【課題】 垂直スライスイメージングを利用した検査方法を提供する。
【解決手段】 垂直スライスイメージングを利用した検査方法。対象物を貫通して延びる多数の水平スライス画像が取得される。水平スライス画像を示すデータから垂直な対象領域が規定される。垂直スライス画像は、垂直な対象領域内にある水平スライス画像データに基づいて構成される。垂直スライス画像データは、不良を検出するために解析されても良い。また、ＢＧＡ接合の不良を検出するための方法が提供される。この方法は、接合部の中心の位置を見つけることを含んでいる。方法は、接合部を貫通する多数の直径を測定し、測定された直径と期待された直径とを比較するために規則を適用することを更に含んでいても良い。 （もっと読む）

【課題】極薄のフィルム状試料をサンプリングする際に、測定する箇所を破壊することなく、その両面を測定できる状態でサンプリングすることが出来るサンプルホルダー及びそれを用いたフィルム状試料の表面分析方法を提供することを目的とする。
【解決手段】上部保持板１１と下部保持板２１とで構成されており、開口部を１個設けた事例で、上部保持板１１には、中央部に開口部１１ａを、周辺部に粘着部３１ａ、３１ｂ、３１ｃ及び３１ｄを、下部保持板２１には、中央部に開口部２１ａを、周辺部に粘着部３２ａ、３２ｂ、３２ｃ及び３２ｄを、それぞれ設けたものである。本発明のサンプリング用板を用いてフィルム状試料の前処理を行うことにより、フィルム状サンプルの両面を、汚染無く、表面分析装置で測定することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 リムとタイヤの組付け状態を、タイヤの一周に渡り短時間で連続的に測定できる、リム組付けタイヤの組付け状態測定方法を提供する。
【解決手段】 タイヤ内部構造測定装置１０に、リム３０にタイヤ５６を組み付けたリム組付けタイヤ１２を回転可能に支持し、リム組付けタイヤ１２を、押圧負荷のない無負荷状態で回転させ、Ｘ線照射装置２０からＸ線をリム３０の接線方向に照射し、Ｘ線検知装置２２により、リム３０とタイヤ５６との組付部のＸ線透過情報を所定のタイミングで取り込み、取り込んだＸ線透過情報に基づいて、画像形成処理部２８で接線方向透過画像を形成し、得られた接線方向透過画像を用いて、リム３０とタイヤ５６の特定部位の位置情報を得る。 （もっと読む）

【課題】ノッチ形状誤差等によるノッチ位置決め誤差が補正でき、半径方向結晶方位の測定の精度が高い結晶方位測定装置を提供する。
【解決手段】円筒状結晶２をその円筒軸に対し回転させる回転部１１と、円筒状結晶２を回転し、円筒状結晶２の周側面に設けられたノッチ２ａを基準に円筒状結晶２を位置決めする位置決め部１２と、円筒状結晶２が位置決めされると、回転軸に対するノッチ２の位置を測定するノッチ測定部１２と、周側面にＸ線を照射して半径方向の結晶方位を測定する結晶方位測定部１３と、結晶方位測定部１３で測定した結晶方位をノッチ測定部１２で測定したノッチの位置で補正して半径方向の結晶方位を求める補正部１４２とを備える。 （もっと読む）

【課題】検査対象物内の液体の流れを停止させないで保温材内の水の存在位置を精度良く測定できる水分検出装置を提供する。
【解決手段】配管検査装置１５の中性子発生管１及び中性子検出器を有する。中性子発生管２は単一エネルギーを有するパルス状の高速中性子２０を発生し、保温材１２に照射する。高速中性子２０は保温材１２内に存在する水１４及び配管１１内を流れる液体１０によって減速されて熱中性子２１となる。高速中性子２０の照射方向とは逆方向に進行する熱中性子２１は^３Ｈｅ比例計数管２で検出される。この計数管２からの出力信号は多チャンネル波高分析器８を経てデータ処理装置９に達する。データ処理装置９は高速中性子の発生時刻を基準とする熱中性子検出率の分布情報を算出し、さらに、この分布情報を用いて、保温材１２内に水１４が存在する場合の水１４の位置及び水１４の量を求める。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスコストを低減できる水分計測装置及び水分計測方法を提供することにある。
【解決手段】γ線源１は、被検査体４にγ線を照射する。中性子検出器６は、被検査体４に付着した水の中の重水素による（γ，ｎ）反応によって発生した中性子を検出する。ここで、γ線源１が照射するγ線のエネルギーを、重水素の（γ，ｎ）反応に対するしきいエネルギーよりも高く、被検査体４を構成している物質の（γ，ｎ）反応に対するしきいエネルギーよりも低いエネルギーとし、重水素の（γ，ｎ）反応により発生する光中性子を中性子検出器６で計測する。 （もっと読む）

【課題】膜の水素透過率等を直接的に測定し得る手法を提供する。
【解決手段】実施形態に係る評価方法は、互いに積層された複数の膜からなる試料について、水素共鳴核反応で発生するガンマ線の強度のイオンドーズに対する依存性のデータを取得するステップと、上記イオンドーズの関数式で上記データをフィッティングするステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】低コストで実現可能でありながらも、比較的大きなサイズの検査対象物について、小さな異物の検出が可能なＸ線異物検査装置を提供する。
【解決手段】全体検査においては、第１のＸ線検出手段４ａは、Ｘ線の強度に応じた濃度値の画素を持ち検査対象物１の全体を含む全体透視画像を出力する。判断手段７は、全体透視画像を取得し、全体透視画像に基づいて検査対象物１中の異物の有無を判断するとともに、異物の有無が確定しなければ異物候補があると判断し再検査を開始させる。再検査においては、移動制御手段６は移動手段５を制御することで第２のＸ線検出手段４ｂを移動させる。第２のＸ線検出手段４ｂは、Ｘ線の強度に応じた濃度値の画素を持ち異物候補が含まれる検査対象物１の一部を拡大した拡大透視画像を出力する。判断手段７は、拡大透視画像を取得し、拡大透視画像に基づいて異物候補が異物か否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】試料の構成や膜種等によって測長誤差の生じることのない走査形電子顕微鏡の測長方法を提供する。
【解決手段】本発明の走査形電子顕微鏡による測長方法は、対物レンズから試料までの距離を検出するセンサの出力を用いて走査形電子顕微鏡を測定ポイントにオートフォーカスさせ、対物レンズの励磁電流を変化させながら試料から放出された試料信号の変化をモニターしてフォーカスずれに相当する対物レンズの励磁電流ΔIobjを検出する。そして、対物レンズの励磁電流ΔIobjを試料に入射する電子ビームの加速電圧ΔＶに換算し、試料に入射する電子ビームの加速電圧をΔＶだけ変更する。その後、測定ポイントの測長を行う。 （もっと読む）

【課題】画像データを用いた構造解析の解像度を向上させる。
【解決手段】測定画像のデータおよび所定の数の複数の参照画像のデータを取得し（Ｓ１０３）、複数の測定画像のそれぞれについて、参照画像に対する相対位置を移動させた測定画像の派生画像群のデータを作成し、生成した複数の派生画像群のそれぞれについて、派生画像群と前記参照画像との類似度を評価して、それぞれの派生画像群の中から、複数の参照画像のうちのいずれかとの類似度の高い複数の派生画像を抽出する（Ｓ１０５）。抽出された複数の派生画像を、派生画像の空間配置を考慮して複数のグループに分類し、共通のグループに分類された派生画像を平均化して、複数の平均化画像のデータを作成し（Ｓ１０７）、平均化画像のデータに基づいて、測定対象の構造を推定する（Ｓ１１５）。 （もっと読む）

【課題】微量の液体試料を所定の部位に精度よく試料点滴基板上に点滴乾燥させている全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板および全反射蛍光Ｘ線分析装置ならびに全反射蛍光Ｘ線分析方法を提供し、液体試料の全反射蛍光Ｘ線分析の感度と精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】液体試料を点滴乾燥させるための試料点滴基板であって、表面が疎水性であり、鏡面研磨の平面度を有する平面基板１５Ｋと、平面基板１５Ｋの表面の所定の部位に、合成樹脂を溶剤にて所定の濃度に溶解された合成樹脂溶液４０の所定量を点滴乾燥された合成樹脂点滴乾燥痕４１とを有する全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５。この全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の合成樹脂点滴乾燥痕４１に試料溶液７０を点滴乾燥させて全反射蛍光Ｘ線分析を行う全反射蛍光Ｘ線分析装置およびその方法。 （もっと読む）

【課題】 エックス線分析装置を用いて測定対象の組成物質を測定する場合に、不用意にエックス線が発せらると作業者が被曝するおそれがあることに鑑みて、作業中における被曝の機会を極力減じるエックス線分析装置を提供する。
【解決手段】 測定対象物Ｏの被測定位置が、発生装置２の照射方向と検出装置３の検出方向の交点Ｃに位置した状態にあることを、基準位置から被測定位置までとの距離を測距装置30で検出し、この距離が基準位置から該交点Ｃまでの距離と一致した場合、すなわち測定準備が完了した場合に、発生装置２の作動を許可することにより発生する。これにより、測定準備作業中に不用意に発生装置２からエックス線が発せられることを防止して、作業者の被曝を防止する。 （もっと読む）

【課題】 マスター画像等を作成するような手間をかけさせず、ＢＧＡパッケージの多数のハンダボールのように被測定物に同一形状の部材が多数個並んでいても、透視Ｘ線像が撮影されている被測定物の位置を把握させることができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 ステージ１４と、Ｘ線測定光学系１３と、ステージ１４を駆動信号に基づいて移動させるステージ駆動機構１６と、表示装置２３とを備えるＸ線検査装置１であって、被測定物Ｓについての複数の測定位置の配置関係を含む被測定物関連データが入力され記憶するデータ記憶部２５と、被測定物関連データに基づいて、表示装置２３に被測定物Ｓについての測定位置を示す模式図２４ｂの画像表示を行う模式図表示部３３とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

Ｓ／ＴＥＭサンプルの調製および分析用の改良された方法および装置である。本発明の好ましい実施形態により、ＴＥＭサンプル作成用、特に小さい形状（厚さ１００ｎｍ未満）のＴＥＭラメラ用の改良された方法が提供される。本発明の好ましい実施形態は、ＴＥＭサンプルの作成および分析のプロセスの労力を低減し、ＴＥＭ分析のスループットおよび再現性を高めるために、ＴＥＭサンプル作成を一部または全部自動化する方法を提供することにより半導体ウェハ上に製造される集積回路または他の構造などの対象に対するＳ／ＴＥＭベースの計測用のインライン・プロセスも提供する。 （もっと読む）

【課題】複雑な形状の検査対象について正確に欠陥検出を行うことができなかった。
【解決手段】放射線を検査対象に照射し、前記検査対象を透過した放射線の強度に対応した透過放射線画像を取得し、基準の検査対象を撮影したときの透過放射線の強度が所定の強度になるようにオフセットを与えるための補正画像データを取得し、前記補正画像データによって前記透過放射線画像を補正した結果に基づいて、前記検査対象に欠陥が含まれるか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】 電子プローブマイクロアナライザを用いる地質年代測定と年代マップの表示を効率よく行う。
【解決手段】 （ａ）の分析領域Ｒに設定されているグリッド状の分析点（白丸で示す）と（ｂ）の分析領域に対応した反射電子像（原子番号の高い部分を黒く表示）の位置を対応させた状態が（ｃ）である。（ｄ）の棒グラフは、（ｃ）の直線Ｌ上に位置する分析点Ｌ１〜Ｌ１２における反射電子強度を表す。閾値Ｈ以上の反射電子強度を持つ分析点のみを測定対象とすると、（ｅ）中のＲ１〜Ｒ３は反射電子強度が閾値Ｈ以上の条件を満たす測定対象領域である。 （もっと読む）

【課題】高強度化、高導電率化とともに、優れた曲げ加工性を兼備した銅合金を提供することを目的とする。
【解決手段】強度と導電率とのバランスからＮｉ、Ｓｉ、Ｔｉを各々特定量含有する銅合金組織の、５０〜２００ｎｍの特定サイズの析出物の数密度を保証した上で、この範囲のサイズの析出物に含まれるＴｉの平均原子濃度を一定範囲に制御して、一定量のＴｉ含有析出物を存在させ、このＴｉ含有析出物による結晶粒成長抑制のピン止め効果によって、平均結晶粒径を２０μm 以下に微細化させ、前記銅合金に高強度、高導電率および曲げ加工性を兼備させる。 （もっと読む）

【課題】面分析における定量分析の精度を向上させる方法を提供する。
【解決手段】試料表面上に点分析位置と点分析位置を含むように面分析領域を指定し、点分析位置に一次エネルギー線を照射して発生した二次エネルギー線に基づいて点分析におけるピーク強度とバックグランド強度を取得し、面分析領域内を一次エネルギーで走査して発生した二次エネルギー線に基づいて面分析におけるピーク強度とバックグランド強度を取得し、次に、点分析におけるピーク強度とバックグランド強度から原子濃度を求め、面分析におけるピーク強度とバックグランド強度の内で点分析位置に対応した位置に存在する元素に対応したピーク強度とバックグランド強度と、求めた原子濃度から元素に対応した相対感度係数値を求め、この相対感度係数と面分析におけるピーク強度とバックグランド強度とに基づいて面分析領域の定量計算を行う。 （もっと読む）

【課題】高強度化、高導電率化とともに、優れた曲げ加工性を兼備した銅合金を提供することを目的とする。
【解決手段】強度と導電率とのバランスからＮｉ、Ｓｉ、Ｃｒを各々特定量含有する銅合金組織の、５０〜２００ｎｍの特定サイズの析出物の数密度を保証した上で、この範囲のサイズの析出物に含まれるＣｒの平均原子濃度を一定範囲に制御して、一定量のＣｒ含有析出物を存在させ、このＣｒ含有析出物による結晶粒成長抑制のピン止め効果によって、平均結晶粒径を３０μm 以下に微細化させ、前記銅合金に高強度、高導電率および曲げ加工性を兼備させる。 （もっと読む）

【課題】種々の形状の試料に対応した試料ホルダにより、試料より発生する蛍光Ｘ線の強度が最大になるようにＸ線源からの一次Ｘ線の照射位置を自動調整し、常に短時間で高感度、高精度の分析が行える斜入射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】環状の側部１１および底部１３を有する本体１８と、試料載置台１４と、試料載置台１４を支持し、その高さを調整する少なくとも３個の高さ調整具１５を有する試料ホルダ１と、試料ホルダの当接面１０４をセラミックスボール４７に押圧する押圧手段４０と、検出器３７が測定する試料Ｓより発生する蛍光Ｘ線３６の強度に基づき、Ｘ線管位置調整手段５５、分光素子位置調整手段５７および分光素子角度調整手段５８を制御する制御手段５６とを備え、試料Ｓより発生する蛍光Ｘ線３６の強度が最大になるようにＸ線源３からの一次Ｘ線３４の試料Ｓへの照射位置を自動調整する斜入射蛍光Ｘ線分析装置。 （もっと読む）