【課題】特徴の認識性能を向上する。
【解決手段】計測用パターンと特徴パターンとを有するパターンを被写体へ投影する投影部と、パターンが投影された被写体を撮像する撮像部と、パターンにおける計測用パターンと、投影部と撮像部との位置関係に基づいて決定される複数のエピポーラ線とによって、撮像部により撮像された画像を複数の領域に分割して、分割された複数の領域のうち所定の領域をグループ化するグループ化部と、所定の領域のそれぞれにおける特徴パターンの差異に基づいて当該特徴パターンを認識する特徴認識部と、特徴認識部により認識された特徴パターンに基づいて被写体の三次元形状を算出する三次元形状算出部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】対象物の奥行方向に対する計測精度の低下を抑制し、計測空間全域において良好な計測精度を得る。
【解決手段】計測空間への投影動作を実行する投影部と、投影動作が実行された計測空間中の対象物を撮影する撮影部と、撮影された画像に基づいて対象物の三次元形状を計測する計測部と、を備え、計測空間は、撮影部の撮影光学系のフォーカス位置の基準となる計測基準面を含み、且つ投影部の投影範囲と撮影部の撮影範囲とに基づいて規定されており、フォーカス位置は、撮影部から観察した場合に計測基準面の位置よりも奥に設定されている。 （もっと読む）

【課題】可及的にワークの移動が自由であり、後工程の作業の妨げともなりにくい簡易な構成のワーク位置の検出装置を提供する。
【解決手段】検出光(40)を投光する投光部(10)と、検出光を受光する受光部(20)と、投光部と受光部を所定の位置関係に保つ支持手段(30)と、を備え、受光部が一次元又は二次元に配置された複数の受光素子を含み、上記支持手段が、投光部と受光部との間に設けられる検出基準面に対して検出光(40)が斜めになるように投光部と受光部の位置を保持する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、被験者の視線を推定・追跡することで、評価対象印刷物の掲載情報または陳列棚の商品の注目度を分析評価するシステムを提供することである。
【解決手段】
メガネを通して見るシーン画像とシーン画像上の注視点座標を視線分析装置に送信する視線追跡メガネと、基準画像および基準画像の分割画像の、特徴点の座標と特徴量を記憶する手段と、視線追跡メガネからシーン画像と注視点座標を受信する手段と、シーン画像の特徴点の特徴量と分割画像の特徴点の特徴量とに基づき最も類似度評価の高い特徴点を組み合せる手段と、最も多い組合せ個数を持つ分割画像の特徴点の座標とシーン画像の特徴点の座標に基づいて座標変換行列を算出する手段と、座標変換行列とシーン画像上の注視点座標から算出した分割画像上の注視点座標を、基準画像に変換して注視点マークを合成する手段と、を備える視線分析装置と、特徴とする視線計測システムである。 （もっと読む）

【課題】高感度の分光散乱計を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上の回折構造体からの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計または分光エリプソメータを使って構造体の下に位置する膜の膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体を測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。この署名をデータベース内の署名と適合させて構造体の格子型パラメータを判定する。 （もっと読む）

【課題】より小型または簡単な構成で、より精度よく、半導体ウェハの表面に存在するソーマークの検出又は大きさの測定を行うことが可能な技術を提供する。
【解決手段】半導体ウェハＷの表面に対して斜め方向から、入射面において平行光である光を照射し、ラインセンサカメラ３、４で半導体ウェハＷの表面におけるライン状の領域３ａを撮影する。このことで、半導体ウェハＷの表面からの照射光の反射光または散乱光を検出し、この強度に基づいて、半導体ウェハＷの表面における線状の凹凸を検出し、またはその大きさを測定する。光源装置１、２によって、ラインセンサカメラ３、４によって撮影されるライン状の領域３ａのラインに平行な方向から光を照射し、線状の凹凸の方向がラインの方向に直交するように配置された状態で、半導体ウェハＷの線状の凹凸を検出し、またはその大きさを測定する。 （もっと読む）

【課題】老朽化したコークス炉における炭化室の炉壁の変形状態（壁面の凹凸、窯幅の変化）を、炭化室内部に測定装置を入れることなく、炭化室外部から簡便に精度良く測定することができるコークス炉の炉壁診断方法およびコークス炉の炉壁補修方法を提供する。
【解決手段】炭化室１０の外側にレーザー式３次元形状測定装置２０を配置し、レーザー式３次元形状測定装置２０によって、蓋１２をとった状態の窯口１１から斜めにレーザー２１を照射して、炉壁（壁面）１３の形状を点群として測定する工程を、炭化室１０の左右の壁面１３ａ、１３ｂに対して独立して実施した後、左右を独立して測定した壁面の形状を、炭化室１０周辺の基準物２２を元に合成して、一つの形状データ（点群）にまとめて左右合成炉壁形状とし、その左右合成炉壁形状から左右の壁面間の距離（窯幅）を計算して、炉壁形状（壁面の凹凸、窯幅の変化）の診断を行う。 （もっと読む）

【課題】正確に調整可能な形状計測装置を提供する。
【解決手段】第１の光を発する第１の発光部１１、及び第２の光を発する第２の発光部１２と、第１の光及び第２の光を受ける格子３と、平坦な基板が配置されるステージ１４と、格子３を透過した第１の光を第１の入射角で基板表面に入射させ、格子３を透過した第２の光を第２の入射角で基板表面に入射させる投影光学系５と、第１の光による基板表面の格子３の第１の変形像、及び第２の光による基板表面の格子３の第２の変形像に基づき、基板表面の高さ方向の位置を算出する高さ算出部と、基板表面の高さ方向の位置が投影光学系５の焦点位置と一致するよう、ステージ１４を移動させる移動装置１５と、を備える、形状計測装置。 （もっと読む）

【課題】被測定対象物のレーザスペックル画像を得る装置において、被測定対象物の材質などに起因するスペックル画像の画質低下を可及的に抑制する。
【解決手段】被測定対象物(20)表面の観察領域(21)に向けてコヒーレント光を投光する投光部(10)と、被測定対象物表面の観察領域で拡散反射した上記コヒーレント光を受光する受光部(30)と、被測定対象物表面から受光部以外の方向に伝播するコヒーレント光を被測定対象物表面の観察領域に戻す反射部(41)と、受光部における受光状態に基づいて被測定対象物の状態を検出する検知部(50)と、を備える。 （もっと読む）

【課題】屈折率が未知の誘電体薄膜の膜厚を正確に測定することができる膜厚測定装置および膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】膜厚測定装置は、第１の反射干渉光および第２の反射干渉光のそれぞれについて第１の波長分布および第２の波長分布を生成する波長分布生成部７２と、第１の波長分布および第２の波長分布にもとづいて、それぞれ第１の入射角に対応する第１の光路差および第２の入射角に対応する第２の光路差を求める光路差算出部７３と、入射角、膜厚および屈折率を変数とした関数として光路差を表した式を用いて、第１の入射角および第２の入射角ならびに光路差算出部７３に算出された第１の光路差および第２の光路差を式に代入することにより、薄膜の膜厚および屈折率を求める膜厚屈折率算出部７４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】透明性基板上に形成された不透明なデバイスパターンを観察像において明確に識別することができる観察方法、および観察装置を提供する。
【解決手段】デバイスパターン３が形成されている側に粘着シート４を貼り付けたうえで透明なステージ７に固定し、ステージ７の上方から同軸透過照明光Ｌ１と斜光透過照明光Ｌ２とを重畳的に照射するとともに、ステージ７の下方側からステージ７を介して裏面観察手段６で観察することで、観察像においては、デバイスパターン３に対応して、暗い（黒色の）デバイスパターン像が観察され、デバイスパターン像ＩＰ１以外の部分は明るく観察される。また、気泡５に対応する部分ＩＢ１についても十分に明るく観察される。これにより、観察像においてデバイスパターン３の形状を明確に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】低いコストで、広い高さ範囲を高精度に計測可能な形状計測装置を提供する。
【解決手段】第１の光を発する第１の発光部１１、及び第２の光を発する第２の発光部１２と、第１の光及び第２の光を受ける格子３と、測定物４が配置されるステージ１４と、格子３を透過した第１の光、及び格子３を透過した第２の光の両方が透過する投影光学系５であって、第１の光を第１の入射角で測定物４表面に入射させ、第２の光を第２の入射角で測定物４表面に入射させる投影光学系５と、第１の光による測定物４表面の格子３の第１の変形像、及び第２の光による測定物４表面の格子３の第２の変形像に基づき、測定物４表面の高さの分布を算出する高さ分布算出部と、を備える、形状計測装置。 （もっと読む）

【課題】原稿の厚みに影響されず安定して原稿の画像を読み取ることができる画像読取システム、原稿サイズ検出装置、及び原稿サイズ検出方法、並びに画像読取方法を提供する。
【解決手段】原稿の画像を読み取る画像読取装置と、画像読取装置を制御する制御装置とを備えた画像読取システムであって、原稿を搬送路に沿って搬送する搬送手段と、搬送路の途中に設けられ且つ原稿の厚みに応じて搬送路から離れる方向に移動可能に設けられ、搬送路に沿って搬送される原稿の画像を読み取る画像読取手段と、画像読取手段で読み取った原稿の画像データに所定の処理を施す画像処理手段と、原稿の厚みを判別する原稿の厚さ判別手段と、原稿の厚さ判別手段による判別結果に基づいて、画像読取手段による原稿の読取条件、又は画像処理手段による原稿の画像処理条件を変更する変更手段とを備え、原稿の厚みに影響されず安定して原稿の画像を読み取るようにした。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で、数十ナノラジアン以下の微小角変位を測定可能な微小角変位測定方法と装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源１２と、レーザ光源１２からのレーザ光Ｌを収束又は発散させるレンズ１８と、レーザ光Ｌを分岐させる偏光ビームスプリッタ２０と１／４波長板２２を有する。測定対象面２４で反射したレーザ光Ｌが、臨界角直前の角度で臨界面２６ａに入射する臨界角プリズム２６を備える。臨界角プリズム２６の臨界面２６ａで反射したレーザ光Ｌが入射する一方の画像センサ３０と、臨界角プリズム２６の臨界面２６ａを透過したレーザ光Ｌが入射する他方の画像センサ３２とを備える。各画像センサ３０，３２の各画素の出力を基に、測定対象面２４の微小角変位を演算する微小角変位演算手段であるコンピュータ３４を備える。臨界角プリズム２６に入射するレーザ光Ｌを分割するビームスプリッタを設けても良い。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対して光ビームを照射して描画する描画装置およびその焦点調整方法において、収束光学系の経時変化に対応することができ、しかも描画時の基板表面に収束光学系の焦点位置を適正に調整することのできる技術を提供する。
【解決手段】観察光学系８０のダミー基板８０１と観察用カメラ８０３とを一体的に昇降可能とする。ダミー基板８０１の上面８０１ａをステージ１０上の基板Ｗの表面Ｓと略同一の高さに設定し、観察用カメラ８０３により観察されるダミー基板上面８０１ａでの描画光学像が最も小さくなるように、光学ヘッド４０ａのフォーカシングレンズ４３１の位置を調整する。このときの光学ヘッド４３１とダミー基板上面８０１ａとの距離を基準距離として、オートフォーカス部４４１，４４２によるオートフォーカス動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】ランダム柄を正確に計測しやすい柄計測装置を提供する。
【解決手段】凹凸型を用いてプレス成型された基材３０の凹凸柄を計測する柄計測装置に関する。前記凹凸型の三次元の加工データを記憶する加工データ記憶手段１１。前記加工データから選択された任意の特徴部ｓのデータを記憶する特徴部データ記憶手段１２。前記基材に形成された前記凹凸柄を全面計測して得られる三次元データを記憶する凹凸柄データ記憶手段１３。前記特徴部データと前記凹凸柄データとを比較することによって、前記特徴部により前記基材に形成される特徴柄が基材３０の一端からどの位置に現れるかを検出すると共に、検出された前記特徴柄の位置を基準にして前記加工データと前記凹凸柄データとを比較することによって、前記加工データと前記凹凸柄データとのズレを算出する算出手段１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】影の影響を除去し正確に位相シフト法による三次元データを高速に取得する。
【解決手段】直交する第一方向と第二方向とに撮像画素が行列状に並ぶエリアイメージセンサ１１１を有するカメラ１０１と、カメラ１０１と測定対象物２００とを第一方向に相対的かつ連続的に移動させる移動手段１０２と、第一アングルで第一周期光を照射する第一照射手段１３１と、第二アングルで第二周期光を照射する第二照射手段１３２と、第一照射時間と第二照射時間とが重ならないように制御する照射制御手段１０４と、エリアイメージセンサ１１１の複数の第一ライン１７１を用い、第一照射手段１３１が照射する際の対象部分の像を取得し、複数の第二ライン１７２を用い、第二照射手段１３２が照射する際の像を取得する像取得手段１０５とを備える。 （もっと読む）

【課題】反射面を通過した光束に発生する偏光成分による相対的な位置ずれなどの影響を実質的に受けることなく、被検面の面位置を高精度に検出することのできる面位置検出装置。
【解決手段】投射系は、第１反射面７ｂ，７ｃを有する投射側プリズム部材７を備えている。受光系は、投射側プリズム部材に対応するように配置された第２反射面８ｂ，８ｃを有する受光側プリズム部材８を備えている。第１反射面および第２反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】透明性基板上に形成された不透明なデバイスパターンを観察像において明確に識別することができる観察方法、および観察装置を提供する。
【解決手段】デバイスパターン３が形成されている側に粘着シート４を貼り付けたうえで透明なステージ７に固定し、ステージ７の上方から同軸透過照明光Ｌ１と斜光透過照明光Ｌ２とを重畳的に照射するとともに、ステージ７の下方側からステージ７を介して裏面観察手段６で観察することで、観察像においては、デバイスパターン３に対応して、暗い（黒色の）デバイスパターン像が観察され、デバイスパターン像ＩＰ１以外の部分は明るく観察される。また、気泡５に対応する部分ＩＢ１についても十分に明るく観察される。これにより、観察像においてデバイスパターン３の形状を明確に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】製造ラインを連続して搬送される開口を塞ぐシール部を有する被検査物に対して、特殊領域特定のために準備工程を必要とせず、検査時間の大幅な短縮が可能な、効率の良い検査性能に優れた検査装置を提供する。
【解決手段】容器を搬送する手段と、第一の光学手段と、第一の光学手段の容器搬送方向の下流に設けられた第二光学手段と、第一の特殊領域特定手段と、第一の特殊領域に基づいてシール部の液漏れ欠陥を検出する第一の検査手段と、前記エッジ座標と、第一の撮像手段と第二の撮像手段の取り付け角度の角度差と、第一の撮像手段と第二の撮像手段から得られた撮像画像における検査領域の中心座標から、第二の撮像手段によって得られた画像の第二の特殊領域を特定する第二の特殊領域特定手段と、第二の撮像手段によって撮像した画像の第二の特殊領域に基づいて容器の異物欠陥を検出する第二の検査手段と、を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）