説明

窒化物結晶製造方法および窒化物結晶製造装置

【課題】本発明は、窒化物結晶製造方法と窒化物結晶製造装置に関するもので、結晶の品質向上を目的とするものである。
【解決手段】そしてこの目的を達成するために本発明は、準備工程と、その後の結晶育成工程とを有し、前記準備工程は、種基板と、結晶原料である金属ガリウムとナトリウムと、を坩堝に収納するとした第1の工程と、前記結晶育成工程は、前記坩堝を結晶成長容器内に配置し、この結晶成長容器を炉心管内に配置した状態で、この炉心管を加熱手段により所定の温度で加熱し、前記坩堝を原料ガス供給手段により所定の気圧の窒素雰囲気下にした状態で、前記種基板上に結晶を育成するとした第2の工程と、を設けた。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、窒化物結晶製造方法および窒化物結晶製造装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来の窒化物結晶製造装置を図3に示す。この窒化物結晶製造装置を用いて、窒化物結晶は、以下の様にして製造されていた。
【0003】
すなわち、育成炉1と、この育成炉内に配置された結晶成長容器6と、この結晶成長容器を加熱するヒーター3と、前記結晶成長容器内に原料ガスを供給する原料ガス供給部(図示せず)と、前記結晶成長容器内に設けた坩堝8と、この坩堝内に設けた原料液10を備えた構成となっていた。
【0004】
このような構成において、窒化物結晶製造装置として、前記ヒーター3に対して前記結晶成長容器6内の温度を均一化するために結晶成長容器6を熱伝導性材料より形成したものを用いて、結晶成長容器6内の温度を均一化して結晶の品質を安定化したものもあった(例えば、これに類似する技術は下記特許文献1に記載されている)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際公開第2007/122867号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
上記従来例における課題は、結晶の品質が劣化してしまうことであった。
【0007】
すなわち、従来例においては、育成炉1内に配置された結晶成長容器6をヒーター3によって加熱する構成となっていたが、結晶成長容器6をヒーター3で直接加熱してしまうことは、結晶成長容器6内において、ヒーター3が直接加熱する部分と、それ以外の部分において温度差が発生してしまい、場所により結晶特性のバラツキが発生し、結晶品質が悪くなる問題があった。
【0008】
そこで本発明は、結晶の品質向上を図ることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
そして、この目的を達成するために本発明は、準備工程と、その後の結晶育成工程とを有し、前記準備工程は、種基板と、結晶材料とアルカリ金属またはアルカリ土類金属を、坩堝に収納するとした第1の工程と、前記結晶育成工程は、前記坩堝を結晶成長容器内に配置し、この結晶成長容器を炉心管内に配置した状態で、この炉心管を加熱手段により所定の温度で加熱し、前記坩堝を原料ガス供給手段により所定の気圧の窒素雰囲気下にした状態で、前記種基板上に結晶を育成するとした第2の工程と、を備えたことにより、所期の目的を達成するものである。
【発明の効果】
【0010】
以上のように本発明は、準備工程と、その後の結晶育成工程とを有し、前記準備工程は、種基板と、結晶材料とアルカリ金属またはアルカリ土類金属を、坩堝に収納するとした第の工程と、前記結晶育成工程は、前記坩堝を結晶成長容器内に配置し、この結晶成長容器6を炉心管4内に配置した状態で、この炉心管を加熱手段により所定の温度で加熱し、前記坩堝を原料ガス供給手段により所定の気圧の窒素雰囲気下にした状態で、前記種基板上に結晶を育成するとした第2の工程と、を備えたので、結晶の品質を向上することができる。
【0011】
すなわち、本発明においては、坩堝内の温度を均一化するために、結晶成長容器を炉心管内に配置し、この炉心管自体を加熱するようにしたので、炉心管内の温度が均一に保たれ、それによって結晶成長容器内に配置した坩堝内の温度の均一化が可能となるので、これによって結晶の品質を向上させることができることとなったものである。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】本発明の一実施形態の窒化物結晶製造装置の構成図
【図2】温度測定実験図
【図3】従来の結晶製造装置の構成図
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明の一実施形態を窒化物結晶製造装置の一例として窒化物結晶成長装置に適用したものを、添付図面を用いて説明する。
【0014】
図1は、本発明の一実施形態における窒化物結晶成長装置の構成図である。育成炉1は、内部を高圧に加圧できるように圧力容器で作成されており、育成炉1の内部には、内部を高温に加熱できるように断熱材2で囲われた加熱手段としてのヒーター3が設置されている。この構成により、育成炉1内を加圧及び加熱が可能な構成となっている。さらに、このヒーター3の内部に、炉心管4を設置する。
【0015】
なお、育成炉1及びヒーター3を含む断熱体2、炉心管4は、内部に結晶成長容器6を設置できる構造となっている。具体的には、本体と蓋の2部材で構成することにより、容易に内部に成長容器6を設置できる。
【0016】
次に、育成炉1内に設置する結晶成長容器6を準備する行程を説明する。まず、アルミナ等の耐熱材料で作成されたカップ状の坩堝8に、結晶を成長させる種基板(図示せず)を設置する。さらに、結晶材料(例えば、ガリウム、アルミニウム、インジウム)とフラックスの役割を果たすアルカリ金属(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム)またはアルカリ土類金属(例えば、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ラジウム、ベリリウム、マグネシウム)とを所定の量に計って坩堝8に入れる。これらアルカリ金属およびアルカリ土類金属は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
【0017】
なお、結晶材料とアルカリ金属またはアルカリ土類金属は、加熱することによって液化し、この図1に示す原料液10となる。この状態で結晶成長させても良いが、結晶成長中に原料液の蒸発が多くなるので、坩堝8に坩堝蓋9で蓋をすることによって蒸発が抑えることが出来る。その場合は、原料ガスが坩堝8内に流入できるように、坩堝8と坩堝蓋9の接触面に溝等を設けることによって、原料ガス流入路を確保する必要がある。結晶材料およびアルカリ金属の秤量や取り扱いは、アルカリ金属の酸化や水分吸着を回避するために、窒素ガスやアルゴンガスやネオンガスなどで置換されたグローブボックス中で行うことが好ましい。
【0018】
次に、原料の入った坩堝8を結晶成長容器6の中に設置する。このときに、坩堝8を縦方向へ多段に設置する場合は坩堝台11等を用いると良く、図に示すように坩堝蓋9の上に坩堝台11を設置する方法や、坩堝台11に脚を形成して坩堝蓋と坩堝台11を接触させない方法などがある。そして、坩堝8を結晶成長容器6に設置した後に、結晶成長容器蓋7で結晶成長容器6に蓋をして、グローブボックスから取り出し、炉心管4の内部に設置する。
【0019】
その後、原料ガス供給装置(図示せず)から供給管12を通して結晶成長容器6に原料ガスを供給する。結晶成長容器6内を密閉状態として、原料ガス供給装置から供給管12を通して結晶成長容器6に原料ガスを直接供給することにより、不純物ガスが結晶成長容器6内に入るのを防ぐことが出来る。そして、供給した原料ガスのうち余分な原料ガスは、排気管13から結晶成長容器の外部に排出され、排出管14から育成炉の外部へ排出される。
【0020】
なお、供給管12を育成炉1に連結して育成炉1に原料ガスを供給することにより、結晶成長容器6と結晶成長容器蓋7の隙間等から結晶成長容器6内に原料ガスを供給することも可能である。その場合は、排気管13が必要ない。
【0021】
その後、熱電対(図示せず)や圧力調整器(図示せず)によって、育成炉1の温度および育成雰囲気の圧力を制御しながら加圧・加熱を行う。なお、結晶を生成するための原料の溶融および育成の条件は、原料である結晶材料やアルカリ金属の成分、および原料ガスの成分およびその圧力に依存するが、例えば、温度は700℃〜1100℃、好ましくは700℃〜900℃の低温が用いられる。圧力は20気圧(20×1.01325×10Pa)以上、好ましくは30気圧(30×1.01325×10Pa)〜100気圧(100×1.01325×10Pa)が用いられる。
【0022】
このように、育成温度に昇温することにより、坩堝内で結晶材料/アルカリ金属の融解液、つまり原料液10が形成され、この原料液10中に原料ガスが溶け込み、結晶材料と原料ガスとが反応して、種基板の上に結晶基板が育成される。
【0023】
本発明の一実施形態では、ヒーター3で結晶成長容器6を直接加熱するのではなく、炉心管4を介して過熱していることが特徴となっている。つまり、側面及び底面からヒーター3で加熱された炉心管4は均熱体及び蓄熱体の役割を果たし、炉心管4内の温度が一定に保たれるようになる。この温度が一定に保たれた空間に結晶成長容器6を設置しているので、結晶成長容器内はさらに高精度で均熱性を保つことが可能となる。その結果、結晶成長容器6内の各坩堝8の温度も均一となり、成長条件のバラツキによる結晶特性のバラツキが無くなり、結晶品質の向上を図ることが可能となる。
【0024】
この炉心管4は、結晶成長容器6内から発生するアルカリ蒸気と、ヒーター3加熱による高温にさらされることになるので、耐アルカリ性と耐熱性を有する材料(ステンレスやインコネル等)を用いると良く、再利用も可能となる。また、炉心管4をヒーター3から取り外し可能にしておくと、炉心管4に付着したアルカリ成分を除去可能になるので、育成炉1内の結晶成長環境を良い状態にキープすることができる。
【0025】
ここで、炉心管4自体は直接ヒーター3で加熱されているので、表面に温度バラツキが発生している。そこで、炉心管3内に結晶成長容器台5を設置して、結晶成長容器台5の上に結晶成長容器6を設置すると、結晶成長容器6の底面が直接炉心管4に接しないので、結晶成長容器6の均熱性がさらに向上する。
【0026】
さらに、結晶成長容器6の外周部のうち、一部で外径を大きくすることにより、外径が大きい部分だけが直接炉心管4に接するので接触面積が小さくなり、結晶成長容器6の均熱性がいっそう向上する。
【0027】
また、炉心管4をできるだけ温度バラツキがなく加熱できるように、ヒーター3は炉心管3の外周面に対向する位置だけでなく、底面に対向する位置にも設置すると良い。
【0028】
これらの効果を確認するために、炉心管4がある場合と無い場合で実験を行った。具体的には、図2に示すように3個の坩堝8を2段、合計6個配置して、それぞれの坩堝に熱電対(温度計)を設置し、図1の窒化物結晶成長装置で結晶成長条件まで加熱・加圧を行い、それぞれの坩堝8の温度を測定した。なお、温度は860℃、圧力は32気圧の条件で測定を行った。その結果を図2に示す。
【0029】
この結果から分かるように、炉心管4が無い場合は坩堝8間で最大12.8℃の温度バラツキが生じているが、炉心管4がある場合の温度バラツキは3.4℃まで大幅に減少している。他の実験において、温度が10℃違えば結晶特性が変わることが分かっており、炉心管4が無い場合は、坩堝8によって結晶特性がばらばらとなり、結晶品質が悪くなるので、炉心管4を加熱手段により所定の温度で加熱することで、結晶成長容器6の均熱性が保たれることとなる。
【0030】
以上のように、炉心管4を用いることによって、結晶特性に影響を与えないレベルまで温度バラツキを抑えられるので、結晶品質向上を図ることができる。
【産業上の利用可能性】
【0031】
以上のように本発明は、準備工程と、その後の結晶育成工程とを有し、前記準備工程は、種基板と、結晶材料とアルカリ金属またはアルカリ土類金属を、坩堝に収納するとした第1の工程と、前記結晶育成工程は、前記坩堝を結晶成長容器内に配置し、この結晶成長容器を炉心管内に配置した状態で、この炉心管を加熱手段により所定の温度で加熱し、前記坩堝を原料ガス供給手段により所定の気圧の窒素雰囲気下にした状態で、前記種基板上に結晶を育成するとした第2の工程と、を備えたので、結晶の品質を向上することができる。
【0032】
すなわち、本発明においては、坩堝内の温度を均一化するために、結晶成長容器を炉心管内に配置し、この炉心管自体を加熱するようにしたので、炉心管内の温度が均一に保たれ、それによって結晶成長容器内に配置した坩堝内の温度の均一化が可能となるので、これによって結晶の品質を向上させることができることとなったものである。
【0033】
したがって、たとえば、窒化物結晶製造装置として広く活用が期待されるものである。
【符号の説明】
【0034】
1 育成炉
2 断熱材
3 ヒーター
4 炉心管
5 結晶成長容器台
6 結晶成長容器
7 結晶成長容器蓋
8 坩堝
9 坩堝蓋
10 原料液
11 坩堝台
12 供給管
13 排気管
14 排出管

【特許請求の範囲】
【請求項1】
準備工程と、その後の結晶育成工程とを有し、
前記準備工程は、種基板と、結晶材料とアルカリ金属またはアルカリ土類金属を、坩堝に収納するとした第1の工程と、
前記結晶育成工程は、前記坩堝を結晶成長容器内に配置し、この結晶成長容器を炉心管内に配置した状態で、この炉心管を加熱手段により所定の温度で加熱し、前記坩堝を原料ガス供給手段により所定の気圧の窒素雰囲気下にした状態で、前記種基板上に結晶を育成するとした第2の工程と、を備えた窒化物結晶製造方法。
【請求項2】
炉心管と、
この炉心管内に配置された結晶成長容器と、
前記炉心管を加熱する加熱手段と、
前記結晶成長容器内に原料ガスを供給する原料ガス供給部と、を備えた窒化物結晶製造装置。
【請求項3】
前記結晶成長容器を前記炉心管の底面から所定の高さに保持する結晶成長容器台を設けた請求項2に記載の窒化物結晶製造装置。
【請求項4】
前記結晶成長容器の外周部分のうち、一部で外径を大きくした請求項2または3に記載の窒化物結晶製造装置。
【請求項5】
前記加熱手段を、炉心管の外周面と底面と対向する位置に設けた請求項2から4のいずれか一つに記載の窒化物結晶製造装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【公開番号】特開2011−178626(P2011−178626A)
【公開日】平成23年9月15日(2011.9.15)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−45433(P2010−45433)
【出願日】平成22年3月2日(2010.3.2)
【出願人】(000005821)パナソニック株式会社 (73,050)
【Fターム(参考)】