【課題】ＸＰＳ法を用いた化学状態分析において、内殻スペクトルのピーク形状が非対称であっても、表面の化学状態を定量的に評価できる導電性材料表面化学状態の定量的評価方法を提供する。
【解決手段】表面に官能基修飾処理が施されていない導電性材料について、ＸＰＳ法によって構造の異なる２種類以上の内殻スペクトルそれぞれをＸＹ座標に表示する第一工程と、第一工程においてＸＹ座標に表示された内殻スペクトル全ての内殻スペクトルに当て嵌まるように、それら内殻スペクトルをＸＹ座標の２以上の対称な関数に分解し、それら２以上の対称な関数の和によってＸＹ座標に表示された非対称なピーク関数を定義する第二工程と、測定対象の導電性材料について、非対称なピークを第二工程において定義された非対称なピーク関数を用いて分解し、そのピーク関数のＸＹ座標の面積の和を非対称なピーク面積として算出する第三工程とを含む導電性材料表面の定量的評価方法である。 （もっと読む）

【課題】実際のゴム材料から精度良くシミュレーション用のゴム材料モデルを設定して精度の良い計算結果を得るのに役立つ方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料のシミュレーション方法であって、前記ゴム材料のＸ線及び／又は中性子の散乱データを測定する測定工程Ｓ１と、前記散乱データからリバースモンテカルロ法によりゴム中の充填材の３次元構造を特定する可視化工程Ｓ２と、前記充填材の３次元構造に基づいてゴム材料モデルを設定するモデル設定工程Ｓ３乃至Ｓ６と、前記ゴム材料モデルに基づいて変形シミュレーションを行う工程とを含み、前記測定工程において、散乱ベクトルｑが１０^-4nm^-1よりも大かつ１０nm^-1よりも小の範囲の散乱データを得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに１μｍ〜０．１μｍ等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部１と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Ｆを有し、当該金属薄膜Ｆから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部２と、前記荷電粒子ビーム生成部２から射出された荷電粒子ビームを磁場又は電場により収束して、測定試料Ｓに照射する荷電粒子ビーム収束部３と、前記荷電粒子ビームが測定試料Ｓに照射された際に生じる放射線Ｒを測定する放射線測定部４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに１μｍ〜０．１μｍ等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部１と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Ｆを有し、当該金属薄膜Ｆから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部２と、前記荷電粒子ビーム生成部２から射出された荷電粒子ビームＩＢを磁場又は電場により収束して、測定試料Ｓに照射する荷電粒子ビーム制御部３と、前記荷電粒子ビームＩＢが測定試料Ｓに照射された際に生じる放射線Ｒを測定する放射線測定部４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】有機光学結晶にレーザー光を照射して連続的に使用するために、あらかじめ非破壊で容易かつ簡便な有機光学結晶のレーザー被照射耐性を評価する方法を確立すること、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を提供すること。
【解決手段】有機光学結晶にレーザーを照射する前に回折解析工程により、有機光学結晶のレーザー被照射耐性の有無を判断する評価方法を確立することができ、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を非破壊で容易かつ簡便に幅広い分野へ提供することができる。 （もっと読む）

【課題】ＺｎやＡｌ等の第三元素を含むＭｇ−Ｌｉ合金の強化機構を解明可能であり、Ｍｇ−Ｌｉ系合金を適切に評価することが可能な方法を提供する。
【解決手段】少なくともＭｇとＬｉと第三元素とを含んでなるＭｇ−Ｌｉ系合金の評価方法であって、高角度円環状検出器暗視野走査型透過電子顕微鏡法（ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ法）によって、Ｍｇ−Ｌｉ系合金のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ像を取得し、当該Ｍｇ−Ｌｉ系合金の構造、及び／又は、当該Ｍｇ−Ｌｉ系合金における重・軽元素（ＺｎやＬｉ）の偏在状態を確認することを特徴とする、Ｍｇ−Ｌｉ系合金の評価方法とする。 （もっと読む）

【課題】試料表面及び厚さ方向の構造を精度よく分析できる試料構造の分析方法及び分析装置を提供する。
【解決手段】この分析装置は、試料２００が配置されるステージ１０３と、Ｘ線照射機１０１と、Ｘ線検出器１０２と、針状電極１０５と、針状電極１０５と同期してレーザーを走査するレーザー照射装置１０６と、少なくともステージ１０３、該ステージ１０３に設置される試料２００、及び針状電極１０５が収容される真空チャンバ１２１と、電源装置１０８とを備え、試料２００にＸ線１１１を照射して、該試料にて回折されたＸ線１１２をＸ線検出器１０２で検出する工程と、試料２００に高電圧及びレーザー１１３を印加して、針状電極１０５と試料２００の間に生じた電界強度とレーザーパワーにより、該試料表面を電界蒸発して掘削する工程とを交互に行うように制御されている。 （もっと読む）

【課題】回折環の形状を短時間で精度良く検出できる、安価なＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】測定対象物ＯＢにＸ線を照射するＸ線出射器１３、測定対象物ＯＢにて回折したＸ線を受光して回折環を記録するイメージングプレート２８を固定するテーブル２７及びレーザ光をイメージングプレート２８に照射して、回折環の形状を読み取るレーザ検出装置ＰＵＨを設ける。テーブル２７の中心に、Ｘ線を通過させる貫通孔を設ける。回折環を撮像した後、スピンドルモータ２４及びフィードモータ１８によって、テーブル２７を回転させるとともにイメージングプレート２８の受光面に平行に移動させた状態で、レーザ検出装置ＰＵＨによって、イメージングプレート２８にレーザ光を照射して、イメージングプレート２８が発する光の強度が極大となるときのレーザ照射位置を取得する。 （もっと読む）

【課題】分析対象試料に赤外線とＸ線とを同時に透過させて測定することができると共に、装置の小型化を図ることができる赤外透過スペクトル測定装置を提供する。
【解決手段】赤外線を照射するための赤外線発生器１０と、赤外線発生器１０からの赤外線を分析対象試料３０に向けて反射させる第１反射鏡１１と、分析対象試料３０を透過した赤外線を赤外線検出器１３に向けて反射させる第２反射鏡１２とを備え、受光した赤外線をフーリエ変換分光法によって分光して分析対象試料を測定する赤外透過スペクトル測定装置において、分析対象試料３０に照射するためのＸ線発生器２０と、分析対象試料３０を透過したＸ線を受光する小角散乱検出器２１または広角散乱検出器２２のいずれか一方または両方とを備え、Ｘ線を挟んだ一方の側に第１反射鏡１１を配置し、Ｘ線を挟んだ他方の側に第２反射鏡１２を配置した。 （もっと読む）

【課題】多孔質材料の構造を容易かつ詳細に解析することを目的とする。
【解決手段】本発明の多孔質材料の構造解析方法は、小角電子線散乱により多孔質材料の電子線回折像の中央部に現れる小角電子線散乱部分を結像させることで小角電子線散乱像１５を形成することを特徴とする。特に、小角電子線散乱像１５の画像データに構造解析処理を施すことができる。また、小角電子線散乱部分の構造解析処理を併用することができる。さらに、透過像を併用することもできる。 （もっと読む）

【課題】粗大粒を有した材料の内部応力を短時間かつ高精度に測定可能な方法を提供する。
【解決手段】本発明の内部応力の測定方法は、被測定物に放射光Ｘ線を照射する照射工程（Ｓ１）と、被測定物から透過したＸ線回折のゲージ体積を２次元スリットにより制限する制限工程（Ｓ２）と、制限されたゲージ体積中の回折スポットを２次元Ｘ線検出器により検出する検出工程（Ｓ３）と、被測定物を移動させて照射工程から検出工程までを繰り返す工程（Ｓ４）と、検出された回折スポットに基づいてゲージ体積中心に相当する位置の回折角を決定する解析工程（Ｓ５）と、を備える。解析工程では、回折スポットの位置と回折強度とを関係を放物線近似し、かつ、放物線の頂点に対応する位置の回折角の値をゲージ体積中心に相当する位置の回折角に設定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料表面に一次イオンビームを照射して試料表面を除去しつつ、試料の深さ方向の分析を行うイオンビーム分析方法において、試料表面の汚染が少ない帯電防止方法を提供する。
【手段】試料１０表面に収束イオンビーム２４ａを照射して、試料１０表面に形成された絶縁層１２を貫通し、底面に試料１０の導電性基板１１を表出する凹部１０ａを形成する工程と、凹部１０ａの内部に金属イオンビーム２３ａを照射しつつ、同時に試料１０表面に一次イオンビーム２２ａを照射することを特徴とするイオンビーム分析方法。 （もっと読む）

【課題】放射光装置（高エネルギー電子蓄積リング）等の大がかりな装置を用いることなく、比較的簡易な連続Ｘ線光源を用い、被測定物に含有される各元素の平均密度、全量等を非破壊で測定することのできる定量分析方法、及び、そのような定量分析方法を実施することのできる元素別定量分析装置を提供する。
【解決手段】炭素系冷陰極電子源、チタンよりも原子番号の小さい導電性の軽元素からなり、冷陰極電子源から放出された電子が入射面に入射され、入射方向に対して前方にＸ線を放出するターゲット、及び、該ターゲットで発生したＸ線以外のＸ線を遮蔽する遮蔽部材を具備する連続Ｘ線光源と、エネルギー弁別型検出器とを用いて、被測定物のＸ線吸収スペクトルにおける含有各元素の吸収端ジャンプ量を求め、あらかじめ標準試料等で決定した元素別の質量吸収端ジャンプ係数と前記含有各元素の吸収端ジャンプ量に基づき、被測定物に含有される各元素について同時にＸ線透過経路上の面密度を測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの電子蓄積リングのような大がかりな装置を用いることなく、所定値以上のエネルギー領域において特性Ｘ線の無い連続Ｘ線を発生することのできるＸ線放射装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線放射装置は、炭素系冷陰極電子源、チタンよりも原子番号の小さい導電性軽元素ターゲットからなり、冷陰極電子源から放出された電子を入射するターゲット、及び、該ターゲットで発生したＸ線以外のＸ線を遮蔽する遮蔽部材を具備し、電子の入射方向に対して前方に放出するＸ線を利用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】内部標準試料を用いることなく、有機分子の結晶多形を２相以上含有する試料中に、少ない含有量で、具体的には、１重量％で含まれる結晶多形を、定量することができる方法を提供する。
【解決手段】有機分子の結晶多形を２相以上含有する試料を、リートベルト法による多相解析に付すことにより前記結晶多形を定量する方法であって、照射体積一定条件で収集され、ブラッグの条件で計算される面間隔値ｄが前記試料の最低角反射に相当する面間隔以上、１．５５Å以下の範囲における粉末Ｘ線回折データを用いて多相解析を行う。 （もっと読む）

【課題】しきい光電子分光を効率的に行うことができる装置および方法を提供する。
【解決手段】しきい光電子分光装置１は、第１光源１０、第２光源２０、照射光学系３０、真空容器４０、分子線生成部５０、撮像部６０および検出部７０を備える。準備段階において、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第１光源による第１パルス光出力タイミングを各値に設定して、分子線生成部による分子線生成，第１光源による第１パルス光出力および撮像部による蛍光撮像を行う。続く測定段階において、準備段階で撮像部による蛍光撮像により得られた蛍光像に基づいて決定されるタイミングおよび照射位置となるように、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第２光源による第２パルス光出力タイミングを設定するとともに、分子線への第２パルス光の照射位置を設定する。 （もっと読む）

【課題】 熱膨張または熱収縮による被搭載物の位置ずれを抑え得るマウント装置を提供する。
【解決手段】 マウント装置は、被搭載物を搭載するための搭載板、搭載板を載置する基台、搭載板と基台との間に配設されて搭載板を支持する第１支持部材、第２支持部材および第３支持部材であって、搭載板の被搭載物を搭載する面に平行で互いに垂直な２方向をＸ方向およびＹ方向と定義するとき、基台に対する搭載板のＸ方向の動きを規制し、Ｙ方向の動きを許容する第１支持部材、基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを許容する第２支持部材、および基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを許容する第３支持部材、ならびに、搭載板と基台との間に配設されて、基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを規制する規制部材を有する。 （もっと読む）

【課題】板状試料の大きさ、形状に関わらず、試料底面を試料台に接触させずに簡便に安定した状態で保持できる保持具を提供する。
【解決手段】板状上部保持部材２と板状下部保持部材３と両保持部材の間に試料を挟んだ状態で両保持部材を固定する固定手段（４、５、５a、５ｂ）とを備え、前記固定手段を、前記両保持部材の板中心から離れる位置に設ける構造とする。 （もっと読む）

【課題】コイル位置や磁場の調整を行うことない偏極ビームのスピン反転方法及びスピン反転装置を提供する。
【解決手段】空間部３１ｅに連通された開口部３１ｃ、３１ｄを備え、開口部３１ｃから入射させたスピンを有する粒子からなるビームを、開口部３１ｄから出射可能なスピン反転装置であって、開口部３１ｃ、３１ｄで、通過する粒子に次式（１）、（２）で表されるスピン非断熱遷移が起きる磁場を印加可能であるスピン反転装置３１を用いる。断熱ポテンシャルがＬａｎｄａｕ−Ｚｅｎｅｒ型交差の場合、[数１]


断熱ポテンシャルがＲｏｓｅｎ−Ｚｅｎｅｒ型非交差の場合、[数２]
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