【課題】高次回折の特性Ｘ線を用いる状態分析において、高次線の測定を行う条件を自動的に設定し、得られたスペクトルを１次線の値に換算して表示できるようにする。
【解決手段】 入力装置１２から状態分析を行う元素の元素名、特性Ｘ線種及び回折次数を入力する。測定制御装置１１は指定された元素の特性Ｘ線種に従って記憶装置１４から１次線の波長データを読出し、回折次数に基づいて実際の分光波長位置と測定波長範囲を求める。さらに、指定された回折次数のＸ線信号のみが選別されるように、ＷＤＳ測定系８内のＰＨＡの条件を設定する。
測定された高次回折線のスペクトルを１次線の値に換算し、表示装置１３に表示する。 （もっと読む）

【課題】耐ノイズ性が高く、かつ潜像の深さ及び幅の特性を盛り込まれた数値的指標に基づく定量的な静電潜像評価方法及び静電潜像評価装置を提供する。
【解決手段】半導体レーザ１７ｂやＬＤ制御部１７ａを有する光像露光手段により静電潜像パターンが形成された光導電性試料００の、該静電潜像パターンが形成された面を、荷電粒子銃１１の荷電粒子ビームにより２次元的に走査し、評価手段（荷電粒子検出器２４、信号処理部２５ａ、解像力演算部２５ｂ、表示部２６、出力部２７、試料戴置台２８）は、前記静電潜像パターンによる電気的影響を受けた荷電粒子を捕獲して、その強度信号を前記面上の位置に対応させて検出し、検出した強度信号から静電潜像パターンを含む断面プロファイルを抽出し、かつ該断面プロファイルの露光部の強度信号から特徴量を抽出し、光導電性試料００の潜像解像力を算出する。 （もっと読む）

【課題】細胞間や細胞内で局在化しているｍＲＮＡやタンパク質を、局在空間情報を失わずに定量測定を行うことのできる方法を提供すること。
【解決手段】細胞あるいは試料薄片を所定の太さの棒状の等電点電気泳動用ゲルの間に挟み電気泳動を行わせる。これにより、細胞間や細胞内で局在化しているｍＲＮＡやタンパク質を２次元投影した形の分布の状態を保って、これらのｐＫ値に応じた位置まで等電点電気泳動用ゲル内を移動させる。その後、棒状の等電点電気泳動用ゲルをｐＫ値に応じた位置で薄膜状に切り取り、その位置にある内容物を調べて、局在空間情報を失わずに定量測定を行う。 （もっと読む）

【課題】金属材料の機械的特性を評価すべき部位が微小領域であっても、その機械的特性を高精度に評価できること。
【解決手段】フェライト含有ステンレス鋼の機械的特性を評価する金属材料の機械的特性評価方法において、機械的特性を評価すべき部位について電子線後方散乱回折像法分析によりフェライト相とシグマ相の相分析比を求める工程(Ｓ５、Ｓ６)と、機械的特性を評価すべき前記ステンレス鋼と同一成分系の材料について、電子線後方散乱回折像法分析によるフェライト相とシグマ相の相分析比と機械的特性の対応図を作成する工程(Ｓ１〜Ｓ４)と、この対応図と前記相分析比を求める工程で求めた相分析比とを比較して、フェライト含有ステンレス鋼の機械的特性を推定し評価する工程(Ｓ７、Ｓ８)と、を有するものである。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折法に基づいて硬組織を評価する際に、硬組織を破壊することなく測定を行うことができるようにし、もって、硬組織の評価を簡単且つ短時間で行えるようにする。
【解決手段】Ｘ線源１から出射したＸ線を硬組織４に入射させ、硬組織４で回折して硬組織４の透過側に出射したＸ線をＸ線検出器５で検出する硬組織の評価方法である。Ｘ線源１はＭｏＫα線以上のエネルギを有する特性Ｘ線を発生し、硬組織４は自身の長手方向にｃ軸配向した性質を有し、硬組織４は自身の長手方向がＸ線の光軸と交差するように配置され、Ｘ線検出器５はｃ軸に対応する格子面である（００２）面で回折した回折線の子午線Ａ−Ａ方向の強度を検出し、さらにＸ線検出器５は参照面である（３１０）面で回折した回折線の子午線Ａ−Ａ方向の強度を検出し、参照面と（００２）面の回折線強度との比較に基づいて硬組織を評価する。 （もっと読む）

顕微鏡対象物を検査するための装置。レンズの下には複数のＬＥＤがアレイで配列される。ＬＥＤのいくつかは点灯され、ＬＥＤのいくつかは点灯されない。コンピュータは、ＬＥＤアレイを制御する。コンピュータは、アレイから選択されたＬＥＤをオンにして点灯されたＬＥＤを形成する。また、コンピュータは、アレイから選択されたＬＥＤをオフにして点灯されないＬＥＤを形成する。点灯されたＬＥＤは、レンズの下に点灯されたＬＥＤのパターンを形成する。好ましい実施態様においては、レンズはコンピュータ制御されるカメラに接続され、顕微鏡対象物は顕微鏡的結晶である。別の好ましい実施態様においては、ＵＶ ＬＥＤが利用されて結晶を上方から照射する。別の好ましい実施態様においては、ＵＶ ＬＥＤが利用されてハンプトン・ピンのループを照射し、Ｘ線結晶解析のためにハンプトン・ピンのループにおける結晶の位置を求める。
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【課題】小角Ｘ線散乱と広角Ｘ線散乱とを同時に測定できると共に、広角Ｘ線散乱の測定精度を向上できる小角広角Ｘ線測定装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線源Ｆから出たＸ線を試料Ｓに照射し試料Ｓから発生する散乱線を小角度領域内で検出器２６によって検出する小角Ｘ線光学系と、試料Ｓと検出器２６との間に設けられており試料Ｓから発生する散乱線を広角度領域内で検出する広角Ｘ線光学系７とを有する小角広角Ｘ線測定装置である。広角Ｘ線光学系７は、試料Ｓと検出器７との間のＸ線光路上に設けられており、Ｘ線像を可視光像に変換する蛍光体３８と、蛍光板３８上に形成された可視光像を反射する光反射体４２と、光反射体４２で反射した可視光像を検出する光検出器４７とを有する。Ｘ線光路と交わる部分の蛍光体３８及び光反射体４２のそれぞれにＸ線用開口３９，４２が設けられ、その開口３９，４２は小角度領域の最大角度値を見込む開口径を有する。 （もっと読む）

【課題】結晶の外形に対して結晶軸がどのように取り付いているかを調べる全３軸の方位決定を高速で、かつ高精度に行うことのできるＸ線単結晶方位測定装置および測定方法を提供することにある。
【解決手段】特性Ｘ線による回折を利用する、ディフラクトメータ法を基本とし、Ｘ線検出器として、ＴＤＩ読み出しモードで動作するＣＣＤをベースにした２次元検出器を採用したことと、該２次元検出器により特定の（狙った）指数の反射を２点で捕らえることにより全３軸の方位決定を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
レーザー光のコントラストを改善し、適切なターゲット条件を選ぶことにより、高速電子発生を抑制し、高輝度でコヒーレント、高コントラストのＸ線を発生させる装置及び方法。
【解決手段】
真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、ガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止Ｘ線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を伴わないＸ線発生に最適な地点でＸ線を発生させる、高速電子発生を伴わない、高強度でコヒーレント、高コントラストのＸ線を発生させる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線ビームを形成する小型かつ軽量のＸ線ビーム源を得る。
【解決手段】Ｘ線ビーム源１３は、絶縁材１に挿入され電圧を印加する導入線２と、導入線２の一端に設けられた陰極と、陰極と対面して設けられ発生した電子ビームを衝突させてＸ線を発生させる陽極であるターゲット６と、導入線２、陰極及びターゲット６を収納しＸ線が通過するＸ線透過窓５を有する真空容器７と、Ｘ線透過窓５の外側に設けられＸ線から特性Ｘ線を選択的に取り出すフィルタ８と、真空容器７及びフィルタ８を収納するハウジング１０と、ハウジング１０に設けられ特性Ｘ線を収束するＸ線集光素子であるフレネルゾーンプレート（ＦＺＰ）９と、を有する。 （もっと読む）

【課題】固液界面の注目対象である特定元素(イオン)の構造もしくはその周辺の局所構造を容易に解析することができる評価方法と評価装置を提供する。
【解決手段】注目対象が含有される液体試料Sに対して、注目対象（Ｘ線の吸収原子）とは異なる材料からなる電極4を接触させる。この電極界面の液体試料SにＸ線エネルギーを変えながらＸ線を照射し、電極4近傍の注目対象にＸ線を吸収させて注目対象から電子を放出させ、その電子の放出に伴って電極4に生じる電気量を測定する。このＸ線エネルギーと電気量との関係から電極界面における注目対象またはその周囲の構造情報を解析する。 （もっと読む）

【課題】しきい値とベースラインとの関係による影響を受けることなく、対象物の境界面を常に正確に表すことのできる３次元画像化方法と、その方法を利用したＸ線断層雑像装置を提供する。
【解決手段】対象物Ｗのボリュームデータを構成するボクセルから、あらかじめ設定されているしきい値を用いて一定濃度の境界を表現するポリゴンデータを生成した後、その各ポリゴンの各頂点について、当該頂点を通り、かつ、その近傍の物体境界面の法線方向への軸に沿って、その軸の両側所定領域の濃度値を積算して得られるプロファイルを微分することによって得られるピーク値の座標を求め、その座標を当該頂点の座標として、各ポリゴンの各頂点座標を補正することで、しきい値に依存することなく正確に対象物の３次元画像を得る。 （もっと読む）

【課題】タンパク質結晶に損傷を与えることなく、かつ、簡便に、室温およびクライオ条件下でのＸ線回折実験に適用するためのタンパク質結晶試料の調製方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線回折測定に適した大きさの結晶の流出を防止する絞り領域を有するキャピラリーを用いて、その内部で結晶化、クライオプロテクタント処理およびＸ線回折測定による回折データ収集までの一連の工程を行う。 （もっと読む）

本発明はゴニオメータと、応力を測定し、小片の微細構造を特定する方法とに関する。前記ゴニオメータは、ベース（１）と、Ｘ線チューブと検出器用円弧（１１）とを備え三次元動作が可能なロボットによってベース（１）に可動可能で適応した測定ヘッド（１２）と、を備える。本発明によれば、前記ロボットは、測定中に、回動ジョイント（５，７，１５）と傾動ジョイント（３，１６，９）により、前記測定ヘッド（１２）を円弧状に移動させる手段を備える
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【課題】コンクリート構造物におけるコンクリート劣化が表面化していない早期の段階で、該構造物の劣化の危険性を予測することが可能なコンクリート劣化の診断システムを提供する。
【解決手段】コンクリート構造物及びその周辺の環境調査を行い対象とするコンクリート構造物の構造や立地条件を把握してコンクリートにおける劣化因子の抽出と劣化発生箇所の予測をし、該箇所のコンクリート表面について簡易な劣化の予兆検査を行い、予兆のあった箇所から採取したサンプルについて機器分析により精密な劣化診断をし、診断結果から劣化の予測を行う。 （もっと読む）

【課題】XRRによる膜厚測定結果に影響を与えることを抑制する手段を提供する。
【解決手段】Ｘ線源１１からのビームは放物線多層膜ミラー１５により進行方向を変えられ、制限スリット１７により絞り込まれ、モノクロメータ２１で波長選別が行われる。さらに制限スリット２３によりビームが絞られ、回転可能に取り付けられた試料Ｓに照射される。試料表面で反射したビームは、さらに制限スリット２５により絞られ、検出器２７に入射する。試料Ｓは大気中に露出されており、Ｘ線Ｌが照射され、その反射強度の角度依存性を測定することができるように構成されている。試料Ｓの表面は高純度ガスで覆われるように工夫されており、試料Ｓの表面に大気中の吸着汚染ガスが付着することを阻止するようになっている。すなわち、ガスボンベ３からガス純化装置３３にガス管３７により導入されたガスは、純化された後にガス流量制御器３５において流量が調節される。次いで、ガス供給器４１から高純度ガスＧが試料の表面に照射される。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折測定を用いて結晶の構造を正確に解析する。
【解決手段】対象試料にＸ線を照射したときに対象試料にて回折した回折Ｘ線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、両者の相対比を「対象試料の回折Ｘ線強度比」とする。また結晶の完全性が保証された参照試料にＸ線を照射したときに参照試料にて回折した回折Ｘ線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、両者の相対比を「参照試料の回折Ｘ線強度比」とする。参照試料に対してＸ線解析をする際の反射指数は、対象試料に対してＸ線解析をする際における反射指数に対して独立選択したものとしている。そして、「対象試料の回折Ｘ線強度比」を、「参照試料の回折Ｘ線強度比」で除算した値を、「規格化された回折Ｘ線強度比」としこの値から結晶状態を解析する。 （もっと読む）

【課題】大きな面積を有する分析する試料に、一次イオンを入射して発生させた二次イオンを検出して、試料を構成する元素、存在する深さを二次イオン質量分析法で、測定位置に依存する測定誤差を測定位置に応じて補正する二次イオン質量分析法を提供する。
【解決手段】試料２０に一次イオンを入射して発生させた二次イオンを検出して、試料２０を構成する元素、存在する深さを分析する二次イオン質量分析法において、深さ方向に分布を持った不純物等の元素を含む試料２０における元素の測定プロファイルから、試料２０の中心から測定位置までの距離に応じて一次イオンの入射角度を補正して、その補正した角度で分析する試料の分析が行われ、そのプロファイルとしては、試料２０にドープされている不純物を測定したプロファイルで、その不純物のピーク濃度深さにより行われる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折測定を用いて結晶の構造を正確に解析する。
【解決手段】対象試料にＸ線を照射したときに対象試料にて回折した回折Ｘ線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、「広開口角での対象試料の回折Ｘ線強度」と「狭開口角での対象試料の回折Ｘ線強度」とし、両者の相対比を「対象試料の回折Ｘ線強度比」とする。また結晶の完全性が保証された参照試料にＸ線を照射したときに参照試料にて回折した回折Ｘ線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、「広開口角での参照試料の回折Ｘ線強度」と「狭開口角での参照試料の回折Ｘ線強度」とし、両者の相対比を「参照試料の回折Ｘ線強度比」とする。そして、「対象試料の回折Ｘ線強度比」を、「参照試料の回折Ｘ線強度比」で除算した値を、「規格化された回折Ｘ線強度比」としこの値から結晶状態を解析する。 （もっと読む）

【課題】 試料を固定しながら、小角Ｘ線散乱装置により実現可能な、薄膜状の試料に対する小角Ｘ線散乱の測定方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線発生装置によりＸ線を発生し、当該Ｘ線発生装置から発生したＸ線を光学系により所定のＸ線入射ビームに形成し、当該形成したＸ線入射ビームを、試料保持部に搭載した測定試料に照射し、当該試料からの小角散乱Ｘ線をＸ線検出器により検出する小角Ｘ線散乱の測定方法において、板状の基板表面に薄膜状に形成された当該試料に対し、前記Ｘ線入射ビームをその側端面から、当該薄膜状試料の表面に対して負の角度を有する入射角度で入射する小角Ｘ線散乱の測定方法。 （もっと読む）