【課題】反射画像の輝度を適切な輝度に調整することができ、被計測物の三次元形状を正確に計測することが可能な三次元形状計測装置を提供すること。
【解決手段】三次元形状計測装置１００は、輝度が正弦波状に変化する縞状の光パターンを異なる位相で複数回、被計測物に投影する投影手段１０と、光パターンが投影された被計測物の反射画像を撮像する撮像手段２０と、被計測物の反射画像を基に、被計測物の三次元座標を計測する計測手段３１と、を有し、光パターンを被計測物に投影する前に、投影手段１０より所定の光を被計測物に投影し、所定の光が投影された被計測物の反射画像における各画素の輝度階調値と、所定の光の輝度階調値と、を基に、被計測物の光の最大反射率を算出する反射率算出手段３２と、最大反射率に応じて、撮像手段２０が受光する受光量を調整する調整手段３３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スリットレーザ光等を、回転体状の測定対象に照射し、測定対象からの反射光を撮影した二次元画像に基づいて、回転体状かつ表面が高い反射率を有する測定対象の欠陥を高精度に検出する欠陥検査装置を実現することを目的とする。
【解決手段】本発明は、回転または直線移動する測定対象にスリット光を照射する光源と、前記測定対象からの反射光を受光してその二次元画像を出力する受光部と、前記二次元画像に基づいて、前記反射光がそのスリット幅に相当する領域以外の領域に現れるか否かによって、前記測定対象の欠陥を検出する欠陥検出手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】三次元計測を行うにあたり、より高精度な計測をより短時間で実現することのできる三次元計測装置及び基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置は、プリント基板に対し光を照射する照明装置と、プリント基板上の前記照射された部分を撮像するＣＣＤカメラと、各種制御を行う制御装置とを備えている。そして、検査対象領域が輝度飽和しない第１露光時間で第１撮像処理を行い、計測基準領域の計測に適した所定の露光時間のうち、前記第１露光時間で不足した分に相当する第２露光時間で第２撮像処理を行う。続いて、検査対象領域に関しては、第１撮像処理により得た画像データの値を用い、計測基準領域に関しては、第１撮像処理により得た画像データの値と、第２撮像処理により得た画像データの値とを合算した値を用いた三次元計測用の画像データを作成し、当該三次元計測用の画像データに基づき、三次元計測を行う。 （もっと読む）

【課題】測定対象に投影されたターゲットが検出し難い場合に、投影用ターゲット画像を補正して、再度投影できるターゲット投影装置を提供する。
【解決手段】ターゲットＴが表示された投影用ターゲット画像Ｆ１を測定対象２に投影する投影部３、投影部３から投影用ターゲット画像Ｆ１を投影して測定対象２に映されたターゲット映像Ｆ２を撮影して撮影画像Ｆ３を得る撮影部４、撮影部４で撮影された撮影画像Ｆ３からターゲットＴの特徴を検出するターゲット特徴検出部６２、撮影画像Ｆ３におけるターゲットＴの特徴に関する所定の許容条件を記憶する許容条件記憶部５４、撮影画像Ｆ３が所定の許容条件を満たすか否かを判定する許容条件判定部７、許容条件判定部７が所定の許容条件を満たさないと判定した場合には、所定の許容条件を満たすようにターゲットＴの特徴を変更して投影用ターゲット画像Ｆ１を補正する画像処理部８とを備える。 （もっと読む）

【課題】金属試料の検査面をエッチング処理して欠陥を現出させ、撮像装置によって検査面を撮像することにより欠陥を検出するに際し、検査面撮像画像における非欠陥部の明度を均一かつ明るくすることにより、欠陥部を明瞭に検出することのできる金属の欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】金属試料１の検査面２を一方向に研磨し、金属試料１にエッチング処理を行って金属試料中の欠陥を現出させ、照射光源として線状に連続した光源又は複数の点光源を線状に配置した光源（線状光源４）を用い、線状光源４の線状方向１７と研磨方向１１とを同一の方向とし、線状光源４によって研磨方向１１と直角の方向から検査面２を照射し、撮像装置３によって検査面２を撮像する。これにより、検査面撮像画像における非欠陥部の明度を均一かつ明るくし、欠陥部６を明瞭に検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】トロリ線測定用投光装置を小型でありながら十分な光量を投光できるようにする。
【解決手段】レール２１の横断方向に沿って少なくとも２列分配列された複数個の発光ダイオード群２ａ〜２ｎによって構成される単色光源を用い、２列分の各発光ダイオード群からの出射光をトロリ線２０の偏位範囲に亙ってトロリ線摺動面２０ａに集光照射する。レールの横断方向に沿って少なくとも１列分配列された複数個の発光ダイオード群２ａ〜２ｎから出射する光をコリメートレンズ６５ａ〜６５ｎで所定の拡がりを持った光に変換し、変換後の光をリニアフレネルレンズ６０でトロリ線摺動面２０ａ付近に集光ウエストを持つ光に変換してトロリ線摺動面２０ａに集光照射する。これによって、太陽光の強度との差を十分に大きくすることができ、強いレーザ光を発生する光源を用いなくても昼間の太陽光の光強度より強い反射光をトロリ線摺動面から発生させるようにした。 （もっと読む）

【課題】光学システムにおいて、位相および振幅情報を含む波面分析、ならびに３Ｄ測定を実行する方法および装置、特に、光学システムの画像面のような、中間面の出力の分析に基づく方法および装置を提供する。
【解決手段】 薄膜コーティング、または多層構造の個々の層が存在する表面トポグラフィの測定について記載する。多重波長分析を、位相および振幅マッピングと組み合わせて利用する。マクスウェルの方程式の解に基づき、仮想波面伝搬を用いて、波面伝搬および再合焦によって位相および表面トポグラフィの測定を改良する方法について記載する。このような位相操作方法によって、または広帯域およびコヒーレント光源の組み合わせを利用する方法によって、光学撮像システムにおいてコヒーレント・ノイズの低減を達成する。本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または１回のショット撮像における３Ｄ撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 （もっと読む）

【課題】被計測物体の表面に微少な面角度の変化があっても、均一な強度の反射光を得ることができる三次元計測装置を提供する。
【解決手段】被計測物体２を境とする一方側にレーザ装置１１を他方側にカメラ１２を設け、カメラ１２に画像処理装置１３を接続する。レーザ装置１１と被計測物体２間にレンチキュラレンズ７１を配設し、レンチキュラレンズ７１を透過したレーザライン光２３を被計測物体２に照射する。レンチキュラレンズ７１を、平板８１とシリンドリカルレンズアレイ８２で構成し、シリンドリカルレンズアレイ８２を、複数のシリンドリカルレンズ部８３，・・・で構成する。各シリンドリカルレンズ部８３，・・・を半円柱状に形成し、その周面を平面部８４と曲面部８５で構成する。平面部８４が平板８１に面接して固定し、各シリンドリカルレンズ部８３，・・・を幅方向に密着して並設する。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高いパターン投影を実現する。
【解決手段】計測装置と照明装置、撮像装置の位置関係を較正するキャリブレーションを行う（Ｓ１０１）。二次元パターン光の投影面内での輝度の不均一補正処理を行い（Ｓ１０２）、低下したピーク輝度を補償するための光源光量の調節を行う（Ｓ１０３）。計測対象物に二次元パターン光を投影し（Ｓ１０４）、反射された二次元パターン光を撮像装置で撮像する（Ｓ１０５）。撮像装置側の影響で生ずる二次元パターン光の輝度変化及びパターンエッジの位置ずれを、取得した二次元パターン画像に対し不均一補正処理を適用して補正する（Ｓ１０６）。補正処理した二次元パターン画像を基に、計測装置は計測対象物のそれぞれの測定点における奥行き方向の距離情報を取得して距離計測処理を行う（Ｓ１０７）。 （もっと読む）

【課題】表面に膜が形成されたウエハでも安定してアライメントマークと周辺部のコントラストが高い画像データを取得できるようにしたものを提供する。
【解決手段】照明光となる光源と前記光源からの光を物体に照射し、また反射光を集光結像する結像光学系と前記結像光学系の集光点に設置し、物体の画像を取り込むカメラと取り込んだ画像を処理する画像処理機能からなるアライメント測定装置を備えた欠陥検査装置において、画像の取り込みを少なくとも２つの異なる波長帯域の反射光において行い、それぞれの反射光に対応した物体の画像情報を適切に演算処理することによってアライメントマークのコントラストを高めるように構成する。 （もっと読む）

【課題】金属や陶磁器などの他、自動車やその部品などの光沢塗装が施されるなどして表面反射の強い計測対象物であっても、パターン光投影による三次元情報の計測を可能にする。
【解決手段】パターン光を計測対象物に直接当たらないように投影するパターン光投影装置１と、パターン光投影装置１により投影されたパターン光を反射して計測対象物Ａに投影する反射板２と、反射板２により反射されたパターン光が投影された計測対象物Ａを撮像して投影パターン画像を取得するカメラ装置３であり、レンズの光軸が反射板２により反射されたパターン光の投影方向と同一でないカメラ装置３と、投影パターン画像から計測対象物Ａの三次元情報を算出するデータ処理装置４とを含む。 （もっと読む）

【課題】生体試料の三次元形状を高精度に測定することが可能な構成の形状測定方法、画像処理プログラム、観察装置を提供する。
【解決手段】生体試料たる受精卵とこの受精卵の像を結像する第１観察光学系との光学的距離を変化させながら第１撮像装置により受精卵を一方側から順次撮影した複数の第１画像と、受精卵とこの受精卵の像を結像する第２観察光学系との光学的距離を変化させながら第２撮像装置により受精卵を他方側から順次撮影した複数の第２画像とを取得し、複数の第１画像及び第２画像に基づいて合焦測度を画素単位で算出し、受精卵の一方側の領域については第１画像より得られた合焦測度情報を優先適用し、受精卵の他方側の領域については第２画像より得られた合焦測度情報を優先適用して各画素の合焦点を求め、合焦点位置に基づいて受精卵の三次元形状を構築する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被測定基材の物性値を変えることなしに、かつ、非接触で微小変位を測定可能とする基材、この基材の微小変位測定方法および測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基材３の表面を観察する場合の所定の視野の大きさに対して、１／１０００〜１／１００程度の大きさの粒子が溶媒に分散した懸濁液を用いて形成された明暗のコントラストを有した所定のランダムパターン４が基材３の表面に付与されたランダムパターン付き基材に加熱または冷却により微小変形を与える微小変形付与手段を収容する容器１と、この微小変形付与手段により基材３に生じさせた微小変位をデジタル画像相関法により求めるための画像処理システム（５、６、７、８、９、１０）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 干渉光の強度のピーク及びコントラストを最適化し、高速かつ高精度に被測定物の表面位置を測定できる測定装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、光源から出射され分岐された光のうちの、参照面で反射された参照光と被測定物の表面で反射された測定光とによる干渉光の強度に基づいて前記被測定物の表面位置を測定する測定装置であって、測定光の光量を検出する検出部と、参照光の光量と前記検出部により検出された測定光の光量とに基づいて算出される干渉光の強度が目標範囲に入るように前記光源の光量を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】照明手段を備えた二次元測定機において、測定物を常に高コントラストで撮像できるようにするとともに、常に充分な光量を得ることできるようにする。
【解決手段】測定物（１）を拡大する顕微鏡（５）と、測定物を照明する照明手段（１１）とを備えた二次元測定装置において、照明手段は、それぞれ異なる波長（λ_１、λ_２、λ_３、λ_４、λ_５）の光（１４）を出射する複数のＬＥＤ照明（１２）を備えており、複数のＬＥＤ照明のうちから選択した１つのＬＥＤ照明から出射された光（１４）が、コリメータレンズ（１３）で平行光線とされ、顕微鏡内に配置された半透明プリズム（１６）で測定個所（２０）に向けて反射される。 （もっと読む）

【課題】被測定物が移動する等の測定条件に対する設計制約が小さく、被測定物の定量的な表面歪分布を高速かつ高精度に求めることができる表面歪の測定装置及び測定方法を提供する。
【解決手段】線状拡散光を被測定物１に対して発生する線状光発生手段２と、被測定物１の表面における前記線状拡散光の鏡像を撮影する撮像手段３と、線状光発生手段２及び撮像手段３に対する被測定物１の相対的な位置を変化可能な移動手段４と、撮像手段３によって得られる線状光発生手段２及び撮像手段３と被測定物１との経時的な相対位置の変化に基づく鏡像を画像処理して被測定物１の表面の歪分布を演算する表面歪分布演算手段１０とを備えた。 （もっと読む）

【課題】形状の変化幅が数μｍを超えるような被検面を短時間で測定することが可能で、かつ装置構成が簡易なミロー型干渉計装置を得る。
【解決手段】光源部１０は、その出力光の可干渉距離が５０μｍ以上１０００μｍ以下となる中コヒーレント光源が用いられる。また、参照ミラー１４は、光透過率が８０％以上９８％以下となるように形成されている。さらに、ビームスプリッタ１６の光軸Ｚ方向の厚みｔ_Ｂが、上記出力光の可干渉距離の２分の１よりも大となるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】エアギャップ画像と透明部材画像との間のコントラストを改善して、エアギャップを高精度で測定できるエアギャップ測定装置を提供する。
【解決手段】エアギャップ測定装置は、測定対象物ＯＢＪが、対向配置された一対の透明部材の間のエアギャップであって、前記一対の透明部材を前記エアギャップの厚さ方向に交差する方向から拡散光で照明するための面発光光源１０と、面発光光源１０と透明部材との間に設けられ、開口形状が可変である絞り部材２０と、透明部材およびエアギャップの透過画像を撮像するための撮像ユニット３０などで構成され、さらに撮像ユニット３０を光軸方向に位置決めするためのＺステージ４０を備え、撮像ユニット３０を光軸方向にスキャンして得られた複数の画像を合成する。 （もっと読む）

【課題】導体パターンの検査と、導体パターンから露出する絶縁層の上に存在する異物の検査とを、容易かつ同時に実施することのできる、配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ベース絶縁層２と、その上に形成される導体パターン３とを備える配線回路基板１を用意し、配線回路基板１を、支持台４の上に配置し、光１０を、配線回路基板１の上側から配線回路基板１に向けて照射することにより、パターン反射光７と台反射光８と異物反射光９とを検知して、それらの間のコントラストによって、導体パターン３および異物１１を検査する。この検査工程において、台反射光８の反射率を３０〜７０％に調整し、異物反射光９の反射率を１０％以下に調整する。 （もっと読む）

【課題】対象物に備えられた点光源を撮影し、撮影された画像における点光源の位置を高精度に計測することで、対象物の位置計測を高精度に行うことができる位置計測装置等を提供する。
【解決手段】対象物１００に設けられた３点の第１基準点１１〜１３と１点の第２基準点１４からなる点光源の像を撮影するカメラ３０と、カメラ３０により撮影された第１基準点１１〜１３の像と第２基準点１４の像とを識別し、第１基準点１１〜１３の位置関係を取得し、取得された第１基準点１１〜１３の位置関係と識別された第１基準点１１〜１３の像の位置関係から第２基準点１４の対象物１００における位置を求め第１基準点１１〜１３および第２基準点１４の位置関係より対象物１００の位置を求める演算装置４０と、を備えることを特徴とする位置計測装置３００。 （もっと読む）