ハロゲン化化合物の反応ステップ、化合物の脱ハロゲンステップ、アルコールの反応ステップ、オレフィンと飽和化合物の反応ステップ、２以上の−ＣＦ_３基を有する反応物を環状基を有する反応物と反応させるステップを含んだ製造方法並びにシステムが提供される。Ｒ_Ｆ−中間生成物、Ｒ_Ｆ−界面活性剤、Ｒ_Ｆ−モノマー、Ｒ_Ｆ−モノマー単位、Ｒ_Ｆ−金属錯体、Ｒ_Ｆ−燐酸エステル、Ｒ_Ｆ−グリコール、Ｒ_Ｆ−ウレタン、及び／またはＲ_Ｆ−フォーム安定剤等のＲＦ組成物。Ｒ_Ｆ部分は、２以上の−ＣＦ_３基、３以上の−ＣＦ_３基、及び／または２以上の−ＣＦ_３基と２以上の−ＣＨ_２基を含むことができる。Ｒ_Ｆ−界面活性剤組成物を含んだ洗剤、乳化剤、塗料、接着剤、インク、湿潤剤、発泡剤、及び消泡剤が提供される。Ｒ_Ｆ−モノマー単位を含んだアクリル、樹脂、及びポリマーが提供される。以上のＲ_Ｆ−組成物を有する基質を含んだ組成物が提供される。Ｒ_Ｆ−界面活性剤及び／またはＲ_Ｆ−フォーム安定剤を含むことができる水性皮膜形成フォーム（“ＡＦＦＦ”）処方物が提供される。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓを含む水性皮膜形成フォーム処方物であって、
Ｒ_Ｆは、２以上の部分を有するシステムの第１部分でＱ_Ｓよりも高い親和力を有しており、
Ｑ_Ｓは、前記システムの第２部分でＲ_Ｆよりも高い親和力を有しており、
Ｒ_Ｆは２以上の−ＣＦ_３基と２以上の水素を含んでいることを特徴とする処方物。
【請求項２】
Ｒ_ＦはＱ_Ｓに対して疎水性であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項３】
Ｑ_ＳはＲ_Ｆに対して親水性であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項４】
Ｒ_Ｆは疎水性であり、Ｑ_Ｓは親水性であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項５】
Ｒ_Ｆは１以上の−ＣＦ_２基を含むことを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項６】
Ｒ_Ｆは１以上の環状基を含むことを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項７】
環状基は芳香族基を含むことを特徴とする請求項６記載の処方物。
【請求項８】
Ｒ_Ｆは１以上の（ＣＦ_３）_２ＣＦ基を含むことを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項９】
Ｒ_Ｆは３以上の−ＣＦ_３基を含むことを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１０】
Ｒ_Ｆは２以上の（ＣＦ_３）_２ＣＦ基を含むことを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１１】
Ｒ_Ｆは４以上の炭素を含んでおり、その１つは−ＣＨ_２基を含んでいることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１２】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１３】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１４】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１５】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１６】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１７】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１８】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項１９】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２０】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２１】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２２】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２３】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２４】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２５】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２６】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２７】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２８】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項２９】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項３０】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項３１】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項３２】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項３３】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項３４】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項１記載の処方物。
【請求項３５】
水性皮膜形成フォーム処方物を基質に提供する方法であって、前記水性皮膜形成フォーム処方物はＲ_Ｆ−Ｑ_Ｓを含んでおり、
Ｒ_Ｆは、２以上の部分を有するシステムの第１部分でＱ_Ｓよりも高い親和力を有しており、
Ｑ_Ｓは、前記システムの第２部分でＲ_Ｆよりも高い親和力を有しており、
Ｒ_Ｆは２以上の−ＣＦ_３基と２以上の水素を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項３６】
Ｒ_ＦはＱ_Ｓに対して疎水性であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
Ｑ_ＳはＲ_Ｆに対して親水性であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項３８】
Ｒ_Ｆは疎水性であり、Ｑ_Ｓは親水性であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項３９】
基質は液体を含むことを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４０】
基質はシステムの１部であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４１】
Ｒ_Ｆは１以上の−ＣＨ_２基を含むことを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４２】
Ｒ_Ｆは１以上の環状基を含むことを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４３】
環状基は芳香族基を含むことを特徴とする請求項４２記載の方法。
【請求項４４】
Ｒ_Ｆは１以上の（ＣＦ_３）_２ＣＦ基を含むことを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４５】
Ｒ_Ｆは３以上の−ＣＦ_３基を含むことを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４６】
Ｒ_Ｆは２以上の（ＣＦ_３）_２ＣＦ基を含むことを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４７】
Ｒ_Ｆは４以上の炭素を含んでおり、その１つは−ＣＨ_２基を含んでいることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４８】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項４９】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５０】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５１】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５２】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５３】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５４】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５５】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５６】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５７】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５８】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項５９】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６０】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６１】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６２】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６３】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６４】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６５】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６６】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６７】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６８】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項６９】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項７０】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_Ｓは

であることを特徴とする請求項３５記載の方法。
【請求項７１】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳを含むフォーム安定剤であって、Ｒ_ＦはＱ_ＦＳに対して疎水性であり、Ｒ_Ｆは２以上の−ＣＦ_３基と２以上の水素を含んでいることを特徴とするフォーム安定剤。
【請求項７２】
Ｒ_Ｆは１以上の−ＣＨ_２基を含んでいることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項７３】
Ｒ_Ｆは１以上の環状基を含んでいることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項７４】
環状基は芳香族基を含んでいることを特徴とする請求項７３記載の安定剤。
【請求項７５】
Ｒ_Ｆは１以上の（ＣＦ_３）_２ＣＦ基を含んでいることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項７６】
Ｒ_Ｆは３以上の−ＣＦ_３基を含んでいることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項７７】
Ｒ_Ｆは２以上の（ＣＦ_３）_２ＣＦ基を含んでいることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項７８】
Ｒ_Ｆは４以上の炭素を含んでおり、その１つは−ＣＨ_２基を含んでいることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項７９】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８０】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８１】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８２】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８３】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８４】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８５】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８６】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８７】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８８】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項８９】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項９０】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項９１】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項９２】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項９３】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項９４】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項９５】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。
【請求項９６】
Ｒ_Ｆ−Ｑ_ＦＳは

であり、Ｘはハロゲンを含んでいることを特徴とする請求項７１記載の安定剤。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【公表番号】特表２００７−５２８９１７（Ｐ２００７−５２８９１７Ａ）
【公表日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５５１６１８（Ｐ２００６−５５１６１８）
【出願日】平成１７年１月２８日（２００５．１．２８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００５／００３４３３
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０７４６３９
【国際公開日】平成１７年８月１８日（２００５．８．１８）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（５０６１７９７７８）グレート・レークス・ケミカル・コーポレーション (6)
【Ｆターム（参考）】