメンテナンスが容易となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
（第１の実施形態）
図１に本実施形態の基板処理装置の全体の構成を示す模式的な側面図を示す。
【００１１】
基板処理装置１００は、基板投入部８１と、処理槽部８２〜８６と、乾燥処理部８７と、基板取出部８８とを有し、これらが、基板４が搬送されていく上流側からこの順に配列されている。
【００１２】
基板投入部８１、処理槽部８２〜８６、乾燥処理部８７及び基板取出部８８はいずれも被搬送材である基板４の搬送手段として、ローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、基板４の搬送方向（図中矢印Ａ方向）と直交する方向に回転軸を有する複数の搬送ローラ７が所定のピッチで搬送方向に並設されてなるものである。搬送ローラ７の配列ピッチは、基板４の搬送方向の寸法よりも小さくなるように設定されている。搬送ローラ７が不図示の駆動手段により回転駆動（図１においては時計回り方向に回転）されることで、基板４は、搬送ローラ７上を矢印Ａ方向に向けて搬送されることとなる。
【００１３】
基板投入部８１は、前工程から不図示のコンベア等により移送されてきた基板４が投入される領域である。基板投入部８１の搬送ローラ７上に移送された基板４は、搬送ローラ７が回転駆動されることで、基板４を処理槽部８２へと導入する。
【００１４】
処理槽部８２〜８６内においては、基板４に対して所望の処理が施される。基板４は搬送ローラ７により処理槽部８２から処理槽部８６まで各処理槽内を矢印Ａ方向に搬送される。その間、処理槽部８２〜８４において所定の薬液が基板４に表面に供給される。処理槽部８４を通過した後、処理槽８５、８６においては、基板４に純水等を供給し、基板４の表面の洗浄がなされる。処理槽８５では純水が低圧で基板４に噴射され、処理槽８６では純水が高圧で基板４に対して噴射される。
【００１５】
純水により洗浄された基板４は、搬送ローラ７により、さらに乾燥処理部８７内へと搬送され、乾燥処理部８７では、基板４の上下に配置されたスリット状の開口から窒素等の気体が噴出され、基板４を乾燥させる。
【００１６】
次いで、基板４は、乾燥処理部８７から搬送ローラ７により基板取出部８８へと搬送される。基板取出部８８に搬送されてきた基板４は不図示のコンベア等により次工程へと移送される。
【００１７】
なお、上述した基板４の処理例は一例であり、本発明はこのような処理内容に限定されるものではない。
【００１８】
次に、図２（ａ）に本実施形態の基板処理装置における規制装置の一部拡大図、図２（ｂ）に図２（ａ）のＡ−Ａ線における矢視図を示す。また、図３は第１のサイドローラによる規制状態を示す規制装置の斜視図であり、図４は第２のサイドローラによる規制状態を示す規制装置の斜視図である。
【００１９】
図２（ａ）に示すように、並設された搬送ローラ７の間には、基板４が搬送される搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向、すなわち、基板４の幅方向（図２（ｂ）中矢印Ｂ方向）の移動を規制する規制装置１０が配置されている。この規制装置１０は、回転軸１と、第１のサイドローラ２と、第２のサイドローラ３とを有する軸部材を備えている。回転軸１は、図２（ｂ）に示すように、基板４の搬送経路の幅方向に延在しており、その両端部は基板処理装置１００の側壁８において、軸受け９により回転可能に支持されている。この回転軸１は不図示の駆動手段により回転し、所定の位置で固定される。また、回転軸１上には、一対の規制部である第１のサイドローラ２が設けられている。第１のサイドローラ２は回転軸１に固定されている軸部２ｂと、軸部２ｂに回転可能に取り付けられたローラ部２ａを有する。ローラ部２ａは緩衝特性に優れ、かつ摩擦係数の大きいゴムや柔軟性を有する樹脂を適用することができる。これにより、ローラ部２ａに基板４の側部４ａが当接しても基板４を損傷させることなく、ローラ部２ａを軸部２ｂ周りに確実に連れ回りさせることができる。回転軸１の高さ方向の位置は、基板４が通過する高さより下方に配置されている。
【００２０】
このような第１のサイドローラ２が、互いに回転軸１の同一回転角上に間隔Ｗ１を空けて配置されている。これら一対の第１のサイドローラ２の間隔Ｗ１は、基板４の幅ｗ１に僅かな遊び代を加えた寸法であり、基板４の幅ｗ１よりもわずかに広い。
【００２１】
また、この回転軸１上には第１のサイドローラ２と同じ構造を有する第２のサイドローラ３が一対の規制部として互いに回転軸１の同一回転角上に間隔Ｗ２を空けて配置されている。一対の第２のサイドローラ３の間隔Ｗ２は、基板４の幅ｗ１よりも狭い幅ｗ２の基板に対応しており、幅ｗ２に僅かな遊び代を加えた寸法であり、基板５の幅ｗ２よりもわずかに広い。第２のサイドローラ３は、図２（ａ）に示すように、第１のサイドローラ２の反対側に配置されている。すなわち、第１のサイドローラ２が配置されている位置を回転角α＝０°の位置とすると、第２のサイドローラ３は、回転角α＝１８０°の位置に配置されている。
【００２２】
次に、規制装置１０による基板の幅方向の移動の規制方法について説明する。
【００２３】
まず、図３に示すように幅ｗ１の基板４が基板処理装置により処理される場合について説明する。
【００２４】
この場合、回転軸１は、第１のサイドローラ２が上方に配置され、第２のサイドローラ３が下方に配置されるように回動させられる。回転軸１は、第１のサイドローラ２の軸部２ｂの軸線と基板４の主面とが直交した位置で固定される。これにより、第１のサイドローラ２のローラ部２ａのローラ面は、基板４の側部４ａと当接する際、側部４ａに対して垂直に当接可能となる。一方、第１のサイドローラ２に対して回転角が１８０°ずれた位置の第２のサイドローラ３は、基板４と干渉しない位置に退避しているため、基板４の搬送を阻害することはない。
【００２５】
次に、図４に示すように幅ｗ２の基板５が基板処理装置により処理される場合について説明する。
【００２６】
この場合、回転軸１を図３に示す状態から１８０°回転させて、第２のサイドローラ３を上方に配置し、第１のサイドローラ２を下方に配置させる。回転軸１はこの位置で固定される。これにより、基板の搬送経路の幅はＷ１からＷ２へと変更される。
【００２７】
以上のように、本実施形態によれば、規制装置１０の回転軸１を回動させるだけで、基板を通過させる幅を変更させることができる。このため、本発明によれば、生産品種数が増大しても生産に寄与しない装置の停止時間を短縮できるので、生産性の向上が可能である。また、規制装置１０は、基本的な構成が、回動可能に支持された回転軸１、この回転軸１に設けられた第１のサイドローラ２及び第２のサイドローラ３のみからなる。また、規制装置１０は、基板処理装置１００内にボールネジ軸等、注油を要する構造を有するものでもない。よって、本発明の規制装置１０はメンテナンスを極めて容易なものとすることができる。
（第２の実施形態）
次に、図５（ａ）に本実施形態の基板処理装置における規制装置の一部拡大図、図５（ｂ）に図５（ａ）のＢ−Ｂ線における矢視図を示す。
【００２８】
第１の実施形態では、２組のサイドローラにより、２種類の幅の基板に対応可能な規制装置１０について説明した。本実施形態では、４組のサイドローラ２４〜２６を有し、４種類の幅の基板に対応可能な規制装置２０について説明する。なお、規制装置２０の基本的な構成は、第１実施形態の規制装置１０と同様であるため、異なる点についてのみ説明するものとする。
【００２９】
本実施形態の規制装置２０は、４組のサイドローラ２４〜２６が、回転軸３１上の互いに異なる回転角となる位置に配置されている。第１のサイドローラ２３が配置されている位置を回転角α＝０°の位置とすると、第２のサイドローラ２４は回転角α＝９０°、第３のサイドローラ２５は回転角α＝１８０°、第４のサイドローラ２５は回転角α＝２７０°の位置にそれぞれ配置されている。
【００３０】
また、各サイドローラ２４〜２６の間隔も互いに異なる。第１のサイドローラ２３の間隔Ｗ３が最も広く、第２のサイドローラ２４の間隔Ｗ４、第３のサイドローラ２４の間隔Ｗ５の順に狭くなり、第４のサイドローラ２４の間隔Ｗ６が最も狭い。
【００３１】
以上のような構成である本実施形態の規制装置２０は、４種類の幅の基板に対応可能である。例えば、第１のサイドローラ２３の間隔Ｗ３に応じた基板を処理した後、第２のサイドローラ２４の間隔Ｗ４に対応した基板を処理する場合、回転軸３１を図５（ａ）中反時計回りに９０°回動させた後、固定する。これにより、基板を通過させる幅を間隔Ｗ３から間隔Ｗ４へと変更することができる。同様に、間隔Ｗ３から間隔Ｗ５に変更するときは図５（ａ）中反時計回りに１８０°回動させる。また、間隔Ｗ３から間隔Ｗ６に変更するときは図５（ａ）中反時計回りに２７０°回動させる、あるいは、時計回りに９０°回動させる。
【００３２】
なお、各サイドローラ２４〜２６のうちのいずれかが基板の幅方向の移動を規制するために基板の搬送経路の側方に配置されている状態においては、他のサイドローラは搬送経路から退避した位置に配置されている。よって、他のサイドローラが搬送中の基板と干渉することはない。
【００３３】
以上のように、本実施形態も第１の実施形態と同様に、規制装置２０の回転軸３１を回動させるだけで、基板を通過させる幅を変更させることができる。このため、本実施形態も第１の実施形態と同様に、生産性の向上が可能であるとともに、メンテナンスを極めて容易なものとすることができる。
【００３４】
なお、上述に各実施形態では、回転軸の高さ方向の位置は、基板が通過する位置よりも下方に配置された例を示した。しかしながら、本発明は、これに限定されるものではなく、基板の上方に配置されているものであってもよい。また、回転軸は、基板の搬送方向と交差する方向に延在し、かつ基板の搬送経路を横断する１本の軸として示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、回転軸は、基板の搬送経路を横断するものではなく、搬送経路の両側にそれぞれ片持ち支持されたものとしてもよい。このような構成とすることで、回転軸が各基板の処理の際に邪魔にならないようにすることができる。
【００３５】
また、上述した各実施形態では、規制手段は、回転角によって被搬送材を通過させる幅が変わる軸部材を、回転軸の両端部であって、回転角の異なる位置に設けた複数のサイドローラにより構成したが本発明はこれに限定されるものではない。本発明は、ローラが設けられた位置にローラ機構を持たない、棒状の部材等を配置してもよい。または回転軸の両端部に偏心させた円盤の板部材を配置してもよく、この場合、基板の幅に無段階で対応することができる。
【実施例】
【００３６】
以下、具体的な実施例を挙げて本発明を詳しく説明する。
（実施例１）
本実施例では、図１に示される基板処理装置に、第１の実施形態で説明した図２に示す規制装置１０を適用し、生産品種を変更するのに要する時間について測定を行った。その結果、切換え時間は約３分であった。このように、従来、切換え時間に約３０分要していたものが、約３分と大幅に短縮できることが確認された。
（実施例２）
本実施例では、図１に示される基板処理装置に、第２の実施形態で説明した図５に示す規制装置２０を適用し、生産品種を変更するのに要する時間について測定を行った。すなわち、本実施例では、生産品種を４品種取り扱う際に、品種変更に要する時間の累計時間を測定した。その結果、品種変更に要する時間の累計時間は６分であった。つまり、従来、１回の品種変更だけで約３０分要していたのに対し、本実施例では、３回の品種変更に要する累計時間のほうが短い。このように、本発明を適用することで、生産品種数が増大しても生産に寄与しない装置の停止時間を短縮できるので、生産性の向上が可能であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の第１の実施形態における基板処理装置の全体の構成を示す模式的な側面図である。
【図２】（ａ）は、本発明の第１の実施形態における規制装置の一部拡大図であり、（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線における矢視図である。
【図３】第１のサイドローラにより、基板の幅方向への移動を規制している状態を示す模式的な斜視図である。
【図４】第２のサイドローラにより、基板の幅方向への移動を規制している状態を示す模式的な斜視図である。
【図５】（ａ）は、本発明の第２の実施形態における規制装置の一部拡大図であり、（ｂ）は図５（ａ）のＡ−Ａ線における矢視図である。
【符号の説明】
【００３８】
１ 回転軸
２ 第１のサイドローラ
２ａ ローラ部
２ｂ 軸部
３ 第２のサイドローラ
４、５ 基板
４ａ 側部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被搬送材を搬送する搬送装置、及び基板を被搬送材とする基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板処理装置においては、生産品種の変更に際して幅寸法の異なる基板を処理する場合がある。また、適格な処理を行うためには、基板の幅方向への移動を規制する必要がある。
【０００３】
幅方向の移動を規制するための機構としては、サイドローラを基板の搬送経路の両側に設けたものが挙げられる。この機構は、サイドローラに基板の側端を当接させることで基板の幅方向の移動を規制し、基板のサイズが変更されると、基板のサイズに合わせてサイドローラを搬送経路の幅方向に平行移動させるものである。
【０００４】
この他、引用文献１には、傾斜させた搬送ローラを用い、その搬送ローラの下位側に配置されたサイドローラを基板の幅に合わせてボールネジ機構により移動させる構成の位置保持手段が開示されている。
【特許文献１】特開平０９−２３２２６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、サイドローラを幅方向に平行移動させることでその間隔を変更する構成の場合、サイドローラを基板の幅に合わせてその位置を調整するのに時間を要していた。その結果、生産に寄与しない無駄時間が多くなり、生産性が向上しない場合があった。
【０００６】
一方、引用文献１に開示された方式の場合、ボールネジ機構が摺動部を有するため、定期的なメンテナンスが要求される。また、ボールネジ機構が基板処理装置内に配置されていることから、注油等、メンテナンスも煩雑となる。
【０００７】
そこで、本発明は、生産性を向上させることができ、かつメンテナンスが容易な搬送装置及び基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため本発明の搬送装置は、被搬送材を搬送する搬送手段と、被搬送材が搬送される搬送方向と交差する方向の被搬送材の移動を規制する規制手段とを有する搬送装置において、規制手段は、被搬送材を通過させる幅を回転角によって変更させることができる、回動可能に支持された軸部材を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、規制手段が、被搬送材を通過させる幅を変更させることができる回動可能に支持された軸部材を有するので、生産性を向上させることができ、かつメンテナンスが容易となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
（第１の実施形態）
図１に本実施形態の基板処理装置の全体の構成を示す模式的な側面図を示す。
【００１１】
基板処理装置１００は、基板投入部８１と、処理槽部８２〜８６と、乾燥処理部８７と、基板取出部８８とを有し、これらが、基板４が搬送されていく上流側からこの順に配列されている。
【００１２】
基板投入部８１、処理槽部８２〜８６、乾燥処理部８７及び基板取出部８８はいずれも被搬送材である基板４の搬送手段として、ローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、基板４の搬送方向（図中矢印Ａ方向）と直交する方向に回転軸を有する複数の搬送ローラ７が所定のピッチで搬送方向に並設されてなるものである。搬送ローラ７の配列ピッチは、基板４の搬送方向の寸法よりも小さくなるように設定されている。搬送ローラ７が不図示の駆動手段により回転駆動（図１においては時計回り方向に回転）されることで、基板４は、搬送ローラ７上を矢印Ａ方向に向けて搬送されることとなる。
【００１３】
基板投入部８１は、前工程から不図示のコンベア等により移送されてきた基板４が投入される領域である。基板投入部８１の搬送ローラ７上に移送された基板４は、搬送ローラ７が回転駆動されることで、基板４を処理槽部８２へと導入する。
【００１４】
処理槽部８２〜８６内においては、基板４に対して所望の処理が施される。基板４は搬送ローラ７により処理槽部８２から処理槽部８６まで各処理槽内を矢印Ａ方向に搬送される。その間、処理槽部８２〜８４において所定の薬液が基板４に表面に供給される。処理槽部８４を通過した後、処理槽８５、８６においては、基板４に純水等を供給し、基板４の表面の洗浄がなされる。処理槽８５では純水が低圧で基板４に噴射され、処理槽８６では純水が高圧で基板４に対して噴射される。
【００１５】
純水により洗浄された基板４は、搬送ローラ７により、さらに乾燥処理部８７内へと搬送され、乾燥処理部８７では、基板４の上下に配置されたスリット状の開口から窒素等の気体が噴出され、基板４を乾燥させる。
【００１６】
次いで、基板４は、乾燥処理部８７から搬送ローラ７により基板取出部８８へと搬送される。基板取出部８８に搬送されてきた基板４は不図示のコンベア等により次工程へと移送される。
【００１７】
なお、上述した基板４の処理例は一例であり、本発明はこのような処理内容に限定されるものではない。
【００１８】
次に、図２（ａ）に本実施形態の基板処理装置における規制装置の一部拡大図、図２（ｂ）に図２（ａ）のＡ−Ａ線における矢視図を示す。また、図３は第１のサイドローラによる規制状態を示す規制装置の斜視図であり、図４は第２のサイドローラによる規制状態を示す規制装置の斜視図である。
【００１９】
図２（ａ）に示すように、並設された搬送ローラ７の間には、基板４が搬送される搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向、すなわち、基板４の幅方向（図２（ｂ）中矢印Ｂ方向）の移動を規制する規制装置１０が配置されている。この規制装置１０は、回転軸１と、第１のサイドローラ２と、第２のサイドローラ３とを有する軸部材を備えている。回転軸１は、図２（ｂ）に示すように、基板４の搬送経路の幅方向に延在しており、その両端部は基板処理装置１００の側壁８において、軸受け９により回転可能に支持されている。この回転軸１は不図示の駆動手段により回転し、所定の位置で固定される。また、回転軸１上には、一対の規制部である第１のサイドローラ２が設けられている。第１のサイドローラ２は回転軸１に固定されている軸部２ｂと、軸部２ｂに回転可能に取り付けられたローラ部２ａを有する。ローラ部２ａは緩衝特性に優れ、かつ摩擦係数の大きいゴムや柔軟性を有する樹脂を適用することができる。これにより、ローラ部２ａに基板４の側部４ａが当接しても基板４を損傷させることなく、ローラ部２ａを軸部２ｂ周りに確実に連れ回りさせることができる。回転軸１の高さ方向の位置は、基板４が通過する高さより下方に配置されている。
【００２０】
このような第１のサイドローラ２が、互いに回転軸１の同一回転角上に間隔Ｗ１を空けて配置されている。これら一対の第１のサイドローラ２の間隔Ｗ１は、基板４の幅ｗ１に僅かな遊び代を加えた寸法であり、基板４の幅ｗ１よりもわずかに広い。
【００２１】
また、この回転軸１上には第１のサイドローラ２と同じ構造を有する第２のサイドローラ３が一対の規制部として互いに回転軸１の同一回転角上に間隔Ｗ２を空けて配置されている。一対の第２のサイドローラ３の間隔Ｗ２は、基板４の幅ｗ１よりも狭い幅ｗ２の基板に対応しており、幅ｗ２に僅かな遊び代を加えた寸法であり、基板５の幅ｗ２よりもわずかに広い。第２のサイドローラ３は、図２（ａ）に示すように、第１のサイドローラ２の反対側に配置されている。すなわち、第１のサイドローラ２が配置されている位置を回転角α＝０°の位置とすると、第２のサイドローラ３は、回転角α＝１８０°の位置に配置されている。
【００２２】
次に、規制装置１０による基板の幅方向の移動の規制方法について説明する。
【００２３】
まず、図３に示すように幅ｗ１の基板４が基板処理装置により処理される場合について説明する。
【００２４】
この場合、回転軸１は、第１のサイドローラ２が上方に配置され、第２のサイドローラ３が下方に配置されるように回動させられる。回転軸１は、第１のサイドローラ２の軸部２ｂの軸線と基板４の主面とが直交した位置で固定される。これにより、第１のサイドローラ２のローラ部２ａのローラ面は、基板４の側部４ａと当接する際、側部４ａに対して垂直に当接可能となる。一方、第１のサイドローラ２に対して回転角が１８０°ずれた位置の第２のサイドローラ３は、基板４と干渉しない位置に退避しているため、基板４の搬送を阻害することはない。
【００２５】
次に、図４に示すように幅ｗ２の基板５が基板処理装置により処理される場合について説明する。
【００２６】
この場合、回転軸１を図３に示す状態から１８０°回転させて、第２のサイドローラ３を上方に配置し、第１のサイドローラ２を下方に配置させる。回転軸１はこの位置で固定される。これにより、基板の搬送経路の幅はＷ１からＷ２へと変更される。
【００２７】
以上のように、本実施形態によれば、規制装置１０の回転軸１を回動させるだけで、基板を通過させる幅を変更させることができる。このため、本発明によれば、生産品種数が増大しても生産に寄与しない装置の停止時間を短縮できるので、生産性の向上が可能である。また、規制装置１０は、基本的な構成が、回動可能に支持された回転軸１、この回転軸１に設けられた第１のサイドローラ２及び第２のサイドローラ３のみからなる。また、規制装置１０は、基板処理装置１００内にボールネジ軸等、注油を要する構造を有するものでもない。よって、本発明の規制装置１０はメンテナンスを極めて容易なものとすることができる。
（第２の実施形態）
次に、図５（ａ）に本実施形態の基板処理装置における規制装置の一部拡大図、図５（ｂ）に図５（ａ）のＢ−Ｂ線における矢視図を示す。
【００２８】
第１の実施形態では、２組のサイドローラにより、２種類の幅の基板に対応可能な規制装置１０について説明した。本実施形態では、４組のサイドローラ２４〜２６を有し、４種類の幅の基板に対応可能な規制装置２０について説明する。なお、規制装置２０の基本的な構成は、第１実施形態の規制装置１０と同様であるため、異なる点についてのみ説明するものとする。
【００２９】
本実施形態の規制装置２０は、４組のサイドローラ２４〜２６が、回転軸３１上の互いに異なる回転角となる位置に配置されている。第１のサイドローラ２３が配置されている位置を回転角α＝０°の位置とすると、第２のサイドローラ２４は回転角α＝９０°、第３のサイドローラ２５は回転角α＝１８０°、第４のサイドローラ２５は回転角α＝２７０°の位置にそれぞれ配置されている。
【００３０】
また、各サイドローラ２４〜２６の間隔も互いに異なる。第１のサイドローラ２３の間隔Ｗ３が最も広く、第２のサイドローラ２４の間隔Ｗ４、第３のサイドローラ２４の間隔Ｗ５の順に狭くなり、第４のサイドローラ２４の間隔Ｗ６が最も狭い。
【００３１】
以上のような構成である本実施形態の規制装置２０は、４種類の幅の基板に対応可能である。例えば、第１のサイドローラ２３の間隔Ｗ３に応じた基板を処理した後、第２のサイドローラ２４の間隔Ｗ４に対応した基板を処理する場合、回転軸３１を図５（ａ）中反時計回りに９０°回動させた後、固定する。これにより、基板を通過させる幅を間隔Ｗ３から間隔Ｗ４へと変更することができる。同様に、間隔Ｗ３から間隔Ｗ５に変更するときは図５（ａ）中反時計回りに１８０°回動させる。また、間隔Ｗ３から間隔Ｗ６に変更するときは図５（ａ）中反時計回りに２７０°回動させる、あるいは、時計回りに９０°回動させる。
【００３２】
なお、各サイドローラ２４〜２６のうちのいずれかが基板の幅方向の移動を規制するために基板の搬送経路の側方に配置されている状態においては、他のサイドローラは搬送経路から退避した位置に配置されている。よって、他のサイドローラが搬送中の基板と干渉することはない。
【００３３】
以上のように、本実施形態も第１の実施形態と同様に、規制装置２０の回転軸３１を回動させるだけで、基板を通過させる幅を変更させることができる。このため、本実施形態も第１の実施形態と同様に、生産性の向上が可能であるとともに、メンテナンスを極めて容易なものとすることができる。
【００３４】
なお、上述に各実施形態では、回転軸の高さ方向の位置は、基板が通過する位置よりも下方に配置された例を示した。しかしながら、本発明は、これに限定されるものではなく、基板の上方に配置されているものであってもよい。また、回転軸は、基板の搬送方向と交差する方向に延在し、かつ基板の搬送経路を横断する１本の軸として示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、回転軸は、基板の搬送経路を横断するものではなく、搬送経路の両側にそれぞれ片持ち支持されたものとしてもよい。このような構成とすることで、回転軸が各基板の処理の際に邪魔にならないようにすることができる。
【００３５】
また、上述した各実施形態では、規制手段は、回転角によって被搬送材を通過させる幅が変わる軸部材を、回転軸の両端部であって、回転角の異なる位置に設けた複数のサイドローラにより構成したが本発明はこれに限定されるものではない。本発明は、ローラが設けられた位置にローラ機構を持たない、棒状の部材等を配置してもよい。または回転軸の両端部に偏心させた円盤の板部材を配置してもよく、この場合、基板の幅に無段階で対応することができる。
【実施例】
【００３６】
以下、具体的な実施例を挙げて本発明を詳しく説明する。
（実施例１）
本実施例では、図１に示される基板処理装置に、第１の実施形態で説明した図２に示す規制装置１０を適用し、生産品種を変更するのに要する時間について測定を行った。その結果、切換え時間は約３分であった。このように、従来、切換え時間に約３０分要していたものが、約３分と大幅に短縮できることが確認された。
（実施例２）
本実施例では、図１に示される基板処理装置に、第２の実施形態で説明した図５に示す規制装置２０を適用し、生産品種を変更するのに要する時間について測定を行った。すなわち、本実施例では、生産品種を４品種取り扱う際に、品種変更に要する時間の累計時間を測定した。その結果、品種変更に要する時間の累計時間は６分であった。つまり、従来、１回の品種変更だけで約３０分要していたのに対し、本実施例では、３回の品種変更に要する累計時間のほうが短い。このように、本発明を適用することで、生産品種数が増大しても生産に寄与しない装置の停止時間を短縮できるので、生産性の向上が可能であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の第１の実施形態における基板処理装置の全体の構成を示す模式的な側面図である。
【図２】（ａ）は、本発明の第１の実施形態における規制装置の一部拡大図であり、（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線における矢視図である。
【図３】第１のサイドローラにより、基板の幅方向への移動を規制している状態を示す模式的な斜視図である。
【図４】第２のサイドローラにより、基板の幅方向への移動を規制している状態を示す模式的な斜視図である。
【図５】（ａ）は、本発明の第２の実施形態における規制装置の一部拡大図であり、（ｂ）は図５（ａ）のＡ−Ａ線における矢視図である。
【符号の説明】
【００３８】
１ 回転軸
２ 第１のサイドローラ
２ａ ローラ部
２ｂ 軸部
３ 第２のサイドローラ
４、５ 基板
４ａ 側部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被搬送材を搬送する搬送手段と、前記被搬送材が搬送される搬送方向と交差する方向の前記被搬送材の移動を規制する規制手段とを有する搬送装置において、
前記規制手段は、前記被搬送材を通過させる幅を回転角によって変更させることができる、回動可能に支持された軸部材を有することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記軸部材は、一対の規制部であって前記規制部の間隔が異なる一対の規制部を複数有し、各前記一対の規制部は異なる前記回転角となる位置にそれぞれ配置されている請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記規制部は、ローラ機構を備えている請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
被搬送材である基板を搬送しながら前記基板に処理を施す基板処理装置において、
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の搬送装置を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項１】
被搬送材を搬送する搬送手段と、前記被搬送材が搬送される搬送方向と交差する方向の前記被搬送材の移動を規制する規制手段とを有する搬送装置において、
前記規制手段は、前記被搬送材を通過させる幅を回転角によって変更させることができる、回動可能に支持された軸部材を有することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記軸部材は、一対の規制部であって前記規制部の間隔が異なる一対の規制部を複数有し、各前記一対の規制部は異なる前記回転角となる位置にそれぞれ配置されている請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記規制部は、ローラ機構を備えている請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
被搬送材である基板を搬送しながら前記基板に処理を施す基板処理装置において、
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の搬送装置を有することを特徴とする基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−４２９０２（Ｐ２０１０−４２９０２Ａ）
【公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２０７９４３（Ｐ２００８−２０７９４３）
【出願日】平成２０年８月１２日（２００８．８．１２）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年８月１２日（２００８．８．１２）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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