【課題】 Ｘ線分析装置及びＸ線分析方法において、Ｘ線源を安定に挙動させ、定量分析を安定して行なうこと。
【解決手段】 １次Ｘ線を試料１に照射するＸ線管球３と、１次Ｘ線の強度を調整可能な１次Ｘ線調整機構４と、試料１から放出される特性Ｘ線を検出し該特性Ｘ線及び散乱Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器５と、上記信号を分析する分析器６と、試料１とＸ線検出器５との間に配設されＸ線検出器５に入射される特性Ｘ線及び散乱Ｘ線の合計強度を調整可能な入射Ｘ線調整機構７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折測定を用いて結晶の構造を正確に解析する。
【解決手段】対象試料にＸ線を照射したときに対象試料にて回折した回折Ｘ線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、「広開口角での対象試料の回折Ｘ線強度」と「狭開口角での対象試料の回折Ｘ線強度」とし、両者の相対比を「対象試料の回折Ｘ線強度比」とする。また結晶の完全性が保証された参照試料にＸ線を照射したときに参照試料にて回折した回折Ｘ線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、「広開口角での参照試料の回折Ｘ線強度」と「狭開口角での参照試料の回折Ｘ線強度」とし、両者の相対比を「参照試料の回折Ｘ線強度比」とする。そして、「対象試料の回折Ｘ線強度比」を、「参照試料の回折Ｘ線強度比」で除算した値を、「規格化された回折Ｘ線強度比」としこの値から結晶状態を解析する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折測定を用いて結晶の構造を正確に解析する。
【解決手段】対象試料にＸ線を照射したときに対象試料にて回折した回折Ｘ線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、両者の相対比を「対象試料の回折Ｘ線強度比」とする。また結晶の完全性が保証された参照試料にＸ線を照射したときに参照試料にて回折した回折Ｘ線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、両者の相対比を「参照試料の回折Ｘ線強度比」とする。参照試料に対してＸ線解析をする際の反射指数は、対象試料に対してＸ線解析をする際における反射指数に対して独立選択したものとしている。そして、「対象試料の回折Ｘ線強度比」を、「参照試料の回折Ｘ線強度比」で除算した値を、「規格化された回折Ｘ線強度比」としこの値から結晶状態を解析する。 （もっと読む）

【課題】広範囲な医療用途などに対して適用することが可能な、高出力かつ高輝度で平行性に優れたＸ線を利用して、高解像度かつ短時間で目的とする被写体のＸ線画像を得ることが可能な画像測定方法及び画像測定装置を提供する。
【解決手段】回転式ターゲットの表面に所定のエネルギー線源からエネルギー線を照射し、被写体の最大長に相当するような大きさを有するように前記ターゲットからＸ線を発生させる。次いで、前記Ｘ線を分光器に入射させ、前記Ｘ線から波長及び波長幅を選択するとともに、平行光となった平行Ｘ線を生成する。次いで、前記平行X線を前記被写体の周りに相対的に回転させながら照射し、前記被写体より得たＸ線画像を検知する。 （もっと読む）

【課題】広範囲な医療用途などに対して適用することが可能な、高出力かつ高輝度で平行性に優れたＸ線を利用して、高解像度かつ短時間で目的とする被写体のＸ線画像を得ることが可能な画像測定方法及び画像測定装置を提供する。
【解決手段】ターゲットの表面に所定のエネルギー線源からエネルギー線を照射し、被写体の最大長に相当するような大きさを有するように前記ターゲットからＸ線を発生させる。次いで、前記Ｘ線を分光器に入射させ、前記Ｘ線から波長及び波長幅を選択するとともに、平行光となった平行Ｘ線を生成する。次いで、前記平行Ｘ線を前記被写体の周りに相対的に回転させながら照射し、前記被写体より得たＸ線画像を検知する。 （もっと読む）

【課題】物理量検査領域の各区画毎に、物理量算出結果をそれに対応するＸ線画像と関連付けた把握容易な表示を行なうことができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線源２と、Ｘ線検出部４と、データ処理部６と、表示部２０とを備えたＸ線検査装置において、被検査物の質量検査領域を複数の区画Ａ，Ｂ，Ｃに分割し、Ｘ線検出部４からの検出情報のうち所定検出レベル範囲の検出情報を複数の区画の各区画毎に抽出して質量測定領域のＸ線画像をＸ線画像生成部１１に生成させる領域抽出処理部８と、この領域抽出処理部８で抽出された検出情報に基づいてワークＷの質量を算出する質量算出部１３と、複数の区画における質量測定領域のＸ線画像と質量算出部１３で算出された質量を示す複数のグラフ表示要素４３，４４，４５とをそれぞれ関連付けて表示部２０に表示させる表示データ生成部１５とを設ける。 （もっと読む）

【課題】高い分析精度を維持しつつ、非常に短時間で分析を行うことができるアスベストの定量分析方法を提供する。
【解決手段】被検試料Ｓに含まれるアスベストの回折線強度を求め、検量線に基づいてその回折線強度からアスベストの重量を求める定量分析方法である。アスベストの回折線強度を求める際、受光スリット５のスリット幅をアスベストの回折線幅と等しい幅に設定し、その受光スリット５及びＸ線検出器８をアスベストの回折線角度位置（２θ）に停止させた状態でＸ線検出器８によって所定時間、回折線を計数する。受光スリット５及びＸ線検出器８のスキャンによってアスベストの回折線強度を測定することに比べて、測定時間を大幅に短縮できる。 （もっと読む）

【課題】断面がライン状のＸ線ビームを発生するＸ線源を用いたままで、ライン状のＸ線ビームとポイント状のＸ線ビームを選択的に得られるようにして、かつ、ポイント状のＸ線ビームを選択した場合に、その単位面積当たりのＸ線強度を大きくする。
【解決手段】Ｘ線光学系は、Ｘ線源１０と、アパーチャスリット板１４が付属する放物面多層膜ミラー１８と、光路選択スリット装置２２と、ポリキャピラリー３６と、出射幅制限スリット３８を備えている。ポリキャピラリー３６と出射幅制限スリット３８は、放物面多層膜ミラー１８から出てくる平行ビーム２０の経路中に着脱可能に挿入されていて、この経路から取り外すことができる。そして、その空いたところに、ソーラスリット２６と発散スリット２８を挿入することができる。 （もっと読む）

【課題】散乱イオンのエネルギースペクトルを測定するにあたり、特定の散乱イオンを検出対象から除外するためのデフレクタに求められる必要電力を削減する。
【解決手段】散乱イオン１８をそのエネルギーに応じて第１の方向に偏向する磁気形成手段２４と、その偏向された散乱イオンの到達位置を検出するイオン検出器２８と、特定のイオンを検出対象から除外するデフレクタ２６とが用いられる。デフレクタ２６は、イオン検出器２８に向かう散乱イオン１８を第１の方向と直交する第２の方向に偏向する電場を形成して、当該第２の方向への偏向量が一定以上の散乱イオンを前記イオン検出器の散乱イオン検出可能領域から逸脱させる。その電場は、当該電場を通過する散乱イオンのエネルギーが大きいほどその偏向量を大きくするような強さ分布または形状を有する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折の測定結果に悪影響を及ぼすことなく、ヒータの小型化が図れながら試料を加熱する均熱領域を広くできるＸ線回折装置を提供し、複数の試料に対して同時にＸ線回折測定が良好に行えるようにする。
【解決手段】試料が配置されるケーシング1と、ケーシング1内に配置された試料にＸ線を照射するＸ線照射器2と、試料を透過した回折Ｘ線を検出するＸ線検出器3と、ケーシング1内に配置され、このケーシング1内に配置された試料を加熱するヒータ4とを備える。ヒータ4は、試料に入射するＸ線（入射Ｘ線）の光軸の周りに、試料を囲むように配置する。ヒータ4は、試料を囲む筒状に形成したときは、筒部の中心軸が入射Ｘ線の光軸と平行となるように配置する。 （もっと読む）

【課題】測定種別の選択と光学部品の交換作業とを関連付けて、交換すべき光学部品の情報を図を用いて画面に表示することで、測定準備作業を容易にする。
【解決手段】Ｘ線分析装置の測定準備作業に関連して、選択画面において、複数の測定種別の中からオペレータが所望の測定種別を選択すると、その測定種別に応じて、取り付けるべき光学部品及び取り外すべき光学部品の情報が、図を伴って表示装置の画面に表示される。オペレータは、その作業指示を見て、Ｘ線分析装置の光学系から光学部品を取り外したり、光学部品を取り付けたりする作業を実行する。図を伴って表示する形態には、交換すべき光学部品１６，１８の光学系上の位置を図示することや、取り付け作業と取り外し作業の区別を絵記号６９で表示することや、光学部品の識別マーク７０，７２を表示すること、が含まれる。 （もっと読む）

位相コントラスト画像形成は、試料マスク（８）および検出器マスク（６）を用いて達成される。Ｘ線源（２）から放射されたＸ線は試料マスクによって個々のビーム（１６）に形成されて、試料（１４）を通過し、検出器マスク（６）を通って検出器（４）の各ピクセル（１２）に到達する。各Ｘ線ビームは、各ピクセル行、各ピクセル列、あるいは各ピクセルのピクセル縁部（２０）に衝突するように配置される。各ビーム（１６）の小さな偏向θがピクセルの露出領域（２２）に衝突して信号の大幅な増加あるいは減少を生じさせ、大きな位相コントラスト信号に帰着する。
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【課題】作業性の極めて優れたＸ線分析装置を提供することである。
【解決手段】Ｘ線照射室３１を形成する本体ブロック３と、前記本体ブロック３の試料側端部に設けられ、一次Ｘ線及び二次Ｘ線を通過させるＸ線通過孔４１２を有する通過孔部材４と、隔膜Ｆを保持するとともに、前記通過孔部材４に取り付けられて、前記Ｘ線通過孔４１２の試料側に前記隔膜Ｆを固定する膜固定部材５と、を備え、前記通過孔部材４が本体ブロック３に取り付けられている状態において、前記通過孔部材４と前記膜固定部材５とを弾性固定部材６により着脱可能に構成していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】効率的に高解像度で長尺状の被検査物をＸ線検査する。
【解決手段】被検査物であるテープ２２を一定速度で搬送しながらＸ線を透過させ、透過したＸ線を、外周面に輝尽性蛍光体を備えた回転する回転ドラム６０に照射する。Ｘ線の照射位置よりも回転方向下流側で励起光Ｌａを走査照射し、輝尽性蛍光体から発する輝尽発光光Ｌｂをフォトマルチプライヤー７８で受け、２次元のＸ線画像を得る。励起光Ｌａを走査照射した位置よりも回転方向下流側では、消去光を照射して残像を消去する。残像の消去された輝尽性蛍光体は、回転ドラム６０の回転により再び、Ｘ線照射位置に戻るので、長尺状のテープ２２を順次Ｘ線検査することができる。 （もっと読む）

【課題】ゴニオメータの機械誤差を現在以上に正確に補正することができるＸ線回折測定方法の角度補正方法を提供する。
【解決手段】標準試料に関して回折角度（２θ）ごとの回折線強度（Ｉ_Ｒ））を測定よって求め、回折線強度（Ｉ_Ｒ）と標準試料の真値の回折線強度（Ｉ_Ｒｔｒｕ）との比較から回折角度（２θ）ごとの誤差（Δ２θ）を求め、誤差（Δ２θ）及び系統誤差（Δ２θ_０）を Δ２θ_ｍ＝Δ２θ−Δ２θ_０ の式に代入して回折角度（２θ）ごとの機械誤差（Δ２θ_ｍ）を求め、測定試料に関して回折角度（２θ）ごとの回折線強度（Ｉ）を測定によって求め、測定試料に関して求めた回折角度（２θ）及び機械誤差（Δ２θ_ｍ）を ２θ_Ｋ＝２θ＋Δ２θ_ｍの式に代入して校正回折角度（２θ_Ｋ）を求めと、校正回折角度（２θ_Ｋ）に基づいて等間隔回折角度（２θ_Ｔ）を設定し、測定試料の回折線強度（Ｉ）を等間隔回折角度（２θ_Ｔ）に所定配分比で配分する。 （もっと読む）

【課題】試料内部の微小空間における元素分析を非破壊的に行なえるようにする。
【解決手段】励起用Ｘ線を発生させる一次Ｘ線源１は、Ｘ線照射機構によってＸ線検出用導管５と接続されている。Ｘ線検出用導管５の基端部にはＸ線検出器９が結合され、試料７から放出された蛍光Ｘ線が先端部の開口から内部通路４を通ってＸ線検出器９に導かれるようになっている。Ｘ線検出用導管５内には、Ｘ線入射用導管２ａを介して入射した一次Ｘ線ビームを受けて二次Ｘ線ビームを発生し、Ｘ線検出用導管５の先端部を経て試料に照射するための二次ターゲット３が備えられている。二次ターゲット３はＸ線検出用導管５の内側、かつその導管５内の内部通路４の外周にリング状に備えられており、先端部が傾斜面となっているため、二次Ｘ線ビームを効率よく試料方向に照射することができる。 （もっと読む）

【課題】回折角度２θの高角度領域において分解能が高く、低角度でバックグラウンドが低く、しかもスリット幅の制御が非常に簡単であるＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線源Ｆと、Ｘ線検出器１０と、発散スリット２と、散乱スリット８とを有するＸ線回折装置である。試料Ｓへ入射するＸ線Ｒ_１の入射角度θは測定に際して所定角速度で変化し、Ｘ線検出器１０による回折線検出角度２θはＸ線入射角θの２倍の角速度でθ方向と逆方向に変化する。発散スリット２のスリット幅はＸ線照射幅Ｗ_０が常に試料幅Ｗ_Ｓに一致するように変化し、散乱スリット８のスリット幅は一定値に保持される。発散スリット２と散乱スリット８のうちのスリット幅が狭い方のスリットによってＸ線検出器１０に入るＸ線が規制される。高角度領域における分解能を高く維持できる。 （もっと読む）

【課題】散乱角の小さい散乱イオンを優先的に採取することによって高い測定精度を得る。
【解決手段】イオンビーム１５が照射された試料から散乱する散乱イオンのエネルギースペクトルを測定するための装置であって、磁場が形成された真空容器内で前記散乱イオンを検出するイオン検出器と、このイオン検出器と前記試料との間の位置に設けられるイオン選別用のアパーチャ１６とを備える。アパーチャ１６は、イオンビーム１５の通過を許容する開口３０を有し、特定の散乱角を有しかつ前記磁場により前記イオンビーム１５のビーム軸に特定の位置で収束するイオンのみが前記開口３０を通過する位置に設けられる。この開口３０の周縁部１６ａにはテーパー面３６やテーパー面３８が形成される。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡を用いた観測により、種々の方向における観測対象物の観測データを取得することが可能な、透過型電子顕微鏡用試料保持体およびその製造方法、透過型電子顕微鏡用試料およびその製造方法、並びに、透過型電子顕微鏡用試料を用いた観測方法および結晶構造解析方法を提供する。
【解決手段】本発明のマイクログリッド１０は、グリッド本体１２と、グリッド本体１２の縁部に形成された触媒層１４と、触媒層１４の表面上に形成されたカーボンナノチューブ１６とから構成される。また本発明の試料２０は、本発明のマイクログリッド１０と、マイクログリッド１０を構成するカーボンナノチューブ１６の側面に被覆した観測対象物（例えば、蛋白質層１８）とから構成される。さらに本発明の観測方法は、本発明の試料２０を試料ホルダーにセットして透過型電子顕微鏡に装着する事により行う。 （もっと読む）

【課題】スメアリング現象の発生を抑えることにより、超小角領域における試料からの散乱線を正確に捕えることができる超小角Ｘ線散乱測定装置を提供する。
【解決手段】試料Ｓから出射したＸ線を検出する検出器７と、Ｘ線実焦点Ｆと試料Ｓとの間に設けられたＸ線平行化ミラー１６と、ミラー１６と試料Ｓとの間に設けられたモノクロメータ２２と、試料Ｓと検出器７との間に設けられたアナライザ２３とを有する超小角Ｘ線散乱測定装置である。ミラー１６は、直交するミラー１６ａ，bを有する。ミラー１６ａ，bは多層膜ミラーであり、Ｘ線反射面は放物面形状であり、多層膜の格子面間隔はブラッグ条件を満足するように放物面に沿って連続的に変化している。モノクロメータ２２及びアナライザ２３はチャネルカット結晶によって形成される。アナライザ２３は２θ軸線を中心として走査回転し、アナライザで分光された回折線が検出器７によって検出される。 （もっと読む）