金型洗浄用シリコーンゴムシート組成物
【課題】トランスファ−成型金型のクリ−ニングシ−ト用シリコ−ンゴム組成物ならびにシリコ−ンゴムシ−トに関するものである。本発明の目的は上記のような問題のない、クリ−ニングシ−トを提供するためのシリコ−ンゴム組成物を提供するものである。
【解決手段】（Ａ）平均組成式ＲｎＳｉＯ（４−ｎ）／２ で表されるオルガノポリシロキサン、（Ｂ）比表面積５０ｍ２／ｇ以上の補強性シリカ、（Ｃ）ジオルガノシロキサンブロック単位（ａ）を有するとともに、三官能性アリ−ルシロキサン単位（ｂ）とを必須として有し、単位（ｃ）により分子末端の少なくとも一部が封鎖されたオルガノポリシロキサンブロック共重合体、（Ｄ）硬化剤を必須成分とすることを特徴とする金型洗浄用シリコ−ンゴム組成物。
【解決手段】（Ａ）平均組成式ＲｎＳｉＯ（４−ｎ）／２ で表されるオルガノポリシロキサン、（Ｂ）比表面積５０ｍ２／ｇ以上の補強性シリカ、（Ｃ）ジオルガノシロキサンブロック単位（ａ）を有するとともに、三官能性アリ−ルシロキサン単位（ｂ）とを必須として有し、単位（ｃ）により分子末端の少なくとも一部が封鎖されたオルガノポリシロキサンブロック共重合体、（Ｄ）硬化剤を必須成分とすることを特徴とする金型洗浄用シリコ−ンゴム組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はトランスファ−成型金型のクリ−ニングシ−ト用シリコ−ンゴム組成物ならびにシリコ−ンゴムシ−トに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体封止用パッケ−ジにはエポキシ樹脂が広く使用されていたが、近年、低応力を目的としてシリコ−ン成分を含む樹脂が多く使用される様になり、さらにはシリコ−ン樹脂を主成分とする樹脂が注型、圧縮成型、射出成型、トランスファ−モ−ルド成型する封止材、リフレクタ−材に用いられている。
【０００３】
しかしながら、上記のようなトランスファ−成型により、従来にないシリコ−ン成分による金型汚染が発生し、連続成型を行うためには金型離型材が必要となってきている。シリコ−ン成分が原因となる金型汚染に対しては特許公報第２６４６０４６号、特許公報第２５４９８２９号に記載される従来のクリ−ニングシ−トやメラミン樹脂成形によるクリ−ニングでは十分な洗浄を行うことができない。
【０００４】
更にシリコ−ン樹脂成形で一般に用いられるフッ素系離型材、シリコ−ン系金型離型材をスプレ−塗布する方法では金型表面の汚染物質を取り除くことは困難であった。
【０００５】
シリコ−ンゴム組成物として特許公報第２８３５４４７号において高引裂きシリコ−ンゴム組成物、特許公報題２６４６０４６号において高減衰性シリコ−ンゴム組成物においてオルガノポリシロキサンレジンを添加したシリコ−ンゴム組成物が開示されているが、４０ｋｇｆ／ｃｍ２を超える引き裂き強度は必ずしも必要ではなく、エポキシ樹脂が使用される環境においては付加硬化反応による硬化システムでは硬化不良を起こす可能性が高い。
【０００６】
【特許文献１】特許公報第２６４６０４６号公報
【特許文献２】特許公報第２５４９８２９号公報
【特許文献３】特許公報第２８３５４４７号公報
【特許文献４】特許公報題２６４６０４６号号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は上記のような問題のない、クリ−ニングシ−トを提供するためのシリコ−ンゴム組成物を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
即ち、本発明者らは上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、（A）下記平均組成式（１）で表されるオルガノポリシロキン、（B）比表面積50m2/ｇ以上の補強性シリカ（C）下記一般式（２）（３）からなるオルガノポリシロキサン共重合体、（D）硬化材からなるシリコ−ンゴム組成物がトランスファ−成型用金型の洗浄用シリコ−ンゴムシ−トとして金型表面からの汚染物質の除去ならびに金型離型力を回復させることを見出したものである。
【０００９】
従って本発明は、（Ａ）下記平均組成式（１）
ＲｎＳｉＯ（４−ｎ）／２ （１）
（式中Ｒは同一又は異種の非置換または置換一価単価水素基、ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）で表されるオルガノポリシロキサン １００重量部
（Ｂ）比表面積５０ｍ２／ｇ以上の補強性シリカ ５〜１００重量部
（Ｃ）下記シロキサンブロック単位（ａ）を有するとともに、
【００１０】
【化１】
〔式中、Ｒ１は脂肪族不飽和基を含有しない置換または非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基であり、ｎは３〜１５０の整数である〕
下記で表される三官能性アリ−ルシロキサン単位（ｂ）とを必須として有し、
【００１１】
【化２】
〔式中、Ｒ2は炭素原子数６〜１２の置換または非置換のアリールもしくはアルカリール基を示す〕
下記式で表される単位（ｃ）により分子末端の少なくとも一部が封鎖されたオルガノポリシロキサンブロック共重合体。
【００１２】
【化３】
〔式中、Ｒ1は上記と同じであり、Ｒ３はアルケニル基または水酸基を示す。ｘは０又は１〜３の整数である。〕
０．１〜５０重量部
（Ｄ）硬化剤 ０．１〜１０重量部
を必須成分とすることを特徴とする金型洗浄用シリコ−ンゴム組成物を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
トランスファ−成型用金型の洗浄用シリコ−ンゴムシ−トとして金型表面からの汚染物質の除去ならびに金型離型力を回復させることを目的とするシリコ−ンゴム組成物を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。
（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンは
ＲｎＳｉＯ（４−ｎ）／２
（式中Ｒは同一又は異種の非置換または置換一価単価水素基、ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）で表されるものである。
【００１５】
Ｒは同一または異種の好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは１〜８の非置換または置換の一価炭化水素基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、β―フェニルプロピル基等のアラルキル基、あるいはこれらの基の炭化水素基に結合した水素原子の一部または全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基などから選択される、これらの中ではメチル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基、ビニル基が好ましく、とりわけメチル基が５０モル％以上、特に８０モル％以上であることが好ましい。
【００１６】
また、ｎは１．９８〜２．０２の正数であり、（Ａ）成分としては直鎖状、分岐状何れでも良いが、生産性、成型性、ロ−ル加工性、形状維持性等の点で、下記一般式（３）で示される直鎖状のシリコーンエラストマーが好ましい。
【００１７】
【化４】
ここで、Ｒは同一でも異なってもよい上記した基であり、ｍは１，０００〜１００，０００の整数である。
【００１８】
このオルガノポリシロキサンは分子鎖末端がトリメチルシリル基、ジメチルビニルシリル基、ジメチルヒドロキシシリル基、トリビニルシリル基などで封鎖されたものとすることができる。本発明において、このオルガノポリシロキサンは分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有する必要があり、Ｒのうち、０．００１〜１０モル％、特に０．０１〜５モル％がアルケニル基、特にビニル基であることが好ましい。また、粘度は２５℃における粘度が１００ｃｓ以上のものが好ましい。より好ましくは１００，０００〜１０，０００，００００ｃｓである。重合度は１０００以上、特に３，０００〜１００，０００が好ましく、中でも４，０００〜２０，０００が好ましい。
【００１９】
かかるオルガノポリシロキサンとしては、具体的には下記式（４）で示されるものがあげられる。
【００２０】
【化５】
【００２１】
ここで、Ｍｅはメチル基、Ｖｉはビニル基を示す。ｐは１０００〜１０００００、好ましくは５０００〜１５０００、ｑは０〜３０、好ましくは０．０１〜１０であり、ｙ、ｚは０または１〜３の整数である。
【００２２】
次に（Ｂ）成分の補強性シリカは機械的強度の優れたシリコ−ンゴムを得る目的に用いられ、乾式シリカ（煙噴霧シリカ）や湿式シリカ（沈降性シリカ）が例示される。強度を得るためには乾式シリカが好ましい。また必要に応じてその表面をオルガノポリシロキサン、オルガノポリシラザン、クロロシラン、アルコキシシラン等で表面処理されたシリカを用いても良い。
【００２３】
これらのシリカの比表面積は５０ｍ２／ｇ以上、好ましくは１００〜４００ｍ２／ｇのものである。なお、この補強性シリカの添加量は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００重量部に対して５重量部未満ではすくな過ぎて十分な補強性効果が表れず、１００重量部を超えると著しく加工性が低下し、得られたシリコ−ンゴムの強度も低下するので、５〜１００重量部、好ましくは２０〜７０重量部である。
【００２４】
（Ｃ）成分のシロキサンブロック含有オルガノポリシロキサン共重合体は、下記シロキサンブロック単位（ａ）を有するとともに、
【００２５】
【化６】
〔式中、Ｒ１は脂肪族不飽和基を含有しない置換または非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基であり、ｎは３〜１５０の整数である〕
下記で表される単位から形成された三官能性アリ−ルシロキサン単位（ｂ）とを必須として有し、
【００２６】
【化７】
〔式中、Ｒ2は炭素原子数６〜１２の置換または非置換のアリールもしくはアルカリール基を示す〕
下記式で表される単位（ｃ）により分子末端の少なくとも一部が封鎖されたオルガノポリシロキサンブロック共重合体である。
【００２７】
【化８】
〔式中、Ｒ1は上記と同じであり、Ｒ３はアルケニル基または水酸基を示す。ｘは０又は１〜３の整数である。〕
【００２８】
シロキサンブロック単位（ａ）を構成する前記式において脂肪族不飽和基を有しない置換または非置換の一価炭化水素Ｒ１は炭素数１〜１０のものであり、例えばメチル、エチル、ピロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等のアルキル基、シクロプロピル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、フェニル、ナフチル、トリル、キシリル等のアリ−ル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアラルキル基およびこれらの基の水素原子の一部または全部が塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換された基、たとえば、クロロメチル、トリフルオロプロピル、クロロフェニル、ジフルオロフェニル等のハロゲン化炭化水素基やβ−シアノエチル、γ−シアノプロピル、β―シアノプロピル等のシアノアルキル基等を例示することができる。本発明において合成が容易であることからメチル基であることが好適である。
【００２９】
また前式において重合度を表す整数ｎは３〜１５０、特に１０〜５０、さらに好ましくは１５ 〜４０の範囲であることが好適である。
【００３０】
かかるシロキサンブロック単位（ａ）はオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）中に少なくとも１個存在していれば良いが、一般的にはオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）中に２０〜６０重量％、特に３０〜５０重量％の割合で存在することが好適である。シロキサンブロック（ａ）の含有量があまり少ないとシリコ−ンゴム中の分散が困難であり、あまり多く含まれると金型離型性能が不満足なものとなる。
【００３１】
三官能性アリ−ルシロキサンブロック（ｂ）は前記（３）式の平均単位式で表され、且つ、ケイ素原子数が３〜１５０、特に５〜５０のブロックである。この平均単位式（３）において置換または非置換のアリ−ルもしくはアルカリ−ルＲ２は炭素原子数６〜１２のものであり、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、４−メチルフェニル基、２，４−ジエチルフェニル基等を例示することができる。本発明においてＲ２はフェニル基であることが好ましい。
【００３２】
かかる三官能性アリ−ルシロキサンブロック（ｂ）はオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）中に少なくとも１個存在すればよく、一般的にはオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）に３０〜８０重量％、特に４０〜６０重量％の割合で存在している。このシロキサンブロック（ｂ）の含有量があまり少ないと得られるシリコ−ンゴムシ−トの金型離型性能が不十分なものとなり、あまり多いとシリコ−ンゴム中への分散が困難となる。
【００３３】
また上述したシロキサンブロック（ａ）及び（ｂ） を有するオルガノポリシロキサンブロック共重合体（Ｃ） は、分子鎖末端の少なくとも一部が前記式で表される単位で封鎖されているが、この末端単位（ｃ） は、このブロック共重合体（Ｃ） に架橋点を与えるものであり、硬化物の架橋密度を調整するものである。この末端単位（ｃ）を表す式において、置換または非置換の一価の炭化水素基Ｒ１としては、前記（ａ）式のＲ１について例示した基と同様のものを挙げることができる。アルケニル基Ｒ３としては、例えばビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ヘキセニル等の炭素原子数２〜８のものを例示することができる。一般にかかる末端単位（ｃ） は、ブロック共重合体（Ｃ） 中に１〜１０重量％の割合で存在していることが好適である。
【００３４】
本発明において、上述したオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）は、それ自体公知の種々の方法で製造することができる。例えば、トルエン等の有機溶媒中に３〜１５０の重合度を有するクロロ末端ジクロロポリシロキサン、フェニルトリクロロシラン、及び必要に応じてメチルフェニルジクロロシラン等の２官能シランを目的とする共重合体（Ｃ）に相当するモル比で溶解させる。この溶液は水を十分に分散させたトルエン中に加えて共加水分解を行うことによってオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）を製造することができる。
【００３５】
オルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００重量部に対し０．１〜５０重量部、好ましくは１〜２０重量部である。０．１重量部未満では十分な金型離型性能回復効果が表れず、５０重量部を超えて添加しても効果の向上が認められない。
【００３６】
上記したシロキサン単位以外にも、下記式で示されるジオルガノシロキサン単位を含むことができる。
【００３７】
【化９】
（ここで、Ｒ１は上記したとおりである。）
【００３８】
（Ｃ）成分の前記一般式で表されるシロキサンブロック含有オルガノポリシロキサン共重合体は、下記平均組成式（２）で表される。
【００３９】
【化１０】
【００４０】
式（２）において、Ｒ１〜Ｒ３、ｎ、ｘは上述のとおりである。Ｒ3はヒドロキシル基又は炭素数１〜６の有機基、好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。また、ａは０．０１〜０．２、好ましくは０．０２〜０．１５、ｂは０．６〜０．９５、好ましくは０．７〜０．９０、ｃは０〜０．３、好ましくは０〜０．２、ｄは０〜０．２、好ましくは０〜０．１の数であり、但しその合計が１である。
【００４１】
（Ｄ）成分の硬化剤は有機過酸化物または付加反応硬化剤（オルガノハイドロジェンポリシロキサン及び付加反応触媒）であるが、好ましくは硬化阻害の影響を受けにくい有機過酸化物である。有機過酸化物としてはベンゾイルパ−オキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｐ−メチルベンゾイルパーオキサイド、Ｏオメチルベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチルービス（２，５ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジーｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，６−（ｔ−ブチルパーオキシカルボキシ）ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、クミルーｔ−ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物が用いられる。
【００４２】
これらの有機過酸化物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの有機過酸化物の添加量は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００重量部に対し０．１〜１０重量部、好ましくは０．２〜５重量部である。０．１重量部未満では架橋が不十分であり、１０重量部を超えても硬化速度の向上が望めない。
【００４３】
付加反応硬化剤としては架橋剤として分子中にＳｉＨ基を２個以上、好ましくは３個以上有するオルガノハイドジェンポリシロキサンと付加反応触媒として白金黒、塩化第二白金、塩化白金酸、塩化白金酸の１価アルコ−ルとの反応物、塩化白金酸とオレフィンの錯体、白金ビスアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などがあげられる。オルガノハイドオロオジェンポリシロキサン配合量は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００重量部に対し０．１〜１０重量部、好ましくは０．２〜５重量部である。また、付加反応触媒の配合量は触媒量とすることができる。
【００４４】
本発明の組成物には上記成分に加え、必要に応じてヒドロキシ基含有オルガノシロキサン、粉砕石英、結晶性シリカ等の非補強性シリカ、アセチレンブラック、チャンネルブラック等のカ−ボンブラック、炭酸カルシウム等の充填剤、着色剤、引き裂き向上剤、耐熱向上剤、受酸剤、熱伝導率向上剤、静電気防止剤等の各種添加材や離型剤あるいは充填剤用分散剤として各種アルコキシシラン、その加水分解物、シラノール基含有低分子シロキサンなどの添加は任意である。
【００４５】
充填剤用分散剤として各種アルコキシシラン、その加水分解物、シラノール基含有低分子シロキサンとしては具体的には、ジメチルジメトシシラン、ジメチルジエトキシラン等のアルコキシシラン、各種アルコキシシランの加水分解物、両末端シラノ−ル基を有し、平均重合度が２〜１００のジメチルポリシロキサン、ジフェニルジシラノ−ル、フェニルメチルジシラノ−ル等のフェニル基含有シラノ−ル等が用いられる。
【００４６】
これらの充填剤用分散剤は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これら充填材用分散剤の添加量は（Ａ）成分のオルガノポリシロキンに対し、０．１〜３０重量部、好ましくは５〜１５重量部である。添加量が０．１重量部以下では分散剤として十分な役割を果たさず、３０重量部以上ではシリコ−ンゴムシ−トに粘着感が発生し、シ−ト状に成型するのが困難になる。
【００４７】
さらに本発明は未加硫のシリコ−ンゴムシ−トを用いることから、作業性を考慮し、ム−ニ−粘度（ML1+4 100℃）が15〜60であることが好適であり、より好適にはム−ニ−粘度が20〜40であることが望ましい。ムーニ-粘度が15未満の場合、シ−ト部出しが困難なであり、シリコ−ンゴムシ−トの変形、ハンドリング時のダレの原因になる。また、ム−ニ−粘度が60を超えると圧縮成型時に十分広がることなく硬化して金型全体をカバ−することができない。
【００４８】
本発明のシリコ−ンゴム組成物は、上記成分を２本ロ−ル、バンバリ−ミキサ−、ドウミキサ−（ニ−ダ−）などのゴム混練り機を用いて均一に混合し、必要に応じて熱処理を施すことによって得ることができる。また、シリコ−ンゴムシ−トは２本ロ−ルまたは押し出し成型によって必要なサイズに成型することができる。
【実施例】
【００４９】
以下、実施例および比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００５０】
ベ−スコンパウンド１の製造
ジメチルシロキサン単位９９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１５モル％、ジメチルビニルシロキサン単位０．０２５モル％からなり、平均重合度８０００であるオルガノポリシロキサン１００重量部、比表面積が３００ｍ２／ｇであるフュ−ムドシリカ（日本アエロジル（株）製）３０重量部、分散剤として両末端シラノ−ル基を有し、平均重合度１３、２５℃における粘度が１５ｃｓであるジメチルポリシロキサン１０重量部をニ−ダ−にて混練りし、１８０℃にて３時間加熱処理してベ−スコンパウンド１を調製した。
【００５１】
ブロック共重合体（Ｃ）の製造
合成例1
Ｃｌ（Ｍｅ）２ＳｉＯ（Ｍｅ２ＳｉＯ）ｎＳｉ（Ｍｅ）２Ｃｌ （ｎ＝平均３３個）１００ｇ（０．０３７モル）、フェニルトリクロロシシラン１４８ｇ（０．７０モル）、フェニルメチルジクロロシラン１４．７ｇ（０．０７７モル）、トルエン２００ｇを混合して溶液を調製した。このクロロシラン溶液を攪拌しながらトルエン４３ｇを水８５０ｇに分散させた液中に滴下した。この間に反応温度が２０℃から５０℃に上昇した。滴下終了後、さらに１時間攪拌を続けた。ついで攪拌を停止し、反応系を酸性の水層とシロキサン層とに分離させ、水層を取り除いた。シロキサン層を水が中性になるまで洗浄し、さらに硫酸ナトリウム３０ｇを加え、２時間攪拌して脱水を行った。硫酸ナトリウムをろ過後、減圧下トルエンを除去して下記平均式で示される目的のオルガノポリシロキサン共重合体（「Ｃ−１」とする）を得た。
【００５２】
【化１１】
【００５３】
合成例２
Ｃｌ（Ｍｅ）２ＳｉＯ（Ｍｅ２ＳｉＯ）ｎＳｉ（Ｍｅ）２Ｃｌ （ｎ＝平均１８個）１００ｇ（０．０６６モル）、フェニルトリクロロシシラン１１４ｇ（０．５３９モル）、フェニルメチルジクロロシラン５．４ｇ（０．０３モル）とした以外は合成例１と全く同様にして下記平均式で示されるオルガノポリシロキサン共重合体（「Ｃ−２」とする）を得た。
【００５４】
【化１２】
【００５５】
［実施例1］
調製した上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、上記合成例１で得たオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ−１）１．０重量部を二本ロ−ルにて添加し、さらに硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００５６】
［実施例２］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、上記オルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ−１）１０重量部を二本ロ−ルにて添加し、さらに硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００５７】
［実施例３］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、上記オルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ−２）１．０重量部を二本ロ−ルにて添加し、さらに硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００５８】
［実施例４］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、上記オルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ−２）１０重量部を二本ロ−ルにて添加し、さらに硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００５９】
［比較例１］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００６０】
［比較例２］
上記ベ−スコンパウンド１ 100重量部に対し、ブリ−ド性シリコ−ンオイルとしてフェニル基含有シリコ−ンオイルKF54（粘度400cSt、信越化学（株）製）を3重量部、硬化剤として２，５−ジメチル-ビス（2,5−ｔ-ブチルパ−オキシ）ヘキサンの25％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を3mmに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００６１】
［比較例３］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、ブリ−ド性シリコ−ンオイルとしてトリフルオロプロピル基含有シリコ−ンオイルＦＬ−１００（粘度１００ｃＳｔ、信越化学（株）製）を３重量部、硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００６２】
シリコ−ンゴムシ−トの評価
上記実施例および比較例で得られたシリコ−ンゴムクリ−ニングシ−トを用いて半導体素子を通常の条件下でトランファ−モ−ルド成型を行い、連続成型できる回数を調べ、かつ、金型表面状態を観察した。その結果を表１と表２にまとめた。尚、エポキシ樹脂またはシリコ−ン樹脂は下記組成物を用いた。成型試験はシリコ−ンゴムクリ−ニングシ−トは金型設定温度１７５℃、成型時間１２０秒にて硬化させて直ちに金型からはがし、直ちにエポキシ樹脂を金型設定温度１７５℃、成型時間９０秒にて１００回連続成型あるいは連続して成型できる回数まで成型して、金型表面状態を観察した。
【００６３】
エポキシ樹脂
エポキシレジン：クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂／シリコ−ン変性エポキシ樹脂（６０重量部／５重量部）
硬化材：ノボラック型フェノ−ル樹脂（３５重量部）
硬化促進剤：トリフェニルフォスフィン（１重量部）
無機充填材：溶融シリカ（４００重量部）
接着助剤：γ−グリシジルプロピルトリメトキシシラン（０．５重量部）
着色剤：カ−ボン（１重量部）
離型剤：天然カルバナワックス（１重量部）
【００６４】
シリコ−ン樹脂
シリコ−ンポリマ−：末端シラノ−ル基含有シリコ−ンレジン（100重量部）
無機充填材：溶融シリカ（700重量部）
着色剤：酸化チタン（150重量部）
縮合剤：ステアリン酸カルシウム（1重量部）
接着助剤：γ-グリシジルプロピルトリメトキシシラン（0.5重量部）
【００６５】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明はトランスファ−成型金型のクリ−ニングシ−ト用シリコ−ンゴム組成物ならびにシリコ−ンゴムシ−トに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体封止用パッケ−ジにはエポキシ樹脂が広く使用されていたが、近年、低応力を目的としてシリコ−ン成分を含む樹脂が多く使用される様になり、さらにはシリコ−ン樹脂を主成分とする樹脂が注型、圧縮成型、射出成型、トランスファ−モ−ルド成型する封止材、リフレクタ−材に用いられている。
【０００３】
しかしながら、上記のようなトランスファ−成型により、従来にないシリコ−ン成分による金型汚染が発生し、連続成型を行うためには金型離型材が必要となってきている。シリコ−ン成分が原因となる金型汚染に対しては特許公報第２６４６０４６号、特許公報第２５４９８２９号に記載される従来のクリ−ニングシ−トやメラミン樹脂成形によるクリ−ニングでは十分な洗浄を行うことができない。
【０００４】
更にシリコ−ン樹脂成形で一般に用いられるフッ素系離型材、シリコ−ン系金型離型材をスプレ−塗布する方法では金型表面の汚染物質を取り除くことは困難であった。
【０００５】
シリコ−ンゴム組成物として特許公報第２８３５４４７号において高引裂きシリコ−ンゴム組成物、特許公報題２６４６０４６号において高減衰性シリコ−ンゴム組成物においてオルガノポリシロキサンレジンを添加したシリコ−ンゴム組成物が開示されているが、４０ｋｇｆ／ｃｍ２を超える引き裂き強度は必ずしも必要ではなく、エポキシ樹脂が使用される環境においては付加硬化反応による硬化システムでは硬化不良を起こす可能性が高い。
【０００６】
【特許文献１】特許公報第２６４６０４６号公報
【特許文献２】特許公報第２５４９８２９号公報
【特許文献３】特許公報第２８３５４４７号公報
【特許文献４】特許公報題２６４６０４６号号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は上記のような問題のない、クリ−ニングシ−トを提供するためのシリコ−ンゴム組成物を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
即ち、本発明者らは上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、（A）下記平均組成式（１）で表されるオルガノポリシロキン、（B）比表面積50m2/ｇ以上の補強性シリカ（C）下記一般式（２）（３）からなるオルガノポリシロキサン共重合体、（D）硬化材からなるシリコ−ンゴム組成物がトランスファ−成型用金型の洗浄用シリコ−ンゴムシ−トとして金型表面からの汚染物質の除去ならびに金型離型力を回復させることを見出したものである。
【０００９】
従って本発明は、（Ａ）下記平均組成式（１）
ＲｎＳｉＯ（４−ｎ）／２ （１）
（式中Ｒは同一又は異種の非置換または置換一価単価水素基、ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）で表されるオルガノポリシロキサン １００重量部
（Ｂ）比表面積５０ｍ２／ｇ以上の補強性シリカ ５〜１００重量部
（Ｃ）下記シロキサンブロック単位（ａ）を有するとともに、
【００１０】
【化１】
〔式中、Ｒ１は脂肪族不飽和基を含有しない置換または非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基であり、ｎは３〜１５０の整数である〕
下記で表される三官能性アリ−ルシロキサン単位（ｂ）とを必須として有し、
【００１１】
【化２】
〔式中、Ｒ2は炭素原子数６〜１２の置換または非置換のアリールもしくはアルカリール基を示す〕
下記式で表される単位（ｃ）により分子末端の少なくとも一部が封鎖されたオルガノポリシロキサンブロック共重合体。
【００１２】
【化３】
〔式中、Ｒ1は上記と同じであり、Ｒ３はアルケニル基または水酸基を示す。ｘは０又は１〜３の整数である。〕
０．１〜５０重量部
（Ｄ）硬化剤 ０．１〜１０重量部
を必須成分とすることを特徴とする金型洗浄用シリコ−ンゴム組成物を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
トランスファ−成型用金型の洗浄用シリコ−ンゴムシ−トとして金型表面からの汚染物質の除去ならびに金型離型力を回復させることを目的とするシリコ−ンゴム組成物を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。
（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンは
ＲｎＳｉＯ（４−ｎ）／２
（式中Ｒは同一又は異種の非置換または置換一価単価水素基、ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）で表されるものである。
【００１５】
Ｒは同一または異種の好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは１〜８の非置換または置換の一価炭化水素基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、β―フェニルプロピル基等のアラルキル基、あるいはこれらの基の炭化水素基に結合した水素原子の一部または全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基などから選択される、これらの中ではメチル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基、ビニル基が好ましく、とりわけメチル基が５０モル％以上、特に８０モル％以上であることが好ましい。
【００１６】
また、ｎは１．９８〜２．０２の正数であり、（Ａ）成分としては直鎖状、分岐状何れでも良いが、生産性、成型性、ロ−ル加工性、形状維持性等の点で、下記一般式（３）で示される直鎖状のシリコーンエラストマーが好ましい。
【００１７】
【化４】
ここで、Ｒは同一でも異なってもよい上記した基であり、ｍは１，０００〜１００，０００の整数である。
【００１８】
このオルガノポリシロキサンは分子鎖末端がトリメチルシリル基、ジメチルビニルシリル基、ジメチルヒドロキシシリル基、トリビニルシリル基などで封鎖されたものとすることができる。本発明において、このオルガノポリシロキサンは分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有する必要があり、Ｒのうち、０．００１〜１０モル％、特に０．０１〜５モル％がアルケニル基、特にビニル基であることが好ましい。また、粘度は２５℃における粘度が１００ｃｓ以上のものが好ましい。より好ましくは１００，０００〜１０，０００，００００ｃｓである。重合度は１０００以上、特に３，０００〜１００，０００が好ましく、中でも４，０００〜２０，０００が好ましい。
【００１９】
かかるオルガノポリシロキサンとしては、具体的には下記式（４）で示されるものがあげられる。
【００２０】
【化５】
【００２１】
ここで、Ｍｅはメチル基、Ｖｉはビニル基を示す。ｐは１０００〜１０００００、好ましくは５０００〜１５０００、ｑは０〜３０、好ましくは０．０１〜１０であり、ｙ、ｚは０または１〜３の整数である。
【００２２】
次に（Ｂ）成分の補強性シリカは機械的強度の優れたシリコ−ンゴムを得る目的に用いられ、乾式シリカ（煙噴霧シリカ）や湿式シリカ（沈降性シリカ）が例示される。強度を得るためには乾式シリカが好ましい。また必要に応じてその表面をオルガノポリシロキサン、オルガノポリシラザン、クロロシラン、アルコキシシラン等で表面処理されたシリカを用いても良い。
【００２３】
これらのシリカの比表面積は５０ｍ２／ｇ以上、好ましくは１００〜４００ｍ２／ｇのものである。なお、この補強性シリカの添加量は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００重量部に対して５重量部未満ではすくな過ぎて十分な補強性効果が表れず、１００重量部を超えると著しく加工性が低下し、得られたシリコ−ンゴムの強度も低下するので、５〜１００重量部、好ましくは２０〜７０重量部である。
【００２４】
（Ｃ）成分のシロキサンブロック含有オルガノポリシロキサン共重合体は、下記シロキサンブロック単位（ａ）を有するとともに、
【００２５】
【化６】
〔式中、Ｒ１は脂肪族不飽和基を含有しない置換または非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基であり、ｎは３〜１５０の整数である〕
下記で表される単位から形成された三官能性アリ−ルシロキサン単位（ｂ）とを必須として有し、
【００２６】
【化７】
〔式中、Ｒ2は炭素原子数６〜１２の置換または非置換のアリールもしくはアルカリール基を示す〕
下記式で表される単位（ｃ）により分子末端の少なくとも一部が封鎖されたオルガノポリシロキサンブロック共重合体である。
【００２７】
【化８】
〔式中、Ｒ1は上記と同じであり、Ｒ３はアルケニル基または水酸基を示す。ｘは０又は１〜３の整数である。〕
【００２８】
シロキサンブロック単位（ａ）を構成する前記式において脂肪族不飽和基を有しない置換または非置換の一価炭化水素Ｒ１は炭素数１〜１０のものであり、例えばメチル、エチル、ピロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等のアルキル基、シクロプロピル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、フェニル、ナフチル、トリル、キシリル等のアリ−ル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアラルキル基およびこれらの基の水素原子の一部または全部が塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換された基、たとえば、クロロメチル、トリフルオロプロピル、クロロフェニル、ジフルオロフェニル等のハロゲン化炭化水素基やβ−シアノエチル、γ−シアノプロピル、β―シアノプロピル等のシアノアルキル基等を例示することができる。本発明において合成が容易であることからメチル基であることが好適である。
【００２９】
また前式において重合度を表す整数ｎは３〜１５０、特に１０〜５０、さらに好ましくは１５ 〜４０の範囲であることが好適である。
【００３０】
かかるシロキサンブロック単位（ａ）はオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）中に少なくとも１個存在していれば良いが、一般的にはオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）中に２０〜６０重量％、特に３０〜５０重量％の割合で存在することが好適である。シロキサンブロック（ａ）の含有量があまり少ないとシリコ−ンゴム中の分散が困難であり、あまり多く含まれると金型離型性能が不満足なものとなる。
【００３１】
三官能性アリ−ルシロキサンブロック（ｂ）は前記（３）式の平均単位式で表され、且つ、ケイ素原子数が３〜１５０、特に５〜５０のブロックである。この平均単位式（３）において置換または非置換のアリ−ルもしくはアルカリ−ルＲ２は炭素原子数６〜１２のものであり、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、４−メチルフェニル基、２，４−ジエチルフェニル基等を例示することができる。本発明においてＲ２はフェニル基であることが好ましい。
【００３２】
かかる三官能性アリ−ルシロキサンブロック（ｂ）はオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）中に少なくとも１個存在すればよく、一般的にはオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）に３０〜８０重量％、特に４０〜６０重量％の割合で存在している。このシロキサンブロック（ｂ）の含有量があまり少ないと得られるシリコ−ンゴムシ−トの金型離型性能が不十分なものとなり、あまり多いとシリコ−ンゴム中への分散が困難となる。
【００３３】
また上述したシロキサンブロック（ａ）及び（ｂ） を有するオルガノポリシロキサンブロック共重合体（Ｃ） は、分子鎖末端の少なくとも一部が前記式で表される単位で封鎖されているが、この末端単位（ｃ） は、このブロック共重合体（Ｃ） に架橋点を与えるものであり、硬化物の架橋密度を調整するものである。この末端単位（ｃ）を表す式において、置換または非置換の一価の炭化水素基Ｒ１としては、前記（ａ）式のＲ１について例示した基と同様のものを挙げることができる。アルケニル基Ｒ３としては、例えばビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ヘキセニル等の炭素原子数２〜８のものを例示することができる。一般にかかる末端単位（ｃ） は、ブロック共重合体（Ｃ） 中に１〜１０重量％の割合で存在していることが好適である。
【００３４】
本発明において、上述したオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）は、それ自体公知の種々の方法で製造することができる。例えば、トルエン等の有機溶媒中に３〜１５０の重合度を有するクロロ末端ジクロロポリシロキサン、フェニルトリクロロシラン、及び必要に応じてメチルフェニルジクロロシラン等の２官能シランを目的とする共重合体（Ｃ）に相当するモル比で溶解させる。この溶液は水を十分に分散させたトルエン中に加えて共加水分解を行うことによってオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）を製造することができる。
【００３５】
オルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ）は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００重量部に対し０．１〜５０重量部、好ましくは１〜２０重量部である。０．１重量部未満では十分な金型離型性能回復効果が表れず、５０重量部を超えて添加しても効果の向上が認められない。
【００３６】
上記したシロキサン単位以外にも、下記式で示されるジオルガノシロキサン単位を含むことができる。
【００３７】
【化９】
（ここで、Ｒ１は上記したとおりである。）
【００３８】
（Ｃ）成分の前記一般式で表されるシロキサンブロック含有オルガノポリシロキサン共重合体は、下記平均組成式（２）で表される。
【００３９】
【化１０】
【００４０】
式（２）において、Ｒ１〜Ｒ３、ｎ、ｘは上述のとおりである。Ｒ3はヒドロキシル基又は炭素数１〜６の有機基、好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。また、ａは０．０１〜０．２、好ましくは０．０２〜０．１５、ｂは０．６〜０．９５、好ましくは０．７〜０．９０、ｃは０〜０．３、好ましくは０〜０．２、ｄは０〜０．２、好ましくは０〜０．１の数であり、但しその合計が１である。
【００４１】
（Ｄ）成分の硬化剤は有機過酸化物または付加反応硬化剤（オルガノハイドロジェンポリシロキサン及び付加反応触媒）であるが、好ましくは硬化阻害の影響を受けにくい有機過酸化物である。有機過酸化物としてはベンゾイルパ−オキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｐ−メチルベンゾイルパーオキサイド、Ｏオメチルベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチルービス（２，５ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジーｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，６−（ｔ−ブチルパーオキシカルボキシ）ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、クミルーｔ−ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物が用いられる。
【００４２】
これらの有機過酸化物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの有機過酸化物の添加量は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００重量部に対し０．１〜１０重量部、好ましくは０．２〜５重量部である。０．１重量部未満では架橋が不十分であり、１０重量部を超えても硬化速度の向上が望めない。
【００４３】
付加反応硬化剤としては架橋剤として分子中にＳｉＨ基を２個以上、好ましくは３個以上有するオルガノハイドジェンポリシロキサンと付加反応触媒として白金黒、塩化第二白金、塩化白金酸、塩化白金酸の１価アルコ−ルとの反応物、塩化白金酸とオレフィンの錯体、白金ビスアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などがあげられる。オルガノハイドオロオジェンポリシロキサン配合量は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００重量部に対し０．１〜１０重量部、好ましくは０．２〜５重量部である。また、付加反応触媒の配合量は触媒量とすることができる。
【００４４】
本発明の組成物には上記成分に加え、必要に応じてヒドロキシ基含有オルガノシロキサン、粉砕石英、結晶性シリカ等の非補強性シリカ、アセチレンブラック、チャンネルブラック等のカ−ボンブラック、炭酸カルシウム等の充填剤、着色剤、引き裂き向上剤、耐熱向上剤、受酸剤、熱伝導率向上剤、静電気防止剤等の各種添加材や離型剤あるいは充填剤用分散剤として各種アルコキシシラン、その加水分解物、シラノール基含有低分子シロキサンなどの添加は任意である。
【００４５】
充填剤用分散剤として各種アルコキシシラン、その加水分解物、シラノール基含有低分子シロキサンとしては具体的には、ジメチルジメトシシラン、ジメチルジエトキシラン等のアルコキシシラン、各種アルコキシシランの加水分解物、両末端シラノ−ル基を有し、平均重合度が２〜１００のジメチルポリシロキサン、ジフェニルジシラノ−ル、フェニルメチルジシラノ−ル等のフェニル基含有シラノ−ル等が用いられる。
【００４６】
これらの充填剤用分散剤は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これら充填材用分散剤の添加量は（Ａ）成分のオルガノポリシロキンに対し、０．１〜３０重量部、好ましくは５〜１５重量部である。添加量が０．１重量部以下では分散剤として十分な役割を果たさず、３０重量部以上ではシリコ−ンゴムシ−トに粘着感が発生し、シ−ト状に成型するのが困難になる。
【００４７】
さらに本発明は未加硫のシリコ−ンゴムシ−トを用いることから、作業性を考慮し、ム−ニ−粘度（ML1+4 100℃）が15〜60であることが好適であり、より好適にはム−ニ−粘度が20〜40であることが望ましい。ムーニ-粘度が15未満の場合、シ−ト部出しが困難なであり、シリコ−ンゴムシ−トの変形、ハンドリング時のダレの原因になる。また、ム−ニ−粘度が60を超えると圧縮成型時に十分広がることなく硬化して金型全体をカバ−することができない。
【００４８】
本発明のシリコ−ンゴム組成物は、上記成分を２本ロ−ル、バンバリ−ミキサ−、ドウミキサ−（ニ−ダ−）などのゴム混練り機を用いて均一に混合し、必要に応じて熱処理を施すことによって得ることができる。また、シリコ−ンゴムシ−トは２本ロ−ルまたは押し出し成型によって必要なサイズに成型することができる。
【実施例】
【００４９】
以下、実施例および比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００５０】
ベ−スコンパウンド１の製造
ジメチルシロキサン単位９９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１５モル％、ジメチルビニルシロキサン単位０．０２５モル％からなり、平均重合度８０００であるオルガノポリシロキサン１００重量部、比表面積が３００ｍ２／ｇであるフュ−ムドシリカ（日本アエロジル（株）製）３０重量部、分散剤として両末端シラノ−ル基を有し、平均重合度１３、２５℃における粘度が１５ｃｓであるジメチルポリシロキサン１０重量部をニ−ダ−にて混練りし、１８０℃にて３時間加熱処理してベ−スコンパウンド１を調製した。
【００５１】
ブロック共重合体（Ｃ）の製造
合成例1
Ｃｌ（Ｍｅ）２ＳｉＯ（Ｍｅ２ＳｉＯ）ｎＳｉ（Ｍｅ）２Ｃｌ （ｎ＝平均３３個）１００ｇ（０．０３７モル）、フェニルトリクロロシシラン１４８ｇ（０．７０モル）、フェニルメチルジクロロシラン１４．７ｇ（０．０７７モル）、トルエン２００ｇを混合して溶液を調製した。このクロロシラン溶液を攪拌しながらトルエン４３ｇを水８５０ｇに分散させた液中に滴下した。この間に反応温度が２０℃から５０℃に上昇した。滴下終了後、さらに１時間攪拌を続けた。ついで攪拌を停止し、反応系を酸性の水層とシロキサン層とに分離させ、水層を取り除いた。シロキサン層を水が中性になるまで洗浄し、さらに硫酸ナトリウム３０ｇを加え、２時間攪拌して脱水を行った。硫酸ナトリウムをろ過後、減圧下トルエンを除去して下記平均式で示される目的のオルガノポリシロキサン共重合体（「Ｃ−１」とする）を得た。
【００５２】
【化１１】
【００５３】
合成例２
Ｃｌ（Ｍｅ）２ＳｉＯ（Ｍｅ２ＳｉＯ）ｎＳｉ（Ｍｅ）２Ｃｌ （ｎ＝平均１８個）１００ｇ（０．０６６モル）、フェニルトリクロロシシラン１１４ｇ（０．５３９モル）、フェニルメチルジクロロシラン５．４ｇ（０．０３モル）とした以外は合成例１と全く同様にして下記平均式で示されるオルガノポリシロキサン共重合体（「Ｃ−２」とする）を得た。
【００５４】
【化１２】
【００５５】
［実施例1］
調製した上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、上記合成例１で得たオルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ−１）１．０重量部を二本ロ−ルにて添加し、さらに硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００５６】
［実施例２］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、上記オルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ−１）１０重量部を二本ロ−ルにて添加し、さらに硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００５７】
［実施例３］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、上記オルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ−２）１．０重量部を二本ロ−ルにて添加し、さらに硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００５８】
［実施例４］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、上記オルガノポリシロキサン共重合体（Ｃ−２）１０重量部を二本ロ−ルにて添加し、さらに硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００５９】
［比較例１］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００６０】
［比較例２］
上記ベ−スコンパウンド１ 100重量部に対し、ブリ−ド性シリコ−ンオイルとしてフェニル基含有シリコ−ンオイルKF54（粘度400cSt、信越化学（株）製）を3重量部、硬化剤として２，５−ジメチル-ビス（2,5−ｔ-ブチルパ−オキシ）ヘキサンの25％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を3mmに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００６１】
［比較例３］
上記ベ−スコンパウンド１ １００重量部に対し、ブリ−ド性シリコ−ンオイルとしてトリフルオロプロピル基含有シリコ−ンオイルＦＬ−１００（粘度１００ｃＳｔ、信越化学（株）製）を３重量部、硬化剤として２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパ−オキシ）ヘキサンの２５％シリコ−ンペ−スト ２重量部を二本ロ−ルにて添加し、二本ロ−ル間幅を３ｍｍに調整後、シリコ−ンゴムシ−トを調製した。
【００６２】
シリコ−ンゴムシ−トの評価
上記実施例および比較例で得られたシリコ−ンゴムクリ−ニングシ−トを用いて半導体素子を通常の条件下でトランファ−モ−ルド成型を行い、連続成型できる回数を調べ、かつ、金型表面状態を観察した。その結果を表１と表２にまとめた。尚、エポキシ樹脂またはシリコ−ン樹脂は下記組成物を用いた。成型試験はシリコ−ンゴムクリ−ニングシ−トは金型設定温度１７５℃、成型時間１２０秒にて硬化させて直ちに金型からはがし、直ちにエポキシ樹脂を金型設定温度１７５℃、成型時間９０秒にて１００回連続成型あるいは連続して成型できる回数まで成型して、金型表面状態を観察した。
【００６３】
エポキシ樹脂
エポキシレジン：クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂／シリコ−ン変性エポキシ樹脂（６０重量部／５重量部）
硬化材：ノボラック型フェノ−ル樹脂（３５重量部）
硬化促進剤：トリフェニルフォスフィン（１重量部）
無機充填材：溶融シリカ（４００重量部）
接着助剤：γ−グリシジルプロピルトリメトキシシラン（０．５重量部）
着色剤：カ−ボン（１重量部）
離型剤：天然カルバナワックス（１重量部）
【００６４】
シリコ−ン樹脂
シリコ−ンポリマ−：末端シラノ−ル基含有シリコ−ンレジン（100重量部）
無機充填材：溶融シリカ（700重量部）
着色剤：酸化チタン（150重量部）
縮合剤：ステアリン酸カルシウム（1重量部）
接着助剤：γ-グリシジルプロピルトリメトキシシラン（0.5重量部）
【００６５】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記平均組成式（１）
ＲｎＳｉＯ（４−ｎ）／２ （１）
（式中Ｒは同一又は異種の非置換または置換一価炭化水素基、ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）で表されるオルガノポリシロキサン １００重量部
（Ｂ）比表面積５０ｍ２／ｇ以上の補強性シリカ ５〜１００重量部
（Ｃ）下記シロキサンブロック単位（ａ）を有するとともに、
【化１】
〔式中、Ｒ１は脂肪族不飽和基を含有しない置換または非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基であり、ｎは３〜１５０の整数である〕
下記で表される三官能性アリ−ルシロキサン単位（ｂ）とを必須として有し、
【化２】
〔式中、Ｒ2は炭素原子数６〜１２の置換または非置換のアリールもしくはアルカリール基を示す〕
下記式で表される単位（ｃ）により分子末端の少なくとも一部が封鎖されたオルガノポリシロキサンブロック共重合体。
【化３】
〔式中、Ｒ1は上記と同じであり、Ｒ３はアルケニル基または水酸基を示す。ｘは０又は１〜３の整数である。〕
０．１〜５０重量部
（Ｄ）硬化剤 ０．１〜１０重量部
を必須成分とすることを特徴とする金型洗浄用シリコ−ンゴム組成物。
【請求項２】
請求項１記載の硬化触媒が有機過酸化物であること特徴とするシリコ−ンゴム組成物。
【請求項３】
請求項２に記載のシリコ−ンゴム組成物のム−ニ−粘度（ML1+4 100℃）が１５以上６０
以下であるシリコ−ンゴム組成物。
【請求項４】
請求項１に記載の組成物をシ−ト状に加工し、トランスファ−成型用金型のクリ−ニングならびに離型力を回復させるクリ−ニング用シリコ−ンゴムシ−ト。
【請求項５】
請求項4に記載のトランスファ-成型する樹脂がシリコ−ン樹脂ならびにシリコ−ンを含有するハイブリット樹脂であることを特徴とするクリ−ニング用シリコ−ンゴムシ−ト。
【請求項１】
（Ａ）下記平均組成式（１）
ＲｎＳｉＯ（４−ｎ）／２ （１）
（式中Ｒは同一又は異種の非置換または置換一価炭化水素基、ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）で表されるオルガノポリシロキサン １００重量部
（Ｂ）比表面積５０ｍ２／ｇ以上の補強性シリカ ５〜１００重量部
（Ｃ）下記シロキサンブロック単位（ａ）を有するとともに、
【化１】
〔式中、Ｒ１は脂肪族不飽和基を含有しない置換または非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基であり、ｎは３〜１５０の整数である〕
下記で表される三官能性アリ−ルシロキサン単位（ｂ）とを必須として有し、
【化２】
〔式中、Ｒ2は炭素原子数６〜１２の置換または非置換のアリールもしくはアルカリール基を示す〕
下記式で表される単位（ｃ）により分子末端の少なくとも一部が封鎖されたオルガノポリシロキサンブロック共重合体。
【化３】
〔式中、Ｒ1は上記と同じであり、Ｒ３はアルケニル基または水酸基を示す。ｘは０又は１〜３の整数である。〕
０．１〜５０重量部
（Ｄ）硬化剤 ０．１〜１０重量部
を必須成分とすることを特徴とする金型洗浄用シリコ−ンゴム組成物。
【請求項２】
請求項１記載の硬化触媒が有機過酸化物であること特徴とするシリコ−ンゴム組成物。
【請求項３】
請求項２に記載のシリコ−ンゴム組成物のム−ニ−粘度（ML1+4 100℃）が１５以上６０
以下であるシリコ−ンゴム組成物。
【請求項４】
請求項１に記載の組成物をシ−ト状に加工し、トランスファ−成型用金型のクリ−ニングならびに離型力を回復させるクリ−ニング用シリコ−ンゴムシ−ト。
【請求項５】
請求項4に記載のトランスファ-成型する樹脂がシリコ−ン樹脂ならびにシリコ−ンを含有するハイブリット樹脂であることを特徴とするクリ−ニング用シリコ−ンゴムシ−ト。
【公開番号】特開２０１０−１７３２９３（Ｐ２０１０−１７３２９３Ａ）
【公開日】平成２２年８月１２日（２０１０．８．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２１３４８（Ｐ２００９−２１３４８）
【出願日】平成２１年２月２日（２００９．２．２）
【出願人】（０００００２０６０）信越化学工業株式会社 (3,361)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月１２日（２０１０．８．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月２日（２００９．２．２）
【出願人】（０００００２０６０）信越化学工業株式会社 (3,361)
【Ｆターム（参考）】
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