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Fターム[2G041EA02]の内容

その他の電気的手段による材料の調査、分析 (22,023) | 試料形態 (2,319) | 固体、乾燥固化 (345) | 表面吸着ガス (15)

Fターム[2G041EA02]に分類される特許

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【課題】有機化合物の合成や創薬分野に制限されず、環境、食品、工業品、その他における被測定成分の同定、定量分析を、複雑なインターフェースを必要とせず、且つ濃度の低い被測定成分にも適用して、簡単に、低コストで行うことを可能とする質量分析用プレートとそれを用いた薄層クロマトグラフィ−質量分析方法及び装置の提供を課題とする。
【解決手段】薄層クロマトグラフィ用プレート上で分離された被測定成分を該薄層クロマトグラフィ用プレートから転写させて質量分析に供するための質量分析用プレート30であって、プレート基板31上に被測定成分を担持するための固定相32として、吸着活性のない担体を積層してある。 (もっと読む)


【課題】試料を安定して保持することができる分析装置を提供する。
【解決手段】本体と、試料を載置する載置面を有し、当該載置面を前記本体外部に露出させる第1の位置と、当該載置面を前記本体内に収容する第2の位置とを通る軌道において往復移動可能に前記本体に設けられたスライダと、前記スライダに設けられ、前記本体と係合して前記スライダを係止させる係合部材と、を備え、前記係合部材は、前記スライダに沿って突出する突出部を有し、前記係合の解除に伴い前記突出部が前記載置面を覆うことを許容するとともに、前記係合に伴い前記突出部による前記載置面の覆いを解除することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】複数種の金属原子からなる多成分系クラスターの触媒活性を短時間で正確に評価する。
【解決手段】複数の特定元素を蒸発させて複数種のクラスターを生成させ、その質量スペクトルを測定して基スペクトルとし、複数種のクラスターに被吸着ガスを接触させた後の質量スペクトルを測定して測定スペクトルとし、基スペクトルのピーク面積強度に対する測定スペクトルのピーク面積強度の割合を各ピークについて算出して、割合が所定値以上であるピークに対応する特定クラスターの触媒活性を高いと評価する。 (もっと読む)


【課題】 検出する試料を迅速に効率よく試料分析装置に導入することができ、検出速度を向上させて大量の検査を短時間で行うこと。
【解決手段】 試料採取装置3に収容された試料を、分析装置用排気ポンプ27を備えた質量分析装置7に導入するための試料導入装置5であって、一端が試料採取装置3に流通可能に接続される差動排気配管13と、差動排気配管13の他端に接続され、差動排気配管13内を排気して減圧する差動排気ポンプ19と、差動排気配管13と質量分析装置7とを流通可能に接続するキャピラリ管23とを備え、キャピラリ管23が接続された差動排気配管13内の圧力が、50Pa以上70kPa以下とされ、キャピラリ管23のコンダクタンスが、1×10−10以上1×10−7/s以下とされる試料導入装置5を提供する。 (もっと読む)


【課題】レーザを用いてウエハの状態で直ちに汚染物質を検出及び分析することのできるウエハ汚染物質の分析装置及び方法を提供する。
【解決手段】ウエハ汚染物質の分析装置100は、汚染物質を分析するためのウエハWを支持するウエハホルダ160と、ウエハWから分離した試料を採取するためにウエハW側にレーザLを照射するレーザアブレーション装置110と、レーザLを照射することによってウエハW表面から分離した試料を採取するための分析セル170と、分析セル170に連結されて前記採取する試料から汚染物質を分析するための分析装置190とを含む。 (もっと読む)


【課題】微小物体1個の表面の評価を行うことが可能な微小物体の表面評価装置及び微小物体の表面評価方法を提供する。
【解決手段】微小物体を先端に固定するカンチレバーと、該微小物体の重量の変化を検出する重量変化検出手段と、該カンチレバーを特定環境内に設置するチャンバーと、該微小物体の表面を構成する分子種と相互作用し得る物質を該チャンバー内に導入する導入機構と、該微小物体を加熱する加熱手段と、該特定環境中の成分を分析する成分分析装置と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】セメント中の粉砕助剤を的確に定性分析しつつ、且つ正確に定量することができる定性分析並びに定量分析方法を提供する。
【解決手段】セメントc中の粉砕助剤ex1の定性分析方法は、粉砕助剤ex1を含有するセメントcに対して加熱脱着処理を行うことにより当該粉砕助剤ex1を熱分解することなく他の成分とともに抽出物ex1、ex2として抽出する加熱脱着工程ST1と、抽出物ex1、ex2をそれぞれ認識可能な状態に検出するガスクロマトグラフ工程ST3と、検出された抽出物ex1、ex2の質量スペクトルをそれぞれ計測する質量分析工程ST4と、抽出物ex1、ex2の質量から粉砕助剤ex1を同定する定性分析工程ST5とを含んでいることを特徴とし、同定した粉砕助剤ex1の量を測定する定量分析工程ST6をさらに含んでいる。
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【課題】本発明は、CNT表面への付着物の除去方法およびCNT表面に吸着したガス分子を精確に制御する方法、更にはそれを利用した好適な計測装置を提供することを課題とする。
【解決手段】カーボンナノチューブ(CNT)先端部の付着物にパルスレーザーを照射することにより、付着物を脱離させる除去方法を提供する。又、CNTを陰極とし、該先端部と対向する位置に陽極を配置して電子回路を構成し、電界の印加によりCNTの先端部に吸着するガス分子にパルスレーザーを照射することにより吸着ガスを脱離させることにより、課題が達成される。 (もっと読む)


【課題】 短時間かつ精度よく検査対象を検査可能なセキュリティーゲートシステムおよびセキュリティーゲートの制御方法を提供すること。
【解決手段】 主通路2と、該主通路2中を移動する検査対象(例えば空港等の施設利用者)から取得した試料(例えば切符)を分析する質量分析器3と、前記試料取得位置より前記検査対象の移動方向下流側にて前記主通路2から分岐した少なくとも一つの分岐通路10と、該分岐通路10の分岐部分に設けられ前記検査対象の流れを切り替えるためのゲート(第1ゲート5,第2ゲート6)と、前記質量分析器3による分析結果に基づいて前記ゲート5,6の切替を制御する制御装置20とを備える。 (もっと読む)


【課題】製造環境の気体モニタリングシステムにおいて、クリーンルーム環境または装置内に存在する気体の中で特定の基板表面に選択的に付着する成分を一定周期で検出し、その中で基板の透過率を低下させる成分を効率的にモニタリングする気体モニタリングシステムの提供。
【解決手段】製造環境の気体の中で、特定の基板表面に付着する成分を収集する成分収集手段と、収集された成分を少なくとも定性及び定量分析する分析手段と、該分析結果に基づいてモニタリング項目におけるシミュレーションを行うシミュレーション手段と、を有し、前記シミュレーション手段のモニタリング項目が、特定波長における分析物質の光吸収スペクトル及び分光特性の算出する気体モニタリングシステムを具備する装置、及び該装置を用いて、付着する成分中で基板の透過率を低下させる成分をモニタリングする気体モニタリングシステム。 (もっと読む)


【目的】試料の特定領域のみの吸着物を評価することが出来る昇温脱離ガス分析方法および評価昇温脱離ガス分析装置を提供する。
【構成】試料S表面上に吸着した吸着物Dを加熱して脱離させ、脱離した脱離物質またはその成分物質を分析する昇温脱離分析方法において、昇温脱離前に、試料Sの分析対象領域を遮蔽板Cで被覆して、Arイオンエッチングを行い、試料の分析対象領域以外の領域の吸着物を予め除去しておいてから、昇温脱離分析を行うようにする。 (もっと読む)


【課題】1回のガスクロマトグラフ質量分析手間のみで揮発性有機化合物の全放散量を測定可能とする。
【解決手段】1つの捕集管7の一方側に試験体1を収容するとともに、他方側に捕集剤10を収容し、前記試験体収容側を上流側として、所定温度のキャリアガスを所定流量及び所定時間で供給し、前記試験体1から放散される揮発性有機化合物を捕集管内壁面に付着させるとともに、前記捕集剤で捕集した後、この捕集管を熱脱着型ガスクロマトグラフ質量分析計(GC/MS)の加熱脱着部にセットし、揮発性有機化合物の全放散量を算出する。 (もっと読む)


【課題】 3次元微細領域元素分析方法及び3次元微細領域元素分析装置に関し、試料に電界蒸発を起こすのに必要な高電圧パルスを印加することなく、一層ずつ制御された状態で、且つ、構成元素の蒸発電界の違いに影響されずに分析を行う。
【解決手段】 被分析試料1に飽和吸着し、且つ、エネルギービーム5の照射によってエッチングが進行するガス種3を被分析試料1に供給したのち、エネルギービーム5を照射して前記被分析試料1のガス種3の吸着した部分のみを脱離させ、脱離した被分析試料1由来の粒子6の質量分析を行なうことによって被分析試料1表面の元素分析を行なう。 (もっと読む)


【課題】 試料の吸着物に対する吸着量の評価を正確に行うこと。同一製品の同一ロット品の中での不良品の判別を、簡単かつ迅速に評価すること。
【解決手段】 試料100の特定領域のみに対して選択的に成膜して脱離抑制膜20を形成するようにしたので、特定領域内に存在する吸着物を脱離させずに封じ込めることができ、特性領域からの脱離ガス30を抑制し、正確かつ迅速に試料の評価を行う。 (もっと読む)


本発明は、多孔質シリコン(「DIOS」)上脱離/イオン化チップなどの多孔質吸光性半導体の表面上に向けて、能動的または受動的に空気をサンプリングするための装置、システム、および関連する方法を提供する。検体が吸着すると、この表面を、レーザー脱離/イオン化飛行時間型質量分析によって直接分析することができる。レーザー脱離/イオン化方法および引き続く質量検出方法には高温は不要であるので、検体の熱劣化が回避される。
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