【課題】測定物の厚さや温度測定を、非接触により高精度で行うこと。
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光を放射する光源１０と、ＳＣ光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ１１と、ミラー１２と、ミラー１２の位置を調整する位置調整装置１３と、測定光と参照光との干渉強度の波長スペクトルを測定する受光装置１４と、干渉強度のスペクトルを空間座標に逆フーリエ変換して、干渉強度の空間分布を求め、その空間分布から測定物の厚さや温度を測定する干渉波形解析装置１５と、によって構成されている。 （もっと読む）

【課題】局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクス用のガラス基板１の被測定面および裏面の凹凸形状と板厚ばらつきを測定する凹凸形状測定工程と、前記測定結果にもとづいて、表面加工を施すことにより、前記被測定面および裏面の平坦度と板厚ばらつきを所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施された前記ガラス基板１の表面を基板押圧手段６７により研磨布６１に押圧しつつ、回転させて研磨する際、前記ガラス基板１の表面における押圧力分布が均一となるように、前記ガラス基板１を研磨布６１に押し当て、かつ、研磨布押圧手段６７が、前記ガラス基板１の外周部近傍の前記研磨布６１を押圧しながら、前記ガラス基板１を研磨する研磨工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】測定対象膜に照明光を照射して測定される表面形状データ及び界面形状データから、この測定対象膜の屈折率を得ることができる膜構造測定方法及び表面形状測定装置を提供する。
【解決手段】表面形状測定装置の制御用プロセッサで実行される膜構造測定方法は、撮像装置により、物体に形成された測定対象膜に光を照射し、当該光の反射光からこの測定対象膜の表面の形状である表面形状データ及び測定対象膜と物体との界面の形状である界面形状データを測定するステップ２２０と、平均値がほぼ０となるように表面形状データ及び界面形状データの各々を基準面を用いて補正することにより、補正された表面形状データ及び補正された界面形状データを算出するステップ２３０と、補正された表面形状データ及び補正された界面形状データから、測定対象膜の屈折率を算出するステップ２４０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】鋼板表面に生成された鉄系酸化物の膜厚を、鋼板から遠く離れた加熱炉外からオンラインで連続的に精度良く測定することができる鋼板表面の酸化膜厚計測方法及び装置を提案することを課題とする。
【解決手段】鋼板の表面に赤外光を間欠的に照射し、赤外光の照射時には鋼板表面から放射される自発光放射エネルギーと照射した赤外光の鋼板表面からの反射光エネルギーの合計されたエネルギーを、赤外光の照射が遮断される時には鋼板からの自発光放射エネルギーのみを、２つの異なる赤外波長帯域にてそれぞれ検出し、赤外光の間欠照射によって検出される検出値のうち赤外光の照射時の検出値から遮断される時の検出値を減じることにより反射光エネルギーを算出し、算出された反射光エネルギーについて２つの異なる赤外波長帯域間の比を前記加熱炉の入側及び出側でそれぞれ演算し、それらの比を演算する。 （もっと読む）

【課題】長波長タイプの赤外線膜厚計を用いて化成処理皮膜の膜厚のオンライン計測する際に、装置コンディションの経時変化に伴う膜厚測定値の初期状態からのずれを精度良く校正する。
【解決手段】下記（１）式で定義されるＲａ比率が０.７〜４.０となるように表面粗さが調整された機械的粗面化表面を有するステンレス鋼板を校正板として使用する。
Ｒａ比率＝Ｒａ[基材]／Ｒａ[校正板] …（１）
ただし、
Ｒａ[基材]； 前記基材（皮膜を持たないもの）の算術平均粗さＲａ（μｍ）
Ｒａ[校正板]； 校正板の算術平均粗さＲａ（μｍ） （もっと読む）

【課題】タイヤの一周分の厚みを、短時間で正確に計測することができるタイヤの形状測定方法および形状測定装置を提供する。
【解決手段】タイヤ外面および内面の画像データからタイヤの外面形状データおよび内面形状データを検出する外面および内面形状測定工程と、外面および内面形状データ中のタイヤ周方向に沿う一周分の凹凸をフーリエ変換してそれぞれの一次の波形成分を取り出す外面および内面一次成分抽出工程と、双方の波形成分のタイヤ周方向位置を合わせてそのタイヤ周方向位置を調整する周方向位置調整工程と、第一および第二のカメラの配置角度と位置情報とから外面形状データと内面形状データとのタイヤ半径方向断面内位置を調整する断面内位置調整工程と、調整されたタイヤ周方向位置およびタイヤ半径方向断面内位置に基づき、外面形状データと内面形状データとを合成する形状データ合成工程とを含むタイヤの形状測定方法である。 （もっと読む）

【課題】 曲面を有する塗装膜を正確に計測する。
【解決手段】 ラヘルツ波を発生させるテラヘルツ波発生器１５と、前記テラヘルツ波を、膜が形成された試料に照射させる照射光学系１６、１７と、前記試料において反射したテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波検出器２２と、検出されたテラヘルツ波の電場強度を時間軸の波形データに表し、波形データから複数のピークを検出するとともに、ピーク間の時間差に基づき膜厚を算出する制御部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】光透過性を有する被測定物の形状を、精度良く迅速に測定する方法を提供する。
【解決手段】光照射手段１と光検出手段２を被測定物３の表面３ａ側に配置し、既知形状の反射面４ａを有する反射手段４を被測定物３の裏面３ｂ側に配置する。次に光照射手段１から測定光５を表面３ａに照射する。測定光５のうち、表面３ａで反射した第１の反射光８と、被測定物３を透過して裏面３ｂで反射した第２の反射光９と、被測定物３内を透過した透過光５のうち反射面４ａで反射された第３の反射光１０とを含む反射干渉光７を光検出手段２で検出する。そして反射干渉光７の光強度スペクトルを分析し、第１および第２の反射光８、９からなる第１の干渉光成分から被測定物３の厚みｔを算出し、第２および第３の反射光９、１０からなる第２の干渉光成分から裏面３ｂと反射面４ａ間の距離ｄを算出し、厚みｔと距離ｄに基づいて被測定物３の形状を求める。 （もっと読む）

【課題】少なくとも裏側に高濃度ドープ層を有するシリコンウエハの厚さを測定する装置を提供する。
【解決手段】装置３４は，複数波長のコーヒレントな光を放射する光源２を有する。また，本装置は，シリコンウエハと非接触に配置され，シリコンウエハの少なくとも一部を複数波長のコーヒレントな光によって照射し，シリコンウエハからの反射光の少なくとも一部を受光する測定ヘッド３を含む。さらに，本装置は，分光器５，ビームスプリッター，及び評価装置６を含む。評価装置は，シリコンウエハからの反射光を，光コーヒレンストモグラフィー法により分析することで，シリコンウエハの厚さを測定する。コーヒレントな光は，中央波長Ｗ_Ｃを有する帯域幅ｂの複数波長で放射される。シリコンウエハの高濃度ドープ層の光吸収率を最少とする波長は，帯域幅ｂ内に存在する範囲である。 （もっと読む）

【課題】 平面、円筒、自由形状を含む各種形状の基板の外面および内面上に施したＤＬＣ薄膜の膜厚と屈折率を近赤外光を用いて精度良く測定することを目的とする。
【解決手段】 グラファイト成分を含むダイアモンド状カーボン薄膜が半透明な波長域の近赤外光を光源として利用することを特徴として垂直反射干渉スペクトル計測によって膜厚と屈折率の積を求める。
また、干渉測定する対象試料の同一点の屈折率を同一光源を用いて、傾斜入反射測定計で反射物質の屈折率のみで決まるブリュースター角を測定することで、屈折率を決定する。結果として、正確な膜厚が求まる。 （もっと読む）

【課題】ウェハ表面の膜を容易に高感度で検査することが可能な検査方法を提供する。
【解決手段】表面に膜が設けられたウェハを支持するステージと、ステージに支持されたウェハの表面に照明光を照射する照明系と、照明光が照射されたウェハの表面からの反射光を検出する検出部と、検出部により検出された反射光の情報から膜の検査を行う検査部とを備えた検査装置による検査方法であって、目標膜厚および屈折率を設定する設定ステップＳ１０１と、目標膜厚および屈折率から、目標膜厚近傍における膜厚変化に対する反射率変化の特性を複数の波長毎に算出する演算ステップＳ１０２と、膜厚変化に対する反射率変化の特性に基づいて、反射率変化（すなわち感度）が最も大きくなる波長を照明光の波長として決定する決定ステップＳ１０３とを有している。 （もっと読む）

【課題】測定対象の特性を簡易に測定可能な測定システムを提供する。
【解決手段】蛍光を発する蛍光体２と、蛍光体２から発せられた後に測定対象である膜１００の特性に依存する変調を波長選択的に与えられた蛍光を受光する光学系１０と、変調を与えられた蛍光の減衰特性を測定する減衰特性測定部３０１と、減衰特性に基づいて、測定対象である膜１００の特性を特定する特定部３０２と、を備える測定システムを提供する。 （もっと読む）

パターン化された構造の少なくとも１つのパラメータの測定で使用するための方法およびシステムが提供される。方法は：構造の異なる位置上の測定に対応する複数の測定された信号を含む測定されたデータと、理論的信号と測定された信号との間の関係は、構造の少なくとも１つのパラメータを示す理論的信号を示すデータとを含む入力データを提供する過程と；構造の少なくとも１つの性質を特徴付ける少なくとも１つの選択されたグローバルパラメータに基づきペナルティ関数を提供する過程と；フィッティングプロシージャの前記実行は、理論的信号と測定された信号との間の最適化された関係を決定するために前記ペナルティ関数を使用することと、構造の前記少なくとも１つのパラメータを決定するために最適化された関係を使用することとを含む、理論的信号と測定された信号との間のフィッティングプロシージャを実行する過程と；からなる。
（もっと読む）

【課題】
ハードディスク用のパターンドメディアの光学的な検査において、下地膜の膜厚変動，膜質変動の影響を受けることなくパターンの検査を行えるようにする。
【解決手段】
パターン検査装置を、試料を載置して回転可能な回転テーブル手段と、試料に照明光を照射する照明手段と、照明手段で光を照射された領域からの反射光を分光して検出する分光検出手段と、分光検出手段で分光して検出した基板のパターンが形成されていない領域からの反射光検出信号を処理して多層膜の光学特性を検出するとともに多層膜を含むパターンからの反射光検出信号を処理して多層膜を含むパターンからの反射光の光学特性を検出する光学特性検出手段と、光学特性検出手段で検出した多層膜からの反射光の光学特性の情報を用いて多層膜を含むパターンからの反射光の光学特性の情報を処理することにより多層膜上に形成されたパターンを検査するパターン検査手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】光の干渉を利用した干渉測定装置において、測定精度を向上させること。
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光（ＳＣ光）を放射する光源１０と、ＳＣ光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ１１と、分散補償素子１２と、分散補償素子１２を移動させる駆動装置１３と、測定光と参照光との干渉波形を測定する受光手段１４と、によって構成されている。測定対象である測定物１５は、厚さ８００μｍのＳｉ基板である。分散補償素子１２は、厚さ７８０μｍのＳｉ基板である。つまり、分散補償素子１２は、測定物１５と同一の材料であり、測定物１５よりも２０μｍ薄い。測定物１５裏面と分散補償素子１２裏面での反射による干渉は、波長分散がほぼ打ち消されるためピーク幅が狭く、ピーク位置の測定精度が向上する。その結果、温度等の測定精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】サンプルに形成された薄膜の除去工程中に該薄膜に関する情報を、渦電流プローブを使用して実状態で取得する方法を開示する。
【解決手段】渦電流プローブに検出コイルを設ける。渦電流プローブの検出コイルに交流電圧を印加する。渦電流プルーブの検出コイルがサンプルの薄膜に近接したときには、該検出コイルで第１の信号を測定する。該検出コイルが、既知の組成を有しおよび／または該コイルから離れて設けられた基準部材に近接する位置にあるときには、該検出コイルで第２の信号を測定する。第１の信号に含まれる利得及び／又は位相の歪みを第２の信号に基づいて校正する。校正した第１の信号に基づいて薄膜の特性値を決定する。上述の方法を実行する装置を更に開示する。加えて、研磨剤でサンプルを研磨し、このサンプルを監視する化学機械研磨（ＣＭＰ）システムを開示する。このＣＭＰシステムは、研磨テーブルと、研磨テーブル上でサンプルを保持する構成であるサンプルキャリヤと、渦電流プローブとを含む。 （もっと読む）

【課題】部品の表面上におけるアルミナ層の存在を確認する方法を提供する。
【解決手段】部品の表面を適切な波長における放射線で照明し、該部品の該表面上にある任意のアルミナにおける電子を通常エネルギー状態から高エネルギー状態に励起する工程と、該部品の該表面上にある任意のアルミナにおける該高エネルギー状態から該通常エネルギー状態に戻る電子により特定の波長で放射される放射線を検出、分析し、該部品の該表面上にある少なくとも一点における該アルミナの厚さを測定する工程と、該部品の該表面上にある該少なくとも一点で測定した該アルミナの厚さを、該部品の該表面上にある該点で予め決められたアルミナの厚さと比較し、該部品の該表面上における該少なくとも一点における該アルミナの厚さが十分であるか否かを決定する工程を含んでなる、方法。 （もっと読む）

【課題】 膜濾過工程用現場検出分析装置の提供。
【解決手段】 本発明は光感知装置と駆動装置とデータ処理装置とを備えた膜濾過工程用現場検出分析装置開示する。前記光感知装置は線形の第一アレイに配列される複数の感知素子を含有して、線形の位置にケーキ層の厚み変化に関する信号を検出する。前記駆動装置は前記光感知装置は少なくとも一つの局部平面にケーキ層の厚み変化を検出できるように、前記ケーキ層上に平行に前記濾材と前記光感知装置との相対的移動ことができるように前記光感知装置を駆動する。前記データ処理装置は前記光感知装置を接続し、前記光感知装置から検出され前記信号を連続的に処理と分析する、さらにすぐにこの膜濾過工程中に少なくとも一つの局部平面にケーキ層の厚み変化を算出する。 （もっと読む）

【課題】光学システムにおいて、位相および振幅情報を含む波面分析、ならびに３Ｄ測定を実行する方法および装置、特に、光学システムの画像面のような、中間面の出力の分析に基づく方法および装置を提供する。
【解決手段】 薄膜コーティング、または多層構造の個々の層が存在する表面トポグラフィの測定について記載する。多重波長分析を、位相および振幅マッピングと組み合わせて利用する。マクスウェルの方程式の解に基づき、仮想波面伝搬を用いて、波面伝搬および再合焦によって位相および表面トポグラフィの測定を改良する方法について記載する。このような位相操作方法によって、または広帯域およびコヒーレント光源の組み合わせを利用する方法によって、光学撮像システムにおいてコヒーレント・ノイズの低減を達成する。本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または１回のショット撮像における３Ｄ撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 （もっと読む）

【課題】管内スケールがポーラスなスケールの場合であってもスケールの高精度な計測を可能とし、かつスケールの厚さも正確に計測可能とした管内スケール計測装置及び計測方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ボイラ管１０１の内部に回転可能に設けられた回転体１と、回転体１の内側に設置されて該回転体を回転するモータ３と、回転体１の外周に設けられて該回転体とともに回転する機器台板１０と、該機器台板１０上に取り付けられてボイラ管１０１の内周のスケール付着部１０１ｂに向けてレーザ光を発振する発信器１１と、スケール付着部１０１ｂに向けて発振されたレーザ光３３の反射波を受信する受信器１３と、回転体１及び機器台板１０を管軸方向に移動せしめる軸方向移動機構を備え、発信器１１及び受信器１３を機器台板１０及び回転体１とともにボイラ管１０１の中心軸周りに回転可能に設置したことを特徴とする。 （もっと読む）