【課題】試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを容易に確認できる技術を提供する。
【解決手段】鏡面の試料面を持った複数の試料を取り付けた複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーを、これら複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持つように回転させて、個々の試料取り付け窓をある配置場所に順次配置し、その配置場所にある試料取り付け窓を自転させて、その試料面を観察し、試料面が自転軸に直交する同一面上にあることを確認する。 （もっと読む）

【課題】内容物の位置ズレを高精度に検出できる分包シート検査システム及び検査方法を提供する。
【解決手段】分包シートの外面に照射光を照射可能な光源と、前記光源から照射された照射光が分包シートの外面で反射された反射光を受けて映像信号を発生させる撮像手段４と、撮像手段４から出力される前記映像信号にエッジ強調処理を行なうことでシール部を強調するとともに、強調されたシール部において、分包シートの外端からポケット部とシール部との境界までの距離をシール長を計測するシール長計測装置６と、分包シートに照射するＸ線を照射可能なＸ線源７と、このＸ線照射に伴うＸ線透過量を検出するＸ線検出器８と、シール長の情報を入力してポケット部の位置と適合する検査領域を設定し、Ｘ線検出器８で検出されたＸ線透過量に基づいて、検査領域における内容物を検査する判定手段９とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は厚い窓材を有する撮像窓を備える分析室内の試料に対して、分析室外から分析対象位置を鮮明に撮像できるようにして、分析位置の特定ができなかった試料の分析を可能にするＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】窓材４１を有する撮像窓４０を備える分析室２内でＸ線を試料Ｓに照射して分析を行うＸ線分析装置であって、窓材４１を透過させて試料Ｓを照明する試料照明手段７と、試料Ｓを分析室２の外部から撮像する撮像手段８であって、撮像部８１とフード８２を有し、試料照明手段７からの照射光が、窓材の裏面４１ｂで反射光となって撮像部８１内に入射しないように形成されている撮像手段８とを有し、試料照明手段７がフードを取り囲むように配置され、フードの窓近位部８２ｂの端部が撮像窓４０に近接しているＸ線分析装置。 （もっと読む）

【課題】
電子線を用いて欠陥を検出する検査装置において、電子線を用いた場合の、試料内のチップ内の回路パターンの種類や密度の差異によって生じる検査画像のコントラストの差異を原因とした検査性能の低下を防止する。
【解決手段】
試料に荷電粒子線を走査して得られる少なくとも２つの画像を比較して試料の回路パターンの欠陥を抽出する荷電粒子線を用いた検査方法または装置であって、あらかじめ定められた幅で荷電粒子線を走査しながら試料を連続的に移動し、回路パターンの種類または密度が異なる領域では、検査条件を変えて画像を取得する。 （もっと読む）

【課題】検出された欠陥からシステマティック欠陥を分別する。
【解決手段】欠陥分類定義部２２１は、被検査デバイスにそのとき形成されているレイヤおよびその上層または下層に形成されたレイヤに対応するレイアウト設計データを用いて、被検査デバイスの表面に欠陥を分類する領域を定義する。欠陥分類処理部２２２は、欠陥レビュー装置１０で取得された欠陥からサンプリングしたサンプリング欠陥データ１３３（２３３）について、その欠陥の位置が前記定義された領域のどの領域に含まれるかによって、欠陥を分類する。欠陥集計部２２３は、その分類された欠陥を集計し、各領域の欠陥密度を求め、ある領域の欠陥密度が他の領域の欠陥密度の平均値よりも有意差以上に大きい場合には、システマティック欠陥判定部２２４は、その領域の欠陥をシステマティック欠陥と判定する。 （もっと読む）

三次元目標物体の領域の画像を構築する画像データを提供する方法及び装置が開示される。本方法は、入射放射線を提供するステップと、少なくとも１つの検出器を介して、目標物体で散乱した放射線の強度を検出するステップと、目標物体に対して入射放射線を再位置決めするステップと、続けて、目標物体で散乱した放射線の強度を検出するステップと、３Ｄ物体の１つ又は複数の深さにおいて、入射放射線の少なくとも１つの特性の推定値を示すプローブ関数を求めるステップと、物体の１つ又は複数の領域の画像を、プローブ関数を使用して反復プロセスを介して構築することができる画像データを提供するステップとを含む。
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【課題】試料１０の位置ずれを高い信頼性で検出可能な蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】試料１０を載置するステージ２２と、このステージ２２を収納し、開閉可能なカバーが設けられた筐体を有し、試料１０にＸ線を照射して、試料１０からの蛍光Ｘ線を検出することにより測定を行う測定装置２と、カバーを開けた状態で試料１０をステージ２２上に載置した後であってカバーを閉める前後に、試料１０の同一箇所の画像をそれぞれ撮像し第１及び第２の画像データをそれぞれ取得する撮像装置３と、第１及び第２の画像データを用いて試料１０の位置ずれを検出する位置ずれ検出部１３と、位置ずれを通知する通知部１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は蛍光Ｘ線分析装置のＥＤＳヘッド保護方法及び保護機構に関し、最適なＸ線強度を得ることができる蛍光Ｘ線分析装置のＥＤＳヘッド保護方法及び保護機構を提供することを目的としている。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析装置で、試料上の測定点での位置を測定する位置検出器と、試料上の測定点の試料の高さを測定するラインセンサ３と、前記位置検出器で検出した試料上の位置座標と前記ラインセンサ３で測定した試料の高さを記録するメモリ１４と、該メモリ１４に記憶されている位置座標と試料の高さに基づき、ＥＤＳヘッド２の高さを制御する高さ制御手段１３と、を有して構成される。 （もっと読む）

荷電粒子トモグラフィ・データから物体容積体散乱密度プロファイルを統計的に再構成する工程を含む荷電粒子検出用のシステム、装置、コンピュータ・プログラム製品及び方法であって、統計的多重散乱モデルに基づいて、荷電粒子散乱の確率分布を決定し、期待値最大化アルゴリズムを使用して物体容積体散乱密度の略最尤推定値を決定し、物体容積体の散乱密度を再構成する。注目の容積体を占める物体の存在と種類の両方又はそれらの一方を、最構成された容積体散乱密度プロファイルより特定することができる。荷電粒子トモグラフィ・データは、パッケージ、コンテナ、車両、又は貨物の走査用のミューオン追跡装置からの宇宙線ミューオントモグラフィ・データであってよい。このような方法は、コンピュータ上で実行されるコンピュータ・プログラムを使用して実施できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、検査対象となる回路パターンの画像をモニタ画面を通して検査する際に、その画面の正確な情報により迅速に処理できると共に、製品全体に及ぶ欠陥又は特定領域における欠陥を迅速に検知することができる回路パターンの検査装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、ウェーハの回路パターンが形成された基板表面に電磁波又は荷電粒子線を照射し、該照射によって前記基板から発生する信号に基づいて得られる検査画像から前記回路パターン上の欠陥を検出する回路パターンの検査装置において、前記検査画像を取得する前後において、前記検査画像の対応部分に電子線を照射し前記ウェーハの帯電状態を変化させる手順が設定される検査条件設定部を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

Ｘ線又は他の放射ビームを使用した物体の検査の技術、特に、符号化放射ビームを用いて物体を照明し、物体によって散乱された及び／又は物体を通して伝達された放射線を検出することによって物体を検査するための装置及び方法を提供する。物体を検査するための装置は、物体の被検査領域を照明するために扇ビーム又はフラッドビームを利用する。可動マスクの形態を取ることができる変調器は、被検査領域の各セグメントが所定の時間的シーケンスに従って変動する放射線量を受け取るようにビームを動的に符号化する。物体からの放射線を受け取る後方散乱検出器又は任意的な透過検出器によって生成され得られる信号は、被検査領域の画像を構成することができるように、空間情報を再生するために復号される。 （もっと読む）

【課題】コンタクトホール等の半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ上の欠陥を検査し、ドライエッチングによる非開口欠陥等の欠陥の位置や欠陥の種類等の情報を高速に取得し、得られた欠陥情報から欠陥の発生プロセスや要因の特定を行ない、歩留まりを向上やプロセスの最適化の短期化を実現する方法の提供。
【解決手段】半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ１８に１００ｅＶ以上１０００ｅＶ以下の照射エネルギ−の電子線を走査・照射し、発生した２次電子の画像から高速に欠陥検査を行う。二次電子画像取得前にウエハ１８を移動させながら高速に電子線を照射し、ウエハ１８表面を所望の帯電電圧に制御する。取得した二次電子画像から欠陥の種類の判定を行ない、ウエハ１８面内分布を表示する。 （もっと読む）

【課題】構造から回折したビームの位相差および振幅を、複数の範囲の波長を有する既知の位相変調器の欠点がない状態で測定可能なスキャトロメータの楕円偏光法の機能を提供する。
【解決手段】本発明は、基板の特性を求めるために、基板から回折したら、別個に偏光した４つのビームを同時に測定することに関する。最大３つの偏光要素を介して、円または楕円偏光源を渡す。これは、光源を０、４５、９０および１３５°偏光する。位相変調器の代わりに、複数の偏光ビームスプリッタを使用するが、４つのビーム全部の強度を測定し、したがって組み合わせたビームの位相変調および振幅を測定して、基板の特徴を提供することができる。 （もっと読む）

ミューオン等の粒子を検出する技術、装置及びシステムを提供する。一具体例では、監視システムは、複数のドリフトセルを有する宇宙線生成荷電粒子追跡器を備える。ドリフトセル、例えば、アルミニウムドリフトチューブは、走査される容積体の少なくとも上方及び下方に配置でき、これにより、宇宙線生成ミューオン等の入射及び出射荷電粒子を追跡すると共に、ガンマ線を検出する。システムは、容積体を通過する荷電粒子の多重散乱から、容積体に収容されている装置又は物質、例えば、鉄、鉛、金及び／又はタングステン等を選択的に検出でき、及び容積体に収容されている放射線源から放射されたガンマ線から、容積体に収容されている放射線源も検出できる。必要であれば、ドリフトチューブを密封し、ガスハンドリングシステムの必要性をなくしてもよい。このシステムは、国境検問所において、核脅威物体について、荷物を積んだ乗物を検査するために使用することができる。 （もっと読む）

【課題】培養された細胞等からなる試料の観察又は検査を良好に行うことのできる試料保持体、試料検査装置及び試料検査方法、並びに試料保持体の製造方法を提供する。
【解決手段】試料保持体４０は、開放された試料保持面３７ａの少なくとも一部が膜３２により構成され、膜３２の試料保持面３７ａにおいて培養された試料３８に、膜３２を介して、試料観察又は検査のための一次線が照射可能となっている。これにより、細胞等の試料３８を培養させた状態で生きたままでの観察又は検査を良好に行うことができる。特に、一次線として電子線を用いれば、生きた状態での試料のＳＥＭ観察・検査を良好に行うことができる。さらに、試料保持面３７ａは開放されているので、マニピュレータによる試料へのアクセス（接触又は接近）が可能となり、マニピュレータを用いて試料３８への刺激を行い、その反応を観察・検査することも可能になる。 （もっと読む）

Ｂｒａｇｇの法則に従って放射線を回折する放射線回折センサーを製造する方法が開示される。このセンサーは、基盤上に周期的に整列された粒子のアレイを形成する工程、粒子のアレイをポリマーマトリックスでコートする工程、マトリックスを硬化してマトリックス内の粒子のアレイを固定する工程、および固定アレイを活性剤に接触する工程によって製造され、そこにおいて、この活性剤は、センサーによって回折された放射線の波長を、第１波長から第２波長へ偏移する。 （もっと読む）

【課題】ノッチ形状誤差等によるノッチ位置決め誤差が補正でき、半径方向結晶方位の測定の精度が高い結晶方位測定装置を提供する。
【解決手段】円筒状結晶２をその円筒軸に対し回転させる回転部１１と、円筒状結晶２を回転し、円筒状結晶２の周側面に設けられたノッチ２ａを基準に円筒状結晶２を位置決めする位置決め部１２と、円筒状結晶２が位置決めされると、回転軸に対するノッチ２の位置を測定するノッチ測定部１２と、周側面にＸ線を照射して半径方向の結晶方位を測定する結晶方位測定部１３と、結晶方位測定部１３で測定した結晶方位をノッチ測定部１２で測定したノッチの位置で補正して半径方向の結晶方位を求める補正部１４２とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターンによる散乱光の影響が強く、試料表面に散乱光を発する異物等があるか否かの検査を正確にできないと考えられ場合も少なくとも蛍光を発する異物がある不良品を発見して、半導体素子の歩留まり低下を防止することができる異常検査装置を提供する。
【解決手段】サンプルＳに対して測定光Ｌ１を照射するレーザ光源２１と、測定光Ｌ１をサンプルＳの表面Ｓａ上に照射した場合に、表面Ｓａ上のパターンにより散乱されたパターン由来散乱光、表面Ｓａ上の異常により散乱された異常由来散乱光、及び、表面Ｓａ上の異常により発生した蛍光をそれぞれ検出するためのパターン由来散乱光検出部３１、異常由来散乱光検出部３２及び蛍光検出部３３と、パターン由来散乱光検出部３１で検出した光の強度が、所定の閾値を越える場合に、蛍光検出部３３で検出した光の強度に基づいて、異常の検出を行う異常検出部４ｄを具備するようにした。 （もっと読む）

【課題】 膜に保持された試料に一次線として電子線等の荷電粒子線を、該膜を介して試料に照射し、これによって試料検査を行う際に、該膜に保持された試料に刺激を与えることのできる試料検査装置、試料検査方法、及び試料検査システムを提供する。
【解決手段】 本発明における試料検査装置は、膜３２を介して試料２０に一次線７を照射する一次線照射手段１と、一次線７の照射に応じて試料２０から発生する二次的信号を検出する信号検出手段４とを備え、２０試料に接近又は接触可能な先端部を具備するマニピュレータ２６と、試料２０の光学像を取得する光学像取得手段２７と、一次線照射手段１、信号検出手段４、マニピュレータ２６及び光学像取得手段２７の各動作を制御する制御手段２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】複数の成分領域を有する試料において、その成分間の境界領域を自動的に判別することができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】二次エネルギ線検出部４により検出された二次エネルギ線Ｌのスペクトル波形を示すデータであるスペクトルデータを各ポイント毎に生成するスペクトルデータ生成部５１と、類似するスペクトルデータを集めてグループ化するスペクトルデータ分類部５２と、互いに異なるグループに属するスペクトルデータの合成である合成スペクトルから得られる合成情報と、その合成情報に係るグループ以外のグループに属するスペクトルデータから得られる情報とを比較して、類似する場合には、前記合成情報に係るグループ以外のグループのスペクトルデータを生じる領域を、前記合成情報に係るグループのスペクトルデータを生じる領域間の境界領域であると判別する境界領域判別部５５と、を備えている。 （もっと読む）