【課題】本発明の課題は、光導波路の中空部分に挿入した反射材を磁場発生手段で光導波路の長手方向に移動させて光路長を所望の値に設定することにある。
【解決手段】本発明は、中空構造の光導波路４００の中空部分に、磁性を有する反射材５０１が長手方向に移動自在に挿入され、光導波路４００の外部に磁場を発生することが可能な磁場発生手段５０４が設置され、光導波路４００内の光路長を、反射材５０１を磁場発生手段５０４で光導波路４００の長手方向に移動することにより調整する中空光導波路における磁場を用いた光路長調整方法である。 （もっと読む）

【課題】基板に搭載した各部品の搭載状態を、高さを含めて短時間で検査する。
【解決手段】搬入された基板Ｓａを待機させるインバッファ１２と、該インバッファから搬送される基板を位置決めし、該基板に部品を搭載させるセンタバッファ１０と、該センタバッファで部品が搭載された搭載済み基板Ｓｂを、搬出されるまで待機させるアウトバッファ１４とからなる基板搬送部２を備えていると共に、前記インバッファ及びアウトバッファに、搬送される基板の形状を測定する３次元測定器２０Ａ、２０Ｂがそれぞれ配設されている。 （もっと読む）

【課題】光反射型部品検出システムにおいて、検出環境に応じた判別条件の設定を容易にするとともに判別の確実性を得る。
【解決手段】本発明の光反射型部品検出システム１１０は、搬送される部品が通過する搬送経路１０２中に設定された既定の検出範囲Ｓｐからの反射光の量を検出する受光素子１１７と、該受光素子で検出された前記反射光の量を所定の判別条件に基づいて判別する判別手段１２０とを具備する光反射型部品検出システムにおいて、前記検出範囲の背後に光反射面１１４ａを備えた動作部材１１４を配置し、該動作部材を動作させて前記光反射面の位置又は姿勢を変化させることで前記検出範囲に前記部品が配置されていないときの背景からの反射光量が変化するように構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】測定線に沿う物体３４の正反射面の相対位置を測定する方法において、正反射面の傾斜角の許容範囲を広くする。
【解決手段】 （ａ）少なくとも１本の集束光ビーム３８を測定線上の公称位置４０に集束させ、正反射面からの反射ビーム４４を形成する。（ｂ）検出器平面５０における反射ビーム４４の像を記録する。（ｃ）検出器平面５０内の反射ビーム４４の像の位置を決定する。（ｄ）その反射ビームの像の位置を測定線に沿う公称位置４０からの正反射面の変位に変換する。工程（ａ）において、複数本の集束光ビーム３８を公称位置４０に集束させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ピック・アンド・プレイス機械のノズルに保持されたときに部品のオフセットおよび方向を検知するセンサを提供する。
【解決手段】センサは、複数の２次元カメラ３００と、バックライト照明装置３０６と、コントローラ３０８とを含む。各カメラはピック・アンド・プレイス機械のノズルを含む視野を有する。バックライト照明装置は照明を複数の２次元カメラに向けるように構成されている。バックライト照明装置は複数の２次元カメラからノズルの反対側に位置決めされている。コントローラは複数の２次元カメラおよびバックライト照明装置に接続されている。コントローラは、複数の２次元カメラによって検出された、バックライトで照らされた複数の影の画像に基づいて（複数の）部品３０２のオフセットおよび方向情報を決定するように構成されている。コントローラはオフセットおよび方向情報をピック・アンド・プレイス機械のコントローラに供給する。 （もっと読む）

【課題】切削工具のギャッシュパラメータ抽出の方法及びシステムを提供する。
【解決手段】切削工具１０を可動ステージ２２上に位置付ける段階と、切削工具１０の２以上のギャッシュセクションを走査し、２以上のギャッシュセクション走査点群を生成する段階と、ギャッシュセクション走査点群の複数のポイントをインデックス付けする段階と、インデックス付きギャッシュセクション走査点群を用いて複数のギャッシュ特徴部を検出する段階と、インデックス付きギャッシュセクション走査点群のギャッシュ特徴部の複数の点群を投影して、１以上の投影ギャッシュ特徴部点群を形成する段階と、１以上の投影ギャッシュ特徴部点群の１以上のタイプを識別する段階と、識別タイプに基づいて１以上の投影ギャッシュ特徴部点群をセグメント化する段階と、１以上の投影ギャッシュ特徴部点群のセグメント化に基づいて１以上のギャッシュパラメータを抽出する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】被測定物の場所によって面の反射状態が異なる場合にも反射光を受光して面の位置が測定できる方法を提供する。
【解決手段】被測定物の形状を測定する形状測定方法にかかわる。投光器から被測定物に光を照射し、被測定物から反射される反射光を受光器が受光するときの光の輝度を推定した受光推定輝度を演算するステップＳ１の受光輝度推定工程と、被測定物に光を照射し、光が照射された場所を検出するステップＳ１１の照射場所検出工程と、被測定物に光を照射する場所を移動するステップＳ３の移動工程と、を有し、ステップＳ１１の照射場所検出工程は、受光器が受光する光の輝度に応じた信号を出力し、前記信号を用いて光が照射された場所を検出するステップＳ５の光検出工程と、受光推定輝度を用いて、受光器が受光する光の輝度を調整するステップＳ４の受光調整工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】被検査物の移動により生じる取得画像の、ＸＹＺ座標におけるＺ方向に当たる眼底の深さ方向の変形または変位を低減するために、撮像中における被検査物の移動量を検出する光断層画像撮像装置等を提供する。
【解決手段】被検査物の断層画像を撮像するＯＣＴシステムを備えた光断層画像撮像装置であって、
複数のビームからなる光をＸＹ座標で走査する単一の走査手段と、
前記走査手段により走査される走査角の設定によって、ＸＹ座標で高速に走査する軸方向である、主走査方向に空間分割されると共に該空間分割された境界部分で重なり合う領域を持つように、被検査物に照射する手段と、
前記空間分割された境界部分で重なり合う領域の断層像の、ＸＹＺ座標におけるＺ方向に当たる深さ方向の位置差を求める手段と、
前記求められた前記空間分割された境界部分で重なり合う領域の断層像の深さ方向の位置差から、被検査物の移動量を算出する手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】高解像度のカメラを用いずに、マークを識別できるようにする
【解決手段】カメラで撮影したマーク候補の画像のスペクトラムデータを作成する（Ｓ１４）。マーク候補のスペクトラムデータと、予め記憶してある複数のマークの反射光の周波数特性を示すスペクトラムデータと照合し、スペクトラムデータの一致するものを同一のマークと判定する（Ｓ１６）。２以上のマークの絶対座標を取得し、取得した絶対座標と、２以上のマーク候補の相対位置座標から移動体の位置を計算する（Ｓ１７）。 （もっと読む）

【課題】 ２波長露光など、誤計測要因が発生する状態において高精度な像面計測、ベストフォーカス計測、アライメント原点補正を可能にする。
【解決手段】 ２波長露光において、露光時と同様に2波長発振状態にてTTLキャリブレーション計測を行い、特に、露光領域内の軸外パターンでのフォーカス検出を行う際には、レンズ開口の法線方向（サジタル方向）パターンを用いてフォーカス位置を検出することで倍率色収差による像のにじみの影響を無くしたものである。さらに、単一波長露光時と２波長露光時のそれぞれにおいて最適なキャリブレーション計測チャートを選択する。
また、二波長露光における倍率色収差の影響のみに限定するものではなく、distやコマ、テレセン度などフォーカスにより像シフトが起こり計測誤差が発生する場合でも同様な構成手法により誤差量を減らすことが出来る。 （もっと読む）

【課題】平面の形状を効率、精度よく測定できる平面形状測定装置、測定方法の提供。
【解決手段】光源１１からの射出光の一部を反射させて参照光を生成する部分反射板１４、残りの前記射出光を収束レンズ１５により収束された照明光に対して被測定平面２ａを傾斜させた支持状態を保ち被測定物２を光軸方向に相対移動可能な第１支持機構２０、被測定平面での反射光を被測定平面に向けて再び反射させる反射球面３０ａを有する反射鏡３０、反射球面の収束点ｃが照明光の収束点Ａと重なるように反射鏡を支持し、被測定物の移動に応じて照明光の光軸方向且つ反射光の光軸方向に反射鏡を移動可能な第２支持機構４０、被測定平面及び反射球面からの反射光と参照光から干渉縞を取得する撮像装置１８等と被測定平面の測定領域全体に照射され取得された第１干渉縞、照明光の収束点Ａが被測定平面上に位置するときの第２干渉縞から形状を算出する演算・制御部５０からなる。 （もっと読む）

本発明は、基材（２）上に被覆されたコーティング層（７）の厚みを測定する装置及び方法に関する。基材（２）上のコーティング層（７）の厚みは、コーティングローラー（３）上のコーティング層（４，８）の厚みが該コーティングからコーティングローラー（３）から基材（２）へ転写される前後に測定されることによって間接的に測定される。コーティングローラー（３）上のコーティング層（４，８）の厚みを測定するために、２つのセンサー（９，１０）がコーティングローラー（３）上の各々の層（４，８）に向けられて使用される。センサー（９，１０）はＩＲ放射器とＩＲ検知器とを備えている。
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【課題】 迷光の混入を防止して高精度に干渉計測を行うことのできる光学ユニットを提供する
【解決手段】 光学ユニット（３０１）は、相互に偏光面が直交する第１の偏光（Ｅ１）及び第２の偏光（Ｅ２）の一方を透過させて他方を反射させる第１偏光分離面（Ｓ１１）及び第２偏光分離面（Ｓ１２）を含み、第１ビーム及び第２ビームを相互に分離して異なる方向に射出させる偏光分離部（２０１）と、該第１ビームの偏光状態を変化させる第１偏光変換部（１５）と、偏光分離部から射出した第２ビームを反射して偏光分離部に再入射させる固定反射部（１８）と、該第２ビームの偏光状態を変化させる第２偏光変換部（１７）と、第１ビーム及び第２ビームを、各々その入射位置と異なる射出位置から各々その入射方向に逆向きに射出させて偏光分離部に再入射させるリトロレフレクター（１４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】発泡スチロールなどの軽量な小球を必要なタイミングで拡散させる技術を提供する。
【解決手段】トレーサ供給装置(20)は、軽量な小球(21A)をトレーサ(21)とし、静電気にて帯電させたトレーサ(21)を保持し、放電することで当該トレーサ(21)を放出させることが可能な装置である。 長手方向に直交する垂直な断面形状を下向き略コ字形として前記トレーサ(21)を保持または放出させるための導電性を有するトレーサ保持部(22)と、 そのトレーサ保持部(22)に近接した電極(23)と、 前記トレーサ保持部(22)と前記電極(23)を帯電させる直流電源(24)と、 その直流電源(24)の電流の制御及び前記トレーサ保持部(22)と電極(23)間の放電を制御する制御部(25)とを備えている。 （もっと読む）

【課題】深い測定の深度と高い測定の分解能の双方を両立することができる形状測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】光源から出射した光を平行光にし、その平行光を２つに分岐し、分岐した光の１つを円錐レンズにより距離に亘って光軸上のエネルギー密度が極大になる光（ビーム）に変え被測定物の表面に照射し、分岐した光のもう１つは参照ミラーに照射し、被測定物の表面に照射した光（ビーム）の後方散乱光と、参照ミラーからの反射光の干渉光を検出することで被測定物の形状を測定する。 （もっと読む）

【課題】膜種、膜厚、表面粗さ、結晶方位などの異なる多種多様なウェーハに対応できる欠陥検出精度が向上可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】ウェーハ１００からの反射光が光検出器２０７により検出され、Ａ／Ｄ変換１１２を介してローパスフィルタ１１４、減算器１１５に供給され、低周波数成分が減算された信号が非線形フィルタ処理部１１８に供給される。処理部１１８にて信号時間幅を用いたノイズ除去が行われ、異物・欠陥判定部１０８で、予め定められた検出しきい値と比較され、散乱光強度値がしきい値以上であれば、異物・欠陥判定部１０８は異物・欠陥判定情報を発生する。処理部１１８にて、信号幅を用いたノイズ除去を行っているので、小さな異物を検出可能なしきい値に基づいて、異物・欠陥を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】簡素な設備構成により車両等の移動物体の長さを計測可能な移動物体計測システム、移動物体計測装置、移動物体計測方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】移動物体４の移動路の上部に設置された移動路からの光を反射する反射板１と、前記反射板１と対向する前記移動路の上部に設置され、前記反射板方向の画像及び前記反射板の反射画像を同時に撮像する撮像装置２と、前記撮像装置２が撮像した撮像画像に基づいて前記反射板１と前記撮像装置２の間の前記移動物体４の長さを計測する移動物体計測装置３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】柄が装飾された表面に生じた凹凸欠陥を検出可能な樹脂成形品の外観検査装置を提供する。
【解決手段】一定の指向性を有する光源２１と反射光を撮影するカメラ３１を備える。光源は出射光軸２２方向に主出射光を出射するとともに出射光軸を中心軸として一定の広がり角を有する放射角光を出射するものであり、光源２１と被検査物４１間の光路に遮蔽板２５を配置して光源からの主出射光を遮蔽することにより、被検査物の表面上に放射角光照明領域４６を作り出す。放射角光照明領域４６をカメラ３１で撮影して撮影像を得て、撮影像から凹凸欠陥を検査する外観検査装置である。 （もっと読む）

【課題】欠陥散乱光の偏光特性に依存されずに欠陥像を顕在化する空間フィルタリング技術と正常パターンの明るさ飽和を抑制して欠陥捕捉率を向上する欠陥検査方法とその欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検出光路を偏光分岐して少なくても一つ以上の光路にてアレイ状の空間フィルタを配置し、正常パターンからの回折光や散乱光をフィルタリングすることを特徴とする。また、正常パターンの散乱光量に応じて照明光量或いは／及び検出効率を画像検出中に制御することにより明るさの飽和を抑制した画像を得る。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）