【課題】粒子統計が著しく改善されたＸ線透過回折分析方法および装置の提供。
【解決手段】サンプルを基板に配置する段階、中心部分が平面に沿って延在する帯形Ｘ線ビームをＸ線放射線源により生成する段階、サンプルがビームの経路内となり、サンプルの薄片部がビームによって照射される初期位置に、基板およびサンプルを配置する段階、基板の初期位置に対する基板の以下の運動、すなわち、基板に垂直な回転軸線の周りの回転であって、所定の回転角にわたる基板およびサンプルの回転と、傾斜軸線の周りのビームの中心部分が延在する平面と回転軸線がなす角度として定義される傾斜角にわたる基およびサンプルの傾動であって、第１所定値と第２所定値の間で変化する傾斜角にわたる傾動とを実施する段階、及び基板の運動が実施される時間間隔の間にサンプルを透過し回折されたＸ線放射を前記検出器で検出する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】搬送装置によって縦向状態で搬送されるタイヤを無用に移動させることなく、または向きを変えることなく検査することのできるタイヤの非破壊検査装置を提供する。
【解決手段】タイヤＴＡを縦向状態で搬送する第１の搬送装置１から搬出されるタイヤＴＡを載置台１０に縦向状態で載置するとともに、載置台１０上のタイヤＴＡを回転支持機構２０で支持して回転させ、回転しているタイヤＴＡの透過Ｘ線像を各カメラ４１，４２によって撮像するようにしたので、第１の搬送装置１によって縦向状態で搬送されるタイヤＴＡを無用に移動させることなく、または向きを変えることなく検査することができ、タイヤＴＡを移動させ、または向きを変えるための機構を設けない分だけ装置全体の小型化及び製造コストの低減を図ることができる。 （もっと読む）

不活性ガス雰囲気にある試料を分析する蛍光Ｘ線分析装置において、分光室は不活性ガスで置換しないですむとともに試料室と連通せず、かつ十分な強度の２次Ｘ線を得ることができ、さらに隔壁が長寿命である装置を提供する。試料４が収納される試料室１と、試料４に１次Ｘ線６を照射するＸ線源７が収納され、前記試料室１と連通する照射室２と、試料４から発生する２次Ｘ線８を分光して検出する検出手段９が収納される分光室３と、前記照射室２と分光室３とを仕切るように配置されて前記２次Ｘ線８を通過させる隔壁１０とを備え、前記試料室１および照射室２が不活性ガスで置換されるとともに、前記分光室３が真空排気される。
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【課題】 ＦＰ法で試料の組成や面積密度を分析する蛍光Ｘ線分析装置などにおいて、種々の試料について、簡便にしかもジオメトリ効果を十分現実に則し加味して理論強度を計算し、十分正確に定量分析できるものを提供する。
【解決手段】 仮定した組成に基づいて、試料13中の各元素から発生する２次Ｘ線6 の理論強度を計算し、その理論強度と検出手段9 で測定した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが一致するように、仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、試料13の組成を算出する算出手段10とを備え、その算出手段10が、理論強度を計算するにあたり、試料13の大きさ、ならびに試料表面13a の各位置に照射される１次Ｘ線2 の強度および入射角φをパラメータとして、光路ごとに２次Ｘ線6 の理論強度をシミュレーション計算する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、電子ビームを利用して、パターン像等を取得する検査装置に関し、特に、ウィーンフィルタによる収差や電子ビームの強度むらを低減することができる検査装置に関する。
【解決手段】 電子ビームの照射手段１と、試料からの二次ビームを検出する電子検出手段２と、照射手段１および電子検出手段２と、試料との間に配され、照射手段１の電子ビームを曲げて試料面に垂直照射させ、かつ試料からの二次ビームを電子検出手段２に導くウィーンフィルタ３と、検出した二次ビームから試料の画像情報を生成してコントラストを求めるコントラスト検出手段５と、照射手段１とウィーンフィルタ３との間に配置され、ウィーンフィルタ３へのビーム入射角またはビーム入射位置を変える偏向手段４とを備え、ビーム入射角またはビーム入射位置を変えて、コントラスト検出手段５のコントラストを最大にする。 （もっと読む）

【課題】原子スケールの空間分解能により元素を同定することを可能にする。
【解決手段】測定対象に対してビーム径が１ｍｍよりも小径な高輝度単色Ｘ線を照射するＸ線照射手段と、上記測定対象に対向して配置される探針と、上記探針を介してトンネル電流を検出して処理する処理手段と、測定対象と上記探針と上記測定対象に対する高輝度単色Ｘ線の入射位置とを相対的に移動するための走査手段とを備える走査型プローブ顕微鏡とを有する。 （もっと読む）

本発明は、包装機械に用いられるセンサ装置であって、包装機械（１８）の少なくとも１つの搬送手段（２１，３２）が設けられており、該搬送手段（２１，３２）が、包装しかつセンシングしたい少なくとも一種類の材料（１９）を包装機械（１８）の種々異なるステーション（１〜１２）に運動させるようになっている形式のものに関する。本発明によれば、少なくとも１つのＸ線源（３３）と検出器（３７）とが、Ｘ線源（３３）と検出器（３７）との間に位置するセンシングしたい材料（１９）を透視するために設けられている。
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対象物の画像を記録する為の走査方式の放射線検知装置であって、対象物と相互作用をした後、扇形イオン化放射線ビームに暴露される一次元検知器ユニット（４１）と、前記対象物の二次元画像を作成する為に反復して検知している間、対象物に対して一次元検知器ユニット（４１）及び扇形ビームを相対移動させるデバイス（８７，８８，８９，９１）と、反復検知を制御する為の制御装置を備える。一次元検知器ユニット（４１）は、イオン化放射線感応厚さｄｔを有し、厚さｄｔは、一次元検知器ユニットを照射する時には、扇形ビームの厚さよりも大きい。各々の一次元画像の暴露時間を短くし、且つ二次元画像の空間分解能を高くする為に、扇形ビームの一次元画像は、前記移動のｎ番目の長さ単位毎に記録される。ここで、ｎは、この長さ単位において扇形ビームの厚さのほぼ半分よりも小さくはなく、この長さ単位において一次元検知器ユニット（４１）のイオン化放射線感応厚さ（ｄｔ）より小さい。
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【課題】カーボンナノチューブ電子源のエミッション変動や、エミッション特性の個体差による試料表面の帯電不均一を解消する。帯電制御の処理中に試料表面の帯電をリアルタイムで計測する。
【解決手段】電子照射密度の不均一に起因した帯電不均一を解消する手段として、照射する電子と試料とを相対的に移動させ、電子照射密度の平均化を行う。また、試料表面の帯電をリアルタイムでモニタする手段として、試料に流れ込む吸収電流や試料より放出される２次電子及び反射電子の数を計測する。 （もっと読む）

【課題】
非破壊検査による検査・試験パスの短縮を図り例えば薬剤開発期間の短縮、しいては製造・品質の安定化を図った分子構造複合同定装置を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、被検試料載置板１６に載置された同じ被検試料１７に対して０．５ｍｍ以下の直径に制限したＸ線ビームと赤外線・可視光・紫外線の何れか一つあるいは複数の波長ビームを照射する照射光学系（１，１２；２，２２，１１）と、前記被検試料から得られるＸ線回折パターン及び前記被検試料から放出される反射光又は散乱光を検出する検出光学系（９；１１，３，５）とを備え、前記被検試料から同時または連続して少なくともＸ線回折スペクトル及び可視光による反射光像を検査できるように構成した分子構造複合同定装置である。 （もっと読む）

Ｘ線光学装置は、光学装置と、Ｘ線ビームの一部を選択的に遮る調整可能なアパーチャとを含む。調整可能なアパーチャは、光学装置と試料との間に配置され、光学装置と一体化されるか、又は光学装置に近接して配置される。調整可能なアパーチャにより、ユーザがＸ線の収束を容易かつ効果的に調整できるようになる。このようにすることで、可能性のある測定をすべて考慮した最大収束を有する光学装置を使用し、アパーチャを調整して特定の測定に合わせた収束を選択することにより、Ｘ線光学装置の光束及び解像度を最適化することができる。
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【課題】 基板表面に形成された膜の表面または膜中に存在する被測定物を溶解、乾燥させて基板表面に保持する気相分解装置などにおいて、基板表面に形成された膜が厚くてもマッピング分析が可能なものを提供する。
【解決手段】 基板表面１ａに形成された膜の表面または膜中に存在する被測定物を前記膜とともに反応性ガスにより溶解し、反応副生成物である水を不活性ガスおよび／または減圧により乾燥させて、被測定物を基板表面１ａに保持する気相分解装置２０であって、前記溶解と乾燥を繰り返すことにより、被測定物の基板表面１ａにおける位置を維持する。 （もっと読む）

【課題】 軽量かつ比較的容易に製造できるＸ線反射装置及び当該Ｘ線反射装置を構成するためのＸ線反射素子を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＸ線反射素子は、固体シリコンからなる本体と、前記本体の表面から裏面に貫通するよう形成された複数のスリットとを有し、前記各スリットの壁面をＸ線反射面とする。本発明に係るＸ線反射装置は、上記いずれかのＸ線反射素子を、互いのスリットが所定の位置関係となるよう複数段積層して構成するか、互いのスリットが所定の位置関係となるよう横方向に並べて構成するか、あるいは、Ｘ線反射素を、互いのスリットが所定の位置関係となるよう上下方向に積層し、かつ、横方向に並べて構成することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの測定、検査、欠陥レビュー用などの走査電子顕微鏡において、画像を撮像する時間の短縮と高画質撮像の両立を実現する。
【解決手段】大ビーム電流を用いて低倍画像を撮像し、小ビーム電流を用いて高倍画像を撮像し、ビーム電流の変化によって発生する撮像画像の輝度変化、焦点ずれ、アライメントずれ、視野ずれを補正する制御量を予め全体制御系１１８内のメモリに保存しておき、ビーム電流を切り替える都度これを補正することにより、電流を切り替えた後の調整作業なしで画像を撮像することを可能にする。また、電子ビームの照射経路中に絞り８０１を設けることにより、電流切り替え時間を短縮する。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で、Ｘ線管の負荷が変わっても蛍光Ｘ線の強度にほとんど影響しない全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】 筒状の筐体11内に、その筐体11の軸方向を長手方向L とする棒状のターゲット10と、そのターゲットの長手方向L に配置されたフィラメント13とを有し、陰極である前記フィラメント13から放射した熱電子14を陽極である前記ターゲット10の端面に衝突させて、そのターゲット10から発生して前記筐体11の側壁に向かうＸ線を窓12を介して出射する点光源のＸ線管1 を備え、そのＸ線管1 からのＸ線2 を分光素子4 で単色化して帯状の１次Ｘ線3 として試料表面5aに微小な入射角度αで入射させ、発生する蛍光Ｘ線6 の強度を検出手段7 で測定する。ここで、前記ターゲットの長手方向L が試料表面5aと平行になるように前記Ｘ線管1 が配置されている。 （もっと読む）

【課題】半導体等を高速に検査できるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供する。
【解決手段】電子光学系を少なくても３本以上配置し、複数の電子源を搭載した電子銃室を試料室とは独立に真空排気することによって複数の電子源近傍の真空度を常に高真空に保つ。また、電子線通路を高真空排気可能な遮蔽電極で電界および磁界を各電子光学系内に封じ込めることとともに、試料に負の電圧を設定して二次電子や反射電子を電子線光軸の電子源側の方向に加速することによって、二次電子や反射電子を同一光学系内で検出する。 これにより、同一の回路パターン同士でほぼ同時に得られた検出信号を比較し、パターン検査の欠陥判定を同時に行う。 （もっと読む）

【課題】エネルギー入力ビームをコリメートするための方法及び装置
【解決手段】特に対象物（１）の検査領域（２）を撮像するための照射方法であって、少なくとも１つのエネルギー入力ビーム源（２１０）によって、複数の個々のエネルギー入力ビーム構成要素（３．１、３．２、３．３、・・・）を備える少なくとも１つのエネルギー入力ビーム（３）を生成することと、複数の投影方向に沿って、少なくとも１つのエネルギー入力ビーム（３）によって検査領域（２）を照射することとの各工程を備える方法において、このエネルギー入力ビーム構成要素（３．１、３．２、３．３、・・・）は、貫通穴を有し、エネルギー入力遮蔽材でできている少なくとも１つのビームマスク（２１１）によって形成されることを特徴とする方法。さらに、対象物を照射するまたは撮像するための撮像方法および装置が記述される。 （もっと読む）

【課題】 被測定物に対して斜めから測定波を照射し被測定物から反射される反射波の回折角から被測定物のひずみを測定するひずみ測定方法において測定精度を向上する。
【解決手段】 本発明のひずみ測定装置は、被測定物２４に所定の光束の測定波を照射する照射手段１０と、被測定物２４によって反射された反射波を検出する検出手段２０と、検出手段２０で検出される反射波を、被測定物２４中及び／又はその近傍に設定される測定領域から反射される反射波に制限する制限手段１６，１８と、検出手段２０で得られた検出結果を、前記測定領域とその測定領域内に存在する被測定物との幾何学的関係から補正する第１補正手段と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ミラー電子を使った電子線式検査装置においては、ウェハ上で予備帯電された領域の境界が像となって現れてしまい、正しい検査ができなかった。また、予備帯電は検査と同時に行われるため、照射時間を長くする必要がある場合、ステージの移動速度を遅くせざるを得ず、検査速度が遅くなってしまっていた。
【解決手段】予備照射のビーム源とウェハとの間に、そのサイズが可変な開口を設け、その大きさの一辺をウェハのチップ列の幅と等しくなるように設定し、かつ、チップ列と垂直方向へのウェハの動きに合わせて、開口も移動するように制御する。また、ステージの移動速度を遅くすること無く、ウェハの検査時のステージ移動途中に十分なビーム照射ができるように、その開口をチップ列と平行な方向に大きくするよう設定できるようにした。 （もっと読む）

【課題】 光電子顕微鏡内の１０^-5Ｐａ以下という超高真空下において確実にガス吸着を実現でき、かつ、この超高真空を安定して維持できる試料装置を提供する。
【解決手段】 光電子顕微鏡内において試料表面のガス吸着反応を観察するための試料装置において、試料ステージ上に保持した試料の表面に反応ガスを吹き付ける噴霧ノズルを該試料ステージと一体に設置し、該噴霧ノズルによる反応ガス吹き付け角度を該試料表面に対して５〜３０度、該試料表面から該噴霧ノズルの先端までの高さを１〜５ｍｍとしたことを特徴とする。 （もっと読む）