【課題】化学反応により生成した結晶を、容易にかつ効率良く採取することができるキット及び方法の提供。
【解決手段】反応容器に挿脱自在の非磁性有底筒状体と、当該非磁性有底筒状体に挿脱自在な、かつ磁石又は磁性体を備えた挿入体と、反応液中に投入される磁石とから成る結晶採取キット；反応液中に磁石を投入するステップと、当該磁石を取り出すことなく結晶化せしめるステップと、結晶が付着形成された磁石を反応容器から取り出すステップとを有する結晶採取方法。 （もっと読む）

【課題】化学反応により生成した結晶を、容易にかつ効率良く採取することができるキット及び方法の提供。
【解決手段】反応容器に挿脱自在な、かつ上部に磁石を備えた棒状磁性体と、当該棒状磁性体が挿通自在の貫通穴を備えた非磁性板状体と、当該貫通穴の径より大きな径を有し、かつ反応液中に投入される磁石とから成る結晶採取キット；反応液中に磁石を投入するステップと、当該磁石を取り出すことなく結晶化せしめるステップと、結晶が付着形成された磁石を反応容器から取り出すステップとを有する結晶採取方法。 （もっと読む）

【課題】厚さが厚い試料の分析に好適でかつ試料の材質の同定も行うことができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の試料分析装置は、表面に部分的に凹部が存在するウエハ１８に荷電粒子を照射する照射系と、荷電粒子の照射に基づき試料の表面側から得られたルミネッセンスを集光する回転楕円反射鏡１７と、回転楕円反射鏡１７に導かれたルミネッセンスを検出する光検出器３３と、試料の表面から反射された反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出器２５と、荷電粒子検出器２５の検出信号に基づき試料の形状を求めると共に光検出器３３の検出信号に基づきウエハ１８の材質を同定する信号処理部２４とを備え、照射系は荷電粒子をウエハに間欠的に照射するように制御され、信号処理部２４は荷電粒子の間欠照射終了時点から間欠照射開始時点までの期間における光検出器３３からの検出信号の減衰特性に基づき試料の同定を行う。 （もっと読む）

【課題】厚さが厚い試料の分析に好適でかつ凹部の形状が鮮明な画像を得ることができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の試料分析装置は、表面に部分的に凹部が存在するウエハ１８に合焦位置を変更可能にして荷電粒子を照射する照射系と、荷電粒子の照射に基づきウエハ１８の表面側から得られたルミネッセンスを集光する回転楕円反射鏡１７と、回転楕円反射鏡１７に導かれたルミネッセンスを検出する光検出器３３と、ウエハ１８の表面から反射された反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出器２５と、荷電粒子検出器２５の検出信号に基づき凹部の位置を求める信号処理部２４とを備え、照射系により荷電粒子を凹部に照射するときに、信号処理部２４は光検出器３３の検出信号に基づいて荷電粒子の合焦位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】一定の速度範囲で移動する目標に対し高速検査を行い、検査時間を大きく減らす移動目標の高速結像検査設備及び方法を提供すること。
【解決手段】移動目標が通る通路と、移動目標に対し結像を行って検査を行うために前記通路を通る移動目標に対し放射ビームを発する走査結像装置と、前記移動目標が前記通路に入ったのか否かを判定し且つ前記通路に入る移動目標に対しカウントする第１の検出ユニットと、移動目標の前記通路内での移動速度を測定する第２の検出ユニットと、第１の検出ユニットから受けた、移動目標が前記通路に入ったことに関する検出信号に基づいて、移動目標の移動速度を検出するように第２の検出ユニットを制御し、且つ、第２の検出ユニットの測定結果に基づいて、走査結像装置が移動目標の速度に対応する周波数で放射ビームを発するように走査結像装置を制御して、移動目標を検査する移動目標の高速結像検査設備。 （もっと読む）

【課題】同一粒子線照射条件及び走査条件の下で試料上の所定の測定範囲の拡大画像の取得と同時に該範囲のスペクトル分析を行うことにより、測定時間の短縮を図るとともに測定の正確性を向上させる。
【解決手段】操作部２４から走査速度などの走査条件と測定範囲とが設定され測定開始指示が与えられると、同期制御部２２は、測定範囲内で電子線照射位置が走査されるように試料ステージ４の駆動を開始し、それと同時に、電子検出器１５による検出信号に基づく二次電子画像の作成と、Ｘ線検出器９によるＸ線パルスに基づくＸ線スペクトルの作成とを開始させる。走査の進行に伴って徐々に二次電子画像が現れ、徐々にＸ線スペクトル強度が上昇するから、表示部２５の画面上で同一ウインドウ内に両者をリアルタイムで表示する。これにより、１回の走査が終了した時点で、測定範囲の二次電子画像とＸ線スペクトルとを共に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線レンズを用いて集光したＸ線を試料に照射するとき、試料の集光Ｘ線の焦点の周辺部に生じるハロー成分のＸ線が生じ、これにより微小領域での分析の精度が問題となっていた。
【解決手段】Ｘ線レンズ２と試料Ｓの間に、Ｘ線レンズからのＸ線を形状を制御するために開口部を備え、Ｘレンズ側よりも試料側の開口が小さくなっている先細りの形状を有するコリメータ３を設置した。 （もっと読む）

【課題】効率的に高解像度で長尺状の被検査物をＸ線検査する。
【解決手段】被検査物であるテープ２２を一定速度で搬送しながらＸ線を透過させ、透過したＸ線を、外周面に輝尽性蛍光体を備えた回転する回転ドラム６０に照射する。Ｘ線の照射位置よりも回転方向下流側で励起光Ｌａを走査照射し、輝尽性蛍光体から発する輝尽発光光Ｌｂをフォトマルチプライヤー７８で受け、２次元のＸ線画像を得る。励起光Ｌａを走査照射した位置よりも回転方向下流側では、消去光を照射して残像を消去する。残像の消去された輝尽性蛍光体は、回転ドラム６０の回転により再び、Ｘ線照射位置に戻るので、長尺状のテープ２２を順次Ｘ線検査することができる。 （もっと読む）

【課題】高感度で小型化が容易であり、しかも放射線損傷が少ない一次元イメージセンサを提供する。
【解決手段】被検体を透過した放射線１の入射方向に延在し、多数の粒状、柱状あるいは針状構造のシンチレータ粒子をそれぞれに集積した構造体のシンチレータシート２と、放射線１の入射方向に対し直交する方向であってシンチレータシート２に隣接して配置された光学素子３と、光学素子３に隣接した受光素子４とを有する。これ等は、スリット状の開口部５を有する遮蔽体６に覆われる。開口部５の所定の箇所には、シンチレータシート２で発生するシンチレーション光の遮光膜７が取り付けられる。受光素子４の光電変換で生成した電気信号の出力を外部に伝送するケーブル８、電気回路９が取り付けられる。 （もっと読む）

【課題】エックス線分析装置での測定ではエックス線の照射方向と検出方向とを被測定位置で交差させる必要があり、エックス線の集中手段の指向方向を簡便に調整でき、さらに照射エックス線のうち集中手段に導かれないエックス線が周囲に漏洩することを防止したエックス線分析装置を提供する。
【解決手段】キャピラリー12、13を挿入したキャピラリーチャックの先端部にロックナットを締め付けてキャピラリー12、13を保持させ、該キャピラリーチャックをキャピラリーホルダ16に挿入し、該キャピラリーホルダ16を発生装置２と検出装置３にそれぞれカバー14、15を介して取り付ける。キャピラリーホルダ16の周壁に植設した調整ネジの締め付け状態を調整することによりキャピラリーチャックの姿勢を調整してキャピラリー12、13の指向方向を調整する。 （もっと読む）

【課題】ＬＭＩＳ汚染を発生させることなく、膜中の異物を正確に検出し電子顕微鏡による観察を迅速に行うことができる荷電粒子線装置、試料加工方法及び半導体検査装置を提供する。
【解決手段】他の光学式検査装置によって検出された、膜６６中に存在する欠陥の原因となる異物６５を他の光学式検査装置で取得された位置情報を基に光学式顕微鏡４３で検出し、電子顕微鏡画像やイオン顕微鏡画像による異物６５の観察やＥＤＸによる異物６５の元素分析ができるように非金属のイオンビーム２２で試料３１を加工する。 （もっと読む）

【課題】 エックス線分析装置による測定時にエックス線の照射領域が大気雰囲気にある場合には、エックス線が吸収され減衰して検出効率を低下させることに鑑みて、エックス線の進行域をエックス線を殆ど吸収しないシールガスの雰囲気とすることができるエックス線分析装置を提供する。
【解決手段】 エックス線の発生装置２と検出装置３のそれぞれにエックス線の照射方向と検出方向を案内するために設けられたキャピラリー12、13にヘリウムガスを供給して、キャピラリー12、13の先端からヘリウムガスを噴出させる。キャピラリー12、13は測定対象物Ｏの測定位置を指向しているから、噴射されたヘリウムガスは被測定位置に吹き付けられ、エックス線の進行域の雰囲気を形成し、エックス線の減衰が抑制される。 （もっと読む）

【課題】
被検査基板の帯電状態を任意に制御でき、信頼性の高い電子ビームを用いた回路パターンの検査装置を提供する。
【解決手段】
回路パターンが形成されたチップを複数有する基板表面に電子ビームを照射し、該照射によって基板から発生する信号を検出して画像化し、該画像と他の画像とを比較して回路パターン上の欠陥を検出する回路パターンの検査装置において、電子ビームで走査しながら一方向に移動する基板のひとつの移動であるラインに含まれるチップ列に電子ビームを照射する検査スキャンにより検査用の画像を取得した後に、検査スキャンにより電子ビームが照射された領域の帯電状態を飽和状態にする、あるいは帯電状態を元に戻すことによって画像の質が均一になるように、該照射された領域に再び電子ビームを照射するポストスキャンの電子光学条件を設定する条件設定手段を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 検査対象とすべき最適な断層像を特定することが困難であり、結果として高精度の検査を行うことができなかった。
【解決手段】 Ｘ線によって検査対象を検査するにあたり、Ｘ線を基板上の検査対象品に照射して異なる方向から撮影した複数のＸ線画像を取得し、上記複数のＸ線画像に基づいて再構成演算を実行し、当該再構成演算によって得られた再構成情報に含まれる上記基板の配線パターンの情報に基づいて上記検査対象品の検査位置を決定する。 （もっと読む）

本発明は、装置が、電磁ビーム、特にＸ線ビーム又は極端紫外線ビームを発生するように構成されており、その際、粒子、特に電子が、調節可能な集束装置（２２）によってターゲット（５）に向けて転向されるので、粒子によってターゲット（５）において電磁ビームが発生され、少なくとも１つの対象物、特に校正対象物（７０）が、電磁ビームによって通過照射され、かつ対象物の通過ビーム画像が撮影され、１つ又は複数の通過ビーム画像が自動的に評価され、かつ評価に依存して、集束装置（２２）が調節される装置の動作方法に関する。
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被検体の病理学的状態の診断試験の感度及び特異度を改善するように被検体からのケラチンサンプルを分析する方法であって、ａ）エネルギー源から得られる入射エネルギーにケラチンサンプルを曝すこと、ｂ）ケラチンサンプルに入射エネルギーが当たることで生じる、ケラチンサンプルからの放射エネルギーを受け取ること、ｃ）ケラチンサンプルから受け取った放射エネルギーの少なくとも一部を、被検体特異的データを引き出すようにトランスデューサに通すこと、ｄ）引き出された被検体特異的データを処理すること、及びｅ）そのようにして得られた前記処理された被検体特異的データを、参照データベースの、前記被検体の前記病理学的状態の存在と一致する第２の群の参照データと比較すること、を含み、ｆ）上記処理方法は、上記参照データに対して感度及び特異度を改善するように、上記比較する工程の前に上記被検体特異的データに適切なアルゴリズムを適用する工程を含む、方法。
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【課題】 イオンビームと遮蔽材を用いる断面試料作製装置において、断面加工の進行状態を素早く簡単に判断し、断面作製位置の変更や修正を短時間に行えると共に、試料の内部構造を知ることができるようにする。
【解決手段】 イオンビームによって加工される試料６の断面を観察するための光学観察装置４０（断面観察手段）備え、イオンビームを照射中若しくは照射を中断した時にシャッタ４１を開けて、加工室１８内の真空を保持したまま試料６の断面を観察できる。また、試料６と遮蔽材１２の相対位置変更するための調整手段を備え、一回の断面加工が終了する毎に断面画像の取り込みと断面位置の微小移動を繰り返し、得られた複数の画像から試料６の立体画像を構成する。 （もっと読む）

【課題】鋼材の流通管理を円滑にし、異材の流出や混入の防止を容易にしたチェックシステムを提供する。
【解決手段】携帯Ｘ線分析装置（１）に識別ラベルの読取装置（２）を併設したもの、データを入力したコンピュータ（３）、出力をコンピュータに送るためのコンバータ（４）、およびコンピュータの判定した結果を掲示する電光掲示板（５）でチェック装置を構成する。出荷に当たり、対象となる鋼材に、あらかじめ溶解番号などのデータを表示した識別ラベルを貼るとともに、その溶解番号に対応したレードル値と、同一性の判定基準値とをコンピュータに入力しておく。携帯Ｘ線分析装置で鋼材の合金組成を測定するとともに、識別ラベルを読み込み、得られた分析値と溶解番号とをコンピュータに送り、判定基準値を利用して同一性を判定し、その結果を、必要な指示とともに出荷現場の電光掲示板に掲示する。入庫の場合は、規格値をコンピュータに入力しておき、同一性の判定基準値を利用して分析値と規格値との同一性を判定する。 （もっと読む）

【課題】 膜に保持された試料の試料交換を迅速に行うことができるとともに、分解能の低下を防ぐことができ、また真空室内の汚染を防止することができる試料検査装置及び試料検査方法並びに試料検査システムを提供する。
【解決手段】 試料検査装置は、第１の面３２ａに試料２０が保持される膜３２と、膜３２の第２の面に接する雰囲気を減圧する真空室１１と、真空室１１に接続され、膜３２を介して試料２０に一次線７を照射する一次線照射手段１と、一次線７の照射により試料２０から発生する二次的信号を検出する信号検出手段４と、真空室１１内において、３２膜と一次線照射手段１との間の空間を仕切るための開閉バルブ１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学顕微鏡によって検出した分析位置におけるＸ線分析において、試料の移動、および試料の移動に伴う分析対象位置の位置合わせを要することなくＸ線分析を行う。
【解決手段】光学顕微鏡の対物レンズと、Ｘ線分析装置のＸ線発生器とを、同一光軸上で切り換え自在とすることによって、光学顕微鏡によって検出した分析位置に対して、試料の移動、および試料の移動に伴う分析対象位置の位置合わせを行うことなく、同じ試料位置のままでＸ線発生器からの一次Ｘ線を照射し、試料から放出される特性Ｘ線を検出しＸ線分析する。複合装置１は、光学顕微鏡系２とＸ線分析系３とを備えると共に、光学顕微鏡系２とＸ線分析系３が共有する回転自在のレボルバ５を備える。 （もっと読む）