【課題】簡単な構成で６価クロムを定量分析できる蛍光Ｘ線分析装置などを提供する。
【解決手段】Ｘ線源４、発散スリット１１、分光素子６、受光スリット２０、検出器８、分光素子６と受光スリット２０および検出器８とを連動させる連動手段１０、ならびに、検出器８の測定結果に基づいて定量分析を行う定量分析手段１８を備えた走査型蛍光Ｘ線分析装置である。定量分析手段１８が、Ｃr −Ｋα線２２において強度が最大となるピーク分光角が６価クロムの含有率対クロム全体の含有率の比に応じて変化することに基づいて、６価クロムの含有率を算出する。発散スリット１１、分光素子６、受光スリット２０および検出器８の組合せとして分解能が相異なる複数の検出手段２３を備え、ピーク分光角の変化を検出する際に、クロム全体の含有率または強度を求める際に選択される検出手段２３Ａよりも分解能が高い検出手段２３Ｂが選択される。 （もっと読む）

【課題】日常の使用に適するＸ線回折計を提供する。
【解決手段】
軸まわりに回転可能であり、試料を取り付ける試料ステージ、前記試料ステージにおける試料にＸ線放射を向ける二重ピンホールコリメーター、前記試料によって回折されるＸ線を検出する検出器、及び、前記試料ステージ及び前記検出器の間に配置され、前記試料によって回折されたＸ線を前記検出器上に向ける分析器結晶、を含むＸ線回折計であって、前記分析器結晶及び前記検出器は、前記試料ステージの回転の軸と同軸である軸まわりに回転可能であるＸ線回折計を提供する。 （もっと読む）

【課題】高精度の試料ステージ機構を用いることなく、メモリーセルをカウントし、特定のセルの位置を検出する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。更に、試料の繰り返しセルの少なくとも３つの端の位置に基づいてセルの配列を求め、このセルの配列から目的セルの位置を特定する。ビーム偏向機能によるズームとソフトウエアによるズームを組み合わせてズーム画像を生成し、試料ステージを移動させることなく、ソフトウエアによって画像シフトを行う。 （もっと読む）

【課題】 強度の弱いＸ線を試料に照射できるＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】 試料４を照射する１次Ｘ線の強度が強すぎる場合、メッシュ７がＸ線管５と試料４の間に配置される。Ｘ線管５からの１次Ｘ線１５は、メッシュ７で吸収されて遮断される。すなわち、メッシュ７の金７ｃは全波長領域にわたってＸ線吸収係数が高い材料なので、１次Ｘ線１５はその金７ｃで吸収されて遮断される。メッシュ７の開口７ｄを通過した１次Ｘ線１５’が試料４を照射する。このように、Ｘ線管５からの１次Ｘ線はメッシュ７によりその強度が弱められて試料４を照射する。 （もっと読む）

【課題】
マイクロチップを用いて複数元素を同時に高感度に分析できるようにする。
【解決手段】
マイクロチップ１は、基板３０と、基板３０の内部に形成された流路２３と、基板３０の平坦な表面の一部からなり、流路２３の出口が開口９ｃとして形成され、その開口９ｃから溢れ出た測定対象液が基板３０の平坦な表面にとどまって分析試料となる分析部１０とを備えている。このマイクロチップ１を使用して、分析部１０に測定対象液を分析試料として溢れ出させ、好ましくは分析試料を乾燥させた後、１次Ｘ線を全反射の条件で入射させて蛍光Ｘ線を検出する。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線回折法による多層構造結晶の構造劣化の評価において、従来法と比較して検出感度を向上させた結晶の構造解析方法を提供する。
【解決手段】 所定の結晶面の基板上に形成された多層構造結晶を、Ｘ線回折により測定して、該多層構造結晶の回折プロファイルを取得する際、Ｘ線回折装置の受光系の開口角条件のみを変えて、同一の反射指数をもつ回折プロファイルを複数測定する工程と、得られた該複数の回折プロファイル中に観測される多層構造に対応するピーク又は一連のピーク群の最大回折強度を示す点を、回折強度軸及び回折角度軸とも揃えることにより、該複数の回折プロファイルを重ねて表示する工程と、表示された該複数の回折プロファイル間のプロファイル形状の差異を比較抽出する工程とを有し、差異の比較抽出により、多層構造結晶の構造劣化の有無及び程度を判定する結晶の構造解析方法。 （もっと読む）

【課題】複数の電子線間のクロストークを防止し、放出される２次電子を効率良く検出器に導くことができ、スループットを向上した欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】２次電子の像面1005での開口角度と拡大倍率から、対物レンズから見た試料面1010での見掛けの角度を求め、該見掛けの角度と、２次電子の初期エネルギーと、対物レンズのビームポテンシャルから試料面での受け入れ角度を求め、該受け入れ角度を基に、２次電子の収率を求め、所要のＳ／Ｎ比と、開口角で決まる分解能に基づいて、隣接１次電子線の照射間隔をクロストークが問題にならないような距離以上に離す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、Ｘ線分析を実施する装置に関する。
【解決手段】装置１は、Ｘ線管２と、被分析サンプルが設置された位置５のミクロ領域に、X線を焦点化する少なくとも１つのキャピラリレンズ４と、を有する。さらに装置１は、サンプルからの蛍光X線を検出する検出器6を有する。また装置１は、X線管２とキャピラリレンズ４との間の光路に設置された、少なくとも一つのエネルギー依存性フィルタ３を有する。このフィルタ３は、所定の閾値よりも小さなエネルギーを有するX線を実質的に遮蔽するように適合されている。 （もっと読む）

地下、容器内、壁、隔壁等の背後に隠された物体をリアルタイムで安全に検出する凝視コンプトン後方散乱Ｘ線用の、独特なロブスターアイ（ＬＥ）構造、Ｘ線発生器、シンチレータベースの検出器、および冷却ＣＣＤ（すなわち増感ＣＣＤ）に基づいたロブスターアイＸ線画像処理システム。既存の走査型ペンシルビームシステムとは対照的に、ロブスターアイＸ線画像処理システムの真の焦点が調整されたＸ線光学系は、１つまたは２以上のＸ線発生器からの広いオープンコーンビームによって照射されたシーン全体から、弾道コンプトン後方散乱光子（ＣＢＰ）を同時に得る。ロブスターアイＸ線画像処理システムは、４０から１２０ｋｅＶの範囲（すなわち波長λ＝０．３１から０．１オングストローム）において、現在の後方散乱画像処理センサ（ＢＩＳ）よりも何千倍も多い後方散乱硬Ｘ線を収集する（焦点に集める）ので、高感度で高信号対雑音比（ＳＮＲ）であり、地面、金属、壁等を貫通する能力を提供する。ロブスターアイＸ線画像処理システムの収集効率を最適化して、放射されるＸ線パワーを低減し、装置を小型化する。該装置は、Ｘ線ベースの検査システムに特に好都合であり、該Ｘ線ベースの検査システムの要件、すなわち、地面、金属、および他の隠蔽材料を通したＸ線の貫通、安全性、および人による可搬性の要件を満たしている。ここに開示された先進技術は、医療診断や、地雷探知、手荷物検査等のような軍事的応用にも適用可能である。 （もっと読む）

【課題】
試料内部の微小空間における元素分析を非破壊的に行なえるようにする。
【解決手段】
基端部がＸ線源１に結合され微細な内部通路を通って先端から励起用の微細なＸ線ビームを照射するＸ線照射用ガイドと３、基端部がＸ線検出器５に結合され先端から入射したＸ線を内部通路を通ってＸ線検出器５に導くＸ線検出用ガイド７を、それらの内部通路の軸線がそれぞれの延長線上で互いに交差するようにそれぞれの先端側から試料に挿入し、ガイド３の先端から照射されたＸ線により試料から発生した蛍光Ｘ線がガイド７の先端に届く距離まで両ガイド３，７の先端を接近させて配置し、ガイド３の先端からＸ線を照射し、その照射Ｘ線により試料内部で発生した蛍光Ｘ線をガイド７によりＸ線検出器５に導いて検出する。 （もっと読む）

【課題】増強された分解能をもつＸ線散乱測定を用いた試料の検査方法を提供する。
【解決手段】その試料の検査方法は、試料に向かってＸ線ビームを誘導する段階と、試料から散乱させられたＸ線を捕捉すべく検出器素子のアレイを構成する段階とを含む。試料は、アレイのピッチの整数倍数でない増分だけ相互に分離された少なくとも第１および第２の位置との間で該アレイの軸に平行な方向にシフトされる。試料がそれぞれ少なくとも該第１および第２の位置のそれぞれにあるときに検出器素子が捕捉したＸ線に応答して、該検出器素子により少なくとも第１および第２の信号が生成される。この第１および第２の信号は、前記軸に沿った位置の関数として、試料のＸ線散乱プロファイルを決定すべく合成される。 （もっと読む）

【課題】異物検査と気泡検査とを同時に行い、手間と時間をかけずに全ての被検査物の検査を行う。
【解決手段】制御手段１３は、被検査物２にＸ線を曝射したときのＸ線透過量と予め設定された異物混入用のしきい値とを比較して異物の混入を判別して被検査物２の良否を判定する。制御手段１３は、被検査物２にＸ線を曝射したときにＸ線透過量が予め設定された気泡判別用のしきい値以上の部分を気泡と判別する気泡有無判別手段１３ａと、気泡有無判別手段１３ａによって気泡と判別された部分の面積を算出する面積算出手段１３ｂと、面積算出手段１３ｂで算出された面積の合計値が予め設定された基準面積以上のときに被検査物２の良否を判定する良否判定手段１３ｃとを有し、被検査物２の異物有無の良否判定と気泡量の良否判定とを同時に行う。 （もっと読む）

【課題】 結晶アナライザの取付け方法を改良することにより、ダブルスリットアナライザ、平行スリットアナライザ、結晶アナライザという３つの受光素子を容易に交換できるようにする。
【解決手段】 第１スリット１２ａと、そのＸ線通過部Ｂの幅を調整する装置１７と、第２スリット１２ｂと、そのＸ線通過部Ｂの幅を調整する装置１７と、第１スリット１２ａと第２スリット１２ｂとの間に設けられていて平行スリットアナライザ１８及び結晶アナライザ１９を１つずつ交換して固定状態で支持できるアナライザ支持装置１３と、第２スリット１２ｂを平行移動させるスリット位置移動装置９とを有するアナライザ４である。スリット位置移動装置９による第２スリット１２ｂの平行移動方向は、アナライザ支持装置１３が結晶アナライザ１９を支持したときにその結晶アナライザ１９で回折するＸ線が進む方向にスリット１２ｂのＸ線通過部Ｂを変位させる方向である。 （もっと読む）

【課題】
簡単な構成でありながら、エネルギ線の照射位置と集光ミラー部の焦点との位置調節を容易にすること及び振動などによる集光ミラー部の位置ずれを防ぐことである。
【解決手段】
エネルギ線ＥＢを試料Ｗに照射することにより生じる光を測定する試料測定装置１であって、エネルギ線ＥＢを収束させる鏡筒部２３と、前記鏡筒部２３及び前記試料Ｗの間に設けられ、前記鏡筒部２３で収束されたエネルギ線ＥＢを通過させ、そのエネルギ線ＥＢを試料Ｗに照射するためのエネルギ線通路３１２と、その通路３１２の軸線上に焦点Ｆが設定されたミラー面３１１と、を有し、試料Ｗから生じる光Ｌを前記ミラー面３１１により集光する集光ミラー部３１と、を備え、前記エネルギ線ＥＢの軸と前記焦点Ｆとを一致させるように、前記鏡筒部２３に前記集光ミラー部３１を支持させている。 （もっと読む）

【課題】電子線装置のスループット向上、精度向上等の改善を目的とする。
【解決手段】本発明に係る電子線装置においては、電子線を放出する単一の電子銃と、コンデンサレンズと、複数の孔を設けた開口板と、Ｅ×Ｂ分離器と、対物レンズを有し、前記電子銃からの電子線を検査されるべき試料面上に照射する第一次光学系と、前記試料から放出され、前記対物レンズで加速され、かつ前記Ｅ×Ｂ分離器で前記第一次光学系から分離された二次電子を、二次電子検出装置に入射させる第二次光学系とを備え、前記コンデンサレンズを２段として前記電子銃に隣接して配置し、前記２段のコンデンサレンズの後方に前記開口板を配置し、電子線を前記開口板に照射して複数の電子ビームを形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】 結晶面に対応した複数の回折Ｘ線を同時に検出して、膜内の複数の結晶構造を迅速にかつ同時に特定すること。
【解決手段】 測定用媒体２を固定設置し、かつ、膜の表面に対する放射光Ｘ線１１の入射角度を所定の角度に制限した状態にして、放射光Ｘ線１１を入射させ、膜内の結晶面に対応して発生した複数の回折Ｘ線２１を全て同時に検出し、検出された複数の回折Ｘ線２１の強度を評価して測定用媒体２内に存在する複数の結晶構造を同時に特定する。 （もっと読む）

【課題】 コンベアを容易に引き出すことができ、清掃性及びメンテナンス性に優れたＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 本体フレーム（２）と、搬送経路（Ｒ）の側方へのＸ線の漏洩を防止するＸ線漏洩防止カバー（３）と、それを回動支持する回転軸（２１）と、を備え、Ｘ線漏洩防止カバー（３）及び回転軸（２１）の最下端部を、コンベア（４１）を検査領域（Ｆ）外へ移動する移動手段（４３）を有する搬送機構（４）の最上端部よりも上方に位置させたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 蛍光Ｘ線分析装置において、試料の位置合わせを容易にかつ正確に実現することにある。
【解決手段】 蛍光Ｘ線分析装置１は、試料が搭載される試料ステージ５を有する筐体４と、筐体４内に配置され試料にＸ線を照射するＸ線管８と、筐体４内に配置され試料からの蛍光Ｘ線を検出する検出器１１と、筐体４内に配置され試料にレーザー光を照射するレーザー９とを備えている。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程途中のウエハ検査で、高分解能を維持して浅い凹凸、微小異物のレビュー、分類を高精度に行う目的で、二次電子を検出系の中心軸を合わせると共に、検出系の穴による損失を避けて高収率な検出を実現する。
【解決手段】高分解能化可能な電磁界重畳型対物レンズにおいて、試料２０から発生する二次電子３８を加速して対物レンズ１０による回転作用の二次電子エネルギー依存性を抑制し、電子源８と対物レンズ１０の間に設けた環状検出器で二次電子の発生箇所から見た仰角の低角成分と、高角成分を選別、さらに方位角成分も選別して検出する際、加速によって細く収束された二次電子の中心軸を低仰角信号検出系の中心軸に合わせると共に、高仰角信号検出系の穴を避けるようにＥｘＢで二次電子を調整・偏向する。 （もっと読む）

【課題】画像再構成におけるアーチファクトを低減することを可能とする方法及び装置の提供。
【解決手段】目的物の検査領域２を撮像するための方法は、複数の投影方向に沿って少なくとも一つのエネルギー入力ビーム３を検査領域２に照射するステップを具備し、少なくとも一つのエネルギー入力ビーム３は、複数の別個のエネルギー入力ビーム成分を備え、エネルギー入力ビーム３は、少なくとも二つのエネルギー入力ビーム成分が異なる断面を有し、一つの投影方向に平行する平行エネルギー入力ビーム成分５．１、５．２、５．３、…のグループ５が検査領域２を連続的に照射するように成形される。さらに、目的物を撮像するための装置が記述される。 （もっと読む）