【課題】省スペース化を図りつつ、設定を簡素化することができるシュリンクラベル装着状態検査方法を提供する。
【解決手段】カメラで撮像したボトル画像を取り込み（Ｓ１）、このボトル画像に示されたキャップ像の外縁像又はボトル像の外縁像からボトル中心を算出する（Ｓ２）。ボトル中心を中心としたリング状の画像を直線状に極座標展開して展開画像を取得し（Ｓ３）、展開画像において設定範囲を設定する（Ｓ４）。シュリンクラベル像の全周分の端面像が設定範囲内にあるか否かを判断し（Ｓ５）、全周分の端面像が設定範囲内にある場合は良品と判断して当該判定処理を終了する。全周分の端面像の一部が設定範囲から外れる場合には装着不良と判断してＮＧ処理を実行する（Ｓ６）。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置を簡単な構成で高精度に検出すること。
【解決手段】列車ＴＲの画像を列車ＴＲの背景の画像とともに撮像可能なように設置された画像センサＳＥ１と、画像センサＳＥ１によって撮像された、列車ＴＲが写っていない画像であるベース画像ＦＧ１と、列車ＴＲが写った画像である検出用画像ＦＧ２とを比較することにより、列車ＴＲの位置を検出する位置検出部１１を有する。位置検出部１１は、検出用画像ＦＧ２に写った列車ＴＲの基準部の画像上の位置ＰＶと、背景から基準部までの距離Ｈｄと、背景から画像センサＳＥ１までの距離Ｈｃとを用いて、列車ＴＲの基準部の実際の位置ＰＲを求める。 （もっと読む）

【課題】 共焦点レーザ走査型顕微鏡における全焦点画像と顕微干渉計測法における高さ画像を効率よく取得することで、試料の３次元形状画像を短時間に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、試料１７を載置するステージ２００と、試料１７の上方に配置される干渉対物レンズ３００と、共焦点レーザ走査型顕微鏡における光学系４００ａと、顕微干渉計測法における光学系４００ｂと、ステージ２００と、干渉対物レンズ３００を搭載する顕微鏡本体４００と、試料１７の３次元形状を観察する際に画像処理や顕微鏡本体４００を制御する制御部５００と、を有し、例えば干渉対物レンズ３００を連続して光軸に沿って移動させ、相対距離を連続的に変え、レーザ用受光素子１１と撮像素子１６から出力される出力信号を最適なタイミングで取得する。 （もっと読む）

測定装置（１８）が、機械の動作量を検出するための測定ユニット（２１）と、双方向のディジタルのデータ接続手段（４）により測定ユニット（２１）に接続される、機械を制御するための制御ユニット（３）とを有する。測定ユニット（２１）は、動作量のためのアナログ測定信号（Ａ１，Ａ２）を検出するためのセンサ手段（８）と、アナログ測定信号（Ａ１，Ａ２）をディジタル化し評価するための評価ユニット（１４）と、アナログ測定信号（Ａ１，Ａ２）の閾値検査のための監視ユニット（１５）とを含む。データ接続手段（４）は、評価ユニット（１４）および監視ユニット（１５）によって求められたディジタル測定もしくは監視情報（Ｍ，Ｆ）を測定ユニット（２１）から制御ユニット（３）に伝達し、かつ監視ユニット（１５）の自動テスト開始のためのディジタル制御指令を制御ユニット（３）から測定ユニット（２１）へ伝達するように構成されている。更に、監視ユニット（１５）の自動テスト中にテスト信号として供給されるアナログ測定信号（Ａ１，Ａ２）を的確に増幅または減衰させるための変更手段（１１；１９，２０）が設けられている。
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本発明は、少なくとも一つの方向に制限された伸びを有する入射光によって対象物を照射する光源と、対象物から発散された光を検出する画像センサとを備えて構成され、発散された光は、対象物の表面上で反射された光（R）且つ対象物内で散乱された光（Ｓ）であり、検出された光は、画像センサ上で上記反射光（R）が検出されるところのピークを有する、画像センサ上の少なくとも一つの強度分布曲線に結果として成る、ビジョンシステム装置内において、対象物内で散乱された光の量を測定するための方法と装置に関連している。上記ピーク周辺における少なくとも一つの強度分布曲線の幅（ｗ）が測定され、それによって測定された幅（ｗ）は、対象物内で散乱された光（Ｓ）の量を表している。
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【課題】 塗装工程前の自動車ボデーからホコリを除去する工程において、自動車ボデー表面に付着したホコリをより明確に可視化する装置を提供する。
【解決手段】 スリット光を発生可能なスリット光発生手段２と、スリット光発生手段２が照射するスリット光を反射させてワークＷへ照射させる反射鏡３と、スリット光発生手段２から照射されるスリット光をワークＷ上に３３Ｈｚの周期で照射するように反射鏡を振動可能な反射鏡振動手段４とからなり、
ワークＷ上に照射されたスリット光がホコリによって散乱光を発生し可視化する。 （もっと読む）

【課題】複雑な形状であっても測定可能であるとともに、測定レンジが大きくかつ分解能が高い３次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】測定対象物Ｗが載置され、Ｘ方向およびＹ方向に移動可能なＸＹステージ２と、Ｚ方向に移動可能なＺステージ３と、測定対象物Ｗとの距離を測定するセンサＳとを有する３次元形状測定装置１において、ＸＹステージ２およびＺステージ３が移動することによって、センサＳと測定対象物Ｗとの距離を変化させ、当該距離に基づいて、測定対象物Ｗの形状を測定し、センサＳは、Ｚステージ３に設けられ、三角法を利用したセンサＡと、共焦点法を利用したセンサＢとの切り換えが可能であり、三角法を利用したセンサＡの測定結果に基づいて、共焦点法を利用したセンサＢでの測定が行われる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面位置の計測精度を向上させる。
【解決手段】原版からの光を投影する投影光学系を有し、投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、計測器と制御器とを有する。計測器は、基板に配されたショット内の計測点に関し、投影光学系の光軸の方向における基板の表面の位置を計測する。制御器は、計測点の複数の大きさそれぞれに関し、基板に配された複数のショットにおいて計測器に該表面の位置を計測させる。そして、計測器は、計測された位置に基づき、複数の大きさそれぞれに関して計測の再現性を示す指標を算出し、算出された指標に基づいて計測点の大きさを決定する。 （もっと読む）

【課題】測定精度を向上させた形状測定装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る形状測定装置Ｍには、スリット光５が投影された被検物２０の像をスリット光５と略平行に延びる線状の像に圧縮して結像させるシリンドリカルレンズ１７と、シリンドリカルレンズ１７により結像された前記線状の像を検出するリニアセンサ１８とが設けられ、撮像部１０によって撮像された被検物２０の画像におけるスリット光５の位置情報に基づいて被検物２０の形状を測定する形状測定部１５は、リニアセンサ１８により検出された線状の像に含まれる投影パターンの位置情報に基づいて、被検物２０の画像におけるスリット光５の位置情報を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板の主面に対向する基準点に対する基板の相対位置を高精度にかつ安定して求める。
【解決手段】線状パターンが形成された基板９の主面９１上における帯状の照射領域に基板９の法線方向に対して傾斜した方向から光が照射され、撮像部４２にて反射光が受光されて主面９１上の照射領域を含む画像が取得される。パターン描画の際には、基板９の移動に並行してヘッド部３１から描画用の光ビームが出射されるとともに、主面９１上の複数の位置にて取得される複数の画像を積算することにより積算画像が取得される。積算画像において照射領域の幅方向の各位置にて長手方向に並ぶ複数の画素値を積算することにより平均強度分布が取得され、平均強度分布に基づいて照射領域の幅方向に対応する方向における撮像面４２０上の反射光の受光位置が特定される。その結果、基準点に対する基板９の相対位置を三角測量法にて高精度にかつ安定して求めることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】
より正確に撮像対象の移動ベクトルを検出する画像処理技術を提供する。
【解決手段】
複数の撮像素子から入力した画像を記憶する画像処理バッファ１０５と、画像処理バッファ１０５に記憶された第１の画像と、第１の画像を撮像した撮像素子に対応する他の前記撮像素子によって同時期に撮像された第２の画像との間の視差画像を求める距離画像算出用画像処理部１０９と、第１の画像と、第１の画像を撮像した撮像素子によって時間差をもって撮像された第３の画像との間の移動ベクトル画像を求める移動ベクトル算出用画像処理部１１０と、を有する画像処理装置。 （もっと読む）

【課題】撮像手段によって撮像される画像にズレが生ずることがない加工装置を提供する。
【解決手段】被加工物を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された被加工物を撮像するための光学系と撮像素子を備えた撮像手段と、チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、チャックテーブルを該撮像手段の撮像領域を含む加工送り方向に移動せしめる移動手段と、撮像手段と該加工手段および該移動手段を制御する制御手段とを具備する加工装置であって、撮像素子に電力を供給する電源回路に開閉スイッチが配設されており、制御手段は撮像手段による撮像工程を実施する際に開閉スイッチを閉路し、撮像手段による撮像工程が終了したら開閉スイッチを開路する。 （もっと読む）

【課題】従来技術と比べて、薄板加工における正常な状態の存在のより正確な検査を可能にし且つこのより正確な検査手段を利用する製作法及び対応する製作装置を提供する。
【解決手段】検出ビーム（２９）を加工しようとする薄板（１１）に向け、次いで受光し、検出ビーム（２９）と、加工される薄板（１１）とを、検出運動により検出ビーム（２９）のビーム横方向で相対運動させ、検出運動時に検出ビーム（２９）により、該検出ビーム（２９）及び薄板（１１）の規定された位置で薄板開口（２８，３５，３７，４１）の縁部（３１）を検出し、検出結果に基づき薄板開口（２８，３５，３７，４１）のジオメトリックな実際状態を規定し、規定された薄板開口（２８，３５，３７，４１）のジオメトリックな実際状態を、対応する目標状態と比較するようにした。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された試料に損傷等を与えることなく、試料の測定を行うことができる反射測定装置及び方法を提案する。
【解決手段】基板Ｐ上に形成された試料Ｓに対して測定光Ｌ１を照射しその反射光Ｌ２を検出する反射測定装置において、光源から照射された測定光Ｌ１を試料測定面Ｔに向けて送光しその反射光Ｌ２を受光する分光光度計部と、基板Ｐを支持すると共に試料Ｓを試料測定面Ｔに向けて相対移動可能な基板ステージと、を備え、試料測定面Ｔは、分光光度計部の試料台２０の表面から所定距離だけ離間するように設定される。 （もっと読む）

【課題】対象物までの距離測定における直線性の較正を高精度に行う。
【解決手段】予め設定された加工対象領域までの距離を変位センサから得られる変位量に基づいてレーザ光の焦点深度を調整して倣い制御を行いながらレーザ加工を行うレーザ加工装置に使用される前記変位センサの較正用治具において、前記変位センサから出射される計測用レーザ光の照射面は、水平面に対して所定の角度に傾斜するように形成される傾斜部と、前記レーザ加工装置における加工対象物を保持するために設けられたステージ上に載置するための水平な底部とを有し、前記傾斜部の表面は、光学ガラスで形成されていることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】コストの増加や検査効率を低下させることなく、被検査面の傾斜角度を従来よりも細かい単位で検出できるようにする。
【解決手段】半球状の筐体２０を具備する照明部２と撮像面を真下に向けて配備したカメラ１により基板を撮像する。筐体２０には、周方向および上下方向をそれぞれ等角度間隔をもって区分けすることにより複数の領域が設定される。各領域には、それぞれ１２個のＬＥＤ２２ａが３×４のマトリクスを構成するように配置される。これらのＬＥＤ２２ａのうち、マトリクスの４隅を除く８個のＬＥＤ２２ａは、その点消灯のパターンによって、基板に対する照明の方向を示すバイナリコードを表示する。検査の際の画像処理では、画像に現れた反射パターンからそのパターンに対応する照明光の方向を特定して、フィレットの傾斜角度を求める。 （もっと読む）

【課題】定量化規格化（位相差）顕微鏡装置において、顕微鏡画像の定量化を行うことを課題のひとつとする。また白血球、生体組織や微生物の定量計測により歯周病やう蝕などの疾病に対する診断に役立てる。
【解決手段】微生物、組織、赤血球、白血球などの被観察物における、２次元定量化手段と、試料の厚み計測手段を備えた３次元定量化手段と、電子格子補正手段と、規格化撮像手段などからなる定量化規格化（位相差）顕微鏡装置を構成している。 （もっと読む）

【課題】３次元表面形状計測器によるの高精度の測定表面データを立体形状の構築方法や板状物体の板厚計測法を解決すべき課題とする。
【解決手段】位置合せ用の治具として球体を使用し、計測される複数の表面の位置座標から基準点となる球体の中心座標を同定し、該同定された3個以上の直径の異なる球体の中心座標を異なる基準点として使用し、該基準点が個別の表面データにおいて共有される条件から数値演算により各個別データを結合し，立体形状を構築する。また、板状物体について共通の座標で表わされたおもて面とうら面の位置データを利用して、板厚を算定する。 （もっと読む）

【課題】露光装置のステージ移動軸の直交度を露光処理中に正確に検出することが可能な露光方法を低コストに提供する。
【解決手段】半導体ウェハWFにおいて、各セルCLａ，CLｃはステージ移動軸のＸ軸方向に隣接し、セルCLａには描画パターン形成領域１５および検査用パターン１６が形成され、セルCLｃには描画パターン形成領域１５および検査用パターン１７が形成されている。各検査用パターン１６，１７は、各セルCLａ，CLｃの間に設けられたスクライブ領域SLに形成され、検査用パターン１６がノギスの主尺を構成し、検査用パターン１７がノギスの副尺を構成する。そのため、バーニアの原理に基づいて、各検査用パターン１６，１７の直線棒状のパターンを目盛りとし、各検査用パターン１６，１７の位置ズレを目視計測でき、それに基づいて各セルCLａ，CLｃの配列のズレを検出できる。 （もっと読む）

【課題】複数の基板テーブルまたはマスクテーブルがあるリソグラフィ投影装置に於いて、複数のステーションでこの基板またはマスクの高さを測定する装置間の原点を関係付ける必要をなくすること。
【解決手段】基板Ｗを基板テーブルＷＴに装填してから、測定ステーション（図８の右）で、レベルセンサ１０を使って、物理的参照面の垂直位置および基板表面の垂直位置Ｚ_LSを複数の点で測定し、並びにＺ干渉計Ｚ_IFを使ってこの基板テーブルの垂直位置Ｚ_IFを同じ点で同時に測定し、基板表面高さ、Ｚ_Wefer＝Ｚ_LS＋Ｚ_IFをマップにする。次に、この基板を坦持する基板テーブルを露出ステーション（図８の左）へ移し、物理的参照面の垂直位置を再び決定する。次に露出プロセス中に基板を正しい垂直位置に位置決めする際にこの高さマップを参照する。このプロセスは、マスクにも適用可能である。 （もっと読む）