【課題】光制御板に形成された凹凸形状を簡易に評価することが可能な形状評価方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状13が形成された第１の面11と当該第１の面11と反対側に位置する第２の面12とを有し、凹凸形状13が第１の方向11に延在しているサンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する形状評価方法は、第１の面11から光を入射した場合の第１の全光線透過率Tt1及び第２の面12から光を入射した場合の第２の全光線透過率Tt2の少なくとも一方を用いて規定される指標を凹凸形状13を表す指標とし、サンプル光制御板1に対して、第１及び第２の全光線透過率Tt1，Tt2の少なくとも一方を測定して上記指標を取得する取得工程と、凹凸形状が既知の基準光制御板に対して予め取得した指標と凹凸形状との相関関係に基づき、取得工程で取得した上記指標から、サンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する評価工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】物体表面の角度の検出感度を向上させることができると共に、計測装置から物体表面までの計測距離に依存することなく精密に物体表面の角度を計測することができる表面角度計測方法及び表面角度計測装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
計測対象２の表面に計測光を照射すると共に、当該計測対象２で反射した計測反射光を受光することで計測対象２の表面の傾斜角度を計測する表面角度計測装置１において、計測反射光を金属薄膜１１で受光すると共に、金属薄膜１１で表面プラズモン共鳴を生じさせるプラズモンフィルタ部９を備える。さらに、その表面プラズモン共鳴が生じた金属薄膜１１からの反射光の強度を計測する強度検出部１５と、強度検出部１５で計測された反射光の強度を基に、計測対象２の表面の傾斜角度を算出する傾斜角度算出手段を有する演算部４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】単一ビームや単針を走査する方法と比べて短時間にパターンを検査することができるパターン形成部材の検査方法及び装置、並びにパターン形成部材を提供する。
【解決手段】被転写材料に転写すべきパターン３とプラズモン共鳴構造体４とを有するパターン形成部材１を準備し、プラズモン共鳴構造体４に光を照射してプラズモン共鳴構造体４のプラズモン共鳴の吸収特性を計測し、吸収特性に基づいてパターン３を検査する。 （もっと読む）

【課題】測定光のプリズムへの入光・出光損失を低減させ、角度センサの検出精度を向上させること。
【解決手段】角度センサ１は、断面二等辺三角形の三角柱形状のプリズム２を備える。入射面２Ａと出射面２Ｂによって規定されるプリズム２の頂角θｐは、プリズムの屈折率をｎ_ｐｒｉ、空気の屈折率をｎ_ａｉｒとすると、以下の関係式（３）を満たす角度である。
θｐ＝２×（９０−（ｓｉｎ^−１（ｎ_ａｉｒ／ｎ_ｐｒｉ）））・・・（３）
プリズム素材がＢＫ７（屈折率ｎ_ｐｒｉ＝１．５１６３）であるとき、θｐの適正値は９７．４５〜９８の範囲内である。プリズム２の入射面２Ａから測定光Ｌを入光し、境界面２Ｃで反射光Ｌｒと透過光Ｌｔに分離する。出射面２Ｂから出射する反射光Ｌｒと境界面２Ｃから出射する透過光Ｌｔを受光部３ｒ、３ｔにより検出し、受光部３ｒ、３ｔの差動出力に基づき、測定光Ｌの角度を検出する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スリットレーザ光等を、回転体状の測定対象に照射し、測定対象からの反射光を撮影した二次元画像に基づいて、回転体状かつ表面が高い反射率を有する測定対象の欠陥を高精度に検出する欠陥検査装置を実現することを目的とする。
【解決手段】本発明は、回転または直線移動する測定対象にスリット光を照射する光源と、前記測定対象からの反射光を受光してその二次元画像を出力する受光部と、前記二次元画像に基づいて、前記反射光がそのスリット幅に相当する領域以外の領域に現れるか否かによって、前記測定対象の欠陥を検出する欠陥検出手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精度に膜厚を測定することを可能にした膜厚測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】分光スペクトル情報を信号処理して膜厚を推定する膜厚測定方法において、
検量線作成用分光スペクトル情報を基底分解し、その基底に掛かる第１の係数を分光スペクトル情報の代表値として求め、第１の係数と分光スペクトル情報に対応した膜厚データとから重回帰係数を求める工程と、測定対象物の分光スペクトル情報と基底とに基づいて基底に掛かる第２の係数を求め、第２の係数と重回帰係数とに基づいて測定対象物の膜厚を推定する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】オフセット量を正確かつ容易に取得する。
【解決手段】第１の位置情報に基づいて特定される位置Ｏｂ上にビーム照射部が位置するように移動させた後に、照射部をＸ方向（矢印Ａ１，Ａ２の向き）に移動させながらレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化、およびＹ方向（矢印Ｂ１，Ｂ２の向き）に移動させながら照射させたときの反射光量の変化に基づいてマーク２１の位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得すると共に、位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と、第２の位置情報とに基づいて基板保持機構によって保持されているオフセット量取得用基板におけるマーク２１の位置Ｍｂを特定し、位置Ｍｂ，ＯｂのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂを、照射部のＸ方向に沿った移動量、およびＹ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量として特定する。 （もっと読む）

【課題】タイヤ半径を高精度に測定する。
【解決手段】シート状の第１の磁石１１、第２の磁石２１をトレッド部２の内周面側に貼り付け、第１の磁気検出素子１２、第２の磁気検出素子２２を、磁石１１、２１と対向させてリムウェル部４に設ける。磁気検出素子１２、２２毎にその測定値について、変位が生じる前の、出荷時等といった基準状態における基準測定値Ｍｒ１、Ｍｒ２に対する測定値の変位を演算する。変位が最大となる測定値は、接地面からの影響を受けている可能性があると判断し、この測定値を除く他の測定値のみを、トレッド部２とリムウェル部４の間の距離を表すタイヤ半径相当値ＲＲとし、このタイヤ半径相当値ＲＲに、タイヤ中心からリムウェル部４までの距離などを表す予め検出した定数を加算してタイヤ半径Ｒを演算する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも裏側に高濃度ドープ層を有するシリコンウエハの厚さを測定する装置を提供する。
【解決手段】装置３４は，複数波長のコーヒレントな光を放射する光源２を有する。また，本装置は，シリコンウエハと非接触に配置され，シリコンウエハの少なくとも一部を複数波長のコーヒレントな光によって照射し，シリコンウエハからの反射光の少なくとも一部を受光する測定ヘッド３を含む。さらに，本装置は，分光器５，ビームスプリッター，及び評価装置６を含む。評価装置は，シリコンウエハからの反射光を，光コーヒレンストモグラフィー法により分析することで，シリコンウエハの厚さを測定する。コーヒレントな光は，中央波長Ｗ_Ｃを有する帯域幅ｂの複数波長で放射される。シリコンウエハの高濃度ドープ層の光吸収率を最少とする波長は，帯域幅ｂ内に存在する範囲である。 （もっと読む）

【課題】管内スケールがポーラスなスケールの場合であってもスケールの高精度な計測を可能とし、かつスケールの厚さも正確に計測可能とした管内スケール計測装置及び計測方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ボイラ管１０１の内部に回転可能に設けられた回転体１と、回転体１の内側に設置されて該回転体を回転するモータ３と、回転体１の外周に設けられて該回転体とともに回転する機器台板１０と、該機器台板１０上に取り付けられてボイラ管１０１の内周のスケール付着部１０１ｂに向けてレーザ光を発振する発信器１１と、スケール付着部１０１ｂに向けて発振されたレーザ光３３の反射波を受信する受信器１３と、回転体１及び機器台板１０を管軸方向に移動せしめる軸方向移動機構を備え、発信器１１及び受信器１３を機器台板１０及び回転体１とともにボイラ管１０１の中心軸周りに回転可能に設置したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】植生の内外で同時測定する必要がなく、年間を通して連続して安定した測定を行うことができ、安価で小型、軽量で出力が大きい光学的植生指数センサを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の光学的植生指数センサは、葉又は葉群を透過した透過放射を受光すると、４００ｎｍ〜７００ｎｍの放射に対して分光特性の補正を行い、光電変換して光合成有効放射度または光合成光量子束密度の何れかを示すＰＡＲ出力として出力するＰＡＲセンサ２と、受光した放射に対して７００ｎｍ〜１０００ｎｍの放射を取出し、光電変換してＰＡＲ出力と共通する単位の放射度または光量子束密度の何れかを示すＩＲ出力を出力できるＩＲセンサ３と、ＩＲ出力の積算値をＰＡＲ出力の積算値で割って比を算出し、該比に対応した葉面積指数を求める演算部５を備えたことを主な特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被記録媒体の移動方向と直行する被記録媒体の幅と幅方向に沿った厚さとが均一でない被記録媒体であっても、良好な転写性を得ることができる被記録媒体検出装置、画像形成装置、及び画像形成方法を提供する。
【解決手段】光源と、光源からの光を被記録媒体上に搬送方向と垂直な方向に偏向走査する走査光学段と、被記録媒体を透過した光を受光して電気信号に変換する変換手段と、変換手段からの電気信号に基づいて被記録媒体の厚さ及び幅を検出する検出手段と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】
周期構造物の構造を早くかつ正確に把握する方法を提供する。
【解決手段】
仮想周期構造物を設定して、前記設定された仮想周期構造物を多数の層に分けて、リープマン−シュウィンガー積分方程式をＭ次内挿法で離散化させて前記仮想周期構造物に対する反射率または透過率に対する物理量を計算する工程を含む、周期構造物分析方法に対するもので、Ｍ次内挿法を用いてより早い時間内により正確な非破壊検査ができる。 （もっと読む）

本発明は、基材（２）上に被覆されたコーティング層（７）の厚みを測定する装置及び方法に関する。基材（２）上のコーティング層（７）の厚みは、コーティングローラー（３）上のコーティング層（４，８）の厚みが該コーティングからコーティングローラー（３）から基材（２）へ転写される前後に測定されることによって間接的に測定される。コーティングローラー（３）上のコーティング層（４，８）の厚みを測定するために、２つのセンサー（９，１０）がコーティングローラー（３）上の各々の層（４，８）に向けられて使用される。センサー（９，１０）はＩＲ放射器とＩＲ検知器とを備えている。
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【課題】光の解像限界以下のパターンを含む基板を高速に検査することが可能な基板表面のパターン検査装置を提供する。
【解決手段】基板表面のパターン検査装置において、微細な繰り返しパターンを有する近接場光ヘッド１０１と、近接場光ヘッド１０１と被検査基板９００とを相対的に走査させるθ駆動部３１１と、近接場光ヘッド１０１と被検査基板９００との間隙を一定に保つ間隙保持機構と、近接場光ヘッド１０１に光を照射する光源１１０と、近接場光ヘッド１０１上の微細な繰り返しパターンと被検査基板９００の表面の微細パターンとの相互作用によって生じた散乱光強度を検出する検出系２０１と、検出系２０１の出力に基づいて、被検査基板９００上の微細パターンを検査する信号処理部３２１とを備えた。 （もっと読む）

【課題】実際の露光条件を適用したときに、多階調フォトマスクが形成する空間像を推測し、多階調フォトマスクを評価することができる多階調フォトマスクの検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明の多階調フォトマスクの検査方法は、透明基板上に透光領域、遮光領域、及び半透光領域を含む転写パターンを備えた多階調フォトマスクの検査方法において、前記転写パターンの解像画像を取得し、前記解像画像に処理を施すことによって、前記転写パターンに所定の露光条件を適用したときに形成される空間像を得て、前記空間像により、前記転写パターンの実効透過率分布を得、実効透過率分布に基づいて評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フィルムロールの状態のままフィルムの平面性を非接触で且つ瞬時に検査できるフィルムの平面性検査装置および当該検査装置を使用した平面性検査方法を提供する。
【解決手段】平面性検査装置は、フィルムロール８の外周部を走査する走査装置１と、当該走査装置から得られた信号を処理する演算処理装置５とから成る。走査装置１は、レーザー光を照射する発光部２と、遮られなかったレーザー光を受光する受光部３と、受光した光量Ｆｚに応じて数値化信号を出力する信号変換素子４とを含み、かつ、フィルムロール８に対してその軸線と平行に且つ幅方向に沿って相対的に移動可能に構成される。演算処理装置５は、フィルムロール８の外径値およびそれらの平均値を演算し、各外径値と平均値との差を変位量として演算し、正の最大変位量を抽出する。平面性検査方法においては、正の最大変位量と予め設定された基準値とを比較してフィルムの良否を判別する。 （もっと読む）

この発明は、光信号に基づく検出器表面に関するものであり、フレキシブルなエンベロープとして本体の周りに配置され、発光器からの光が本体に当ったか否か、本体のどこに当ったかを検出する。検出器表面は、一つあるいは複数の平面型の光導波路（１．１）を具えており、平面型の光導波路の少なくとも一つの層（１．２）は光輝特性を有し、光検出器が平面型の光導波路に取り付けられており、光導波路からの光を取り込んで検出できる。平面型の光導波路（１）は、厚さが３０乃至５００マイクロメートルの透明なポリマー製膜として作られており、光検出器（２）は、光導波路（１）の全てのエッジ部分から間隔を空けて取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】少ない情報量で単純に画像処理することができ、簡易かつ迅速に欠陥を検出する欠陥検出方法、欠陥検出装置、これらを用いたフィルムの製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】（１）検査対象物を撮像する工程と、（２）前記（１）の工程で得られた画像信号から複数の特徴信号を得る工程、（３）前記特徴信号のうちのいずれか１以上の強度が、特徴信号ごとに予め設定された閾値を超えている部位を欠陥と特定する工程と、（４）前記欠陥と特定した部位の各特徴信号のピーク値が、前記各特徴信号ごとに予め設定された閾値を超えているか否かに基づいて２値化して、前記欠陥と特定した部位ごとにビットパターンを得る工程と、（５）前記ビットパターンに基づいて、前記欠陥を分類する工程と、を含む、欠陥検出方法。 （もっと読む）

【課題】液体の蒸発に無関係な微量液滴の体積の測定を、精度良くかつ正確に実現する。
【解決手段】基板上に複数の空間を形成し、前記空間の一部に標識物質を含む測定用液体を分注するとともに、他の一部の空間に標識物質のみの液体を入れ、前記分注した測定用液体中の標識物質の物性を検出するとともに、標識物質のみの液体の物性を検出し、両検出値により分注後の測定用液体の体積を測定する。前記空間は前記基板とは別体に形成した隔壁の上下に貫通する複数の通孔とし、開口上下端の周囲に形成した溝にはＯリングを設ける。また、前記空間の一部を液体を入れない空間とし、前記標準物質の液体の物性検出時の参照用空間として用いる。また、隔壁の空間を密封する蓋を備え、標準物質のみを入れる空間には標準物質を全て充填して蓋により密封して光路長を規定しても良い。 （もっと読む）