【課題】被写界深度が狭い超高分解カメラを用いた検査において、複雑な機構やシステムを構築することなく容易で安価に、基板を上下振動無く安定して搬送することで、被写界深度からはずれることなく、搬送しながら検査すること。
【解決手段】空気の吹き出しおよび吸引によって基板２を浮上させながら一定の高さに維持する基板浮上機構３と、前記基板浮上機構３と同様に空気の吹き出しおよび吸引によって基板２を一定の高さで空間保持する基板保持機構４と、前記基板浮上機構３の一側面からはみ出した前記基板２の片端部を固定する基板把持機構と、前記基板浮上機構３の一側面と隣接して設けられ、前記基板浮上機構３および前記基板保持機構４への空気の供給および前記基板浮上機構３および前記基板保持機構４からの空気の吸引を行う浮上制御部と、前記基板２の表面検査を行う検査部Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】穀粒品質判定装置における穀粒の品質判定精度を向上させる簡易型の穀粒整列装置を提供することを技術的課題としたものである。
【解決手段】本発明の穀粒品質判定装置6における穀粒整列装置1によると、穀粒整列板3における整列溝3ｂを設けた面上に被判定用穀粒Gを載せた後に、穀粒整列板3に載置した被判定用穀粒Gを挟み込むように透明材料からなる平面板状の撮像用トレイ2を重合し、次いで、重合した前記穀粒整列板3及び撮像用トレイ2を反転して撮像用トレイ2を下側にして前記振動装置4の載置台4aに載置し、該振動装置4によって振動作用を与え、この後に、前記撮像用トレイ2上に重合した穀粒整列板3を取り除く。これにより、前記撮像用トレイ2の上面に被判定用穀粒Gの整列準備が整う。 （もっと読む）

【課題】検査対象の不良部分を簡易に、かつ高い精度で検出する検査装置。
【解決手段】銅箔検査装置１０は、ライト１２、ＣＣＤカメラ１４、ガイドローラ１６、及び制御部１８を含んで構成されている。
銅箔２０に光を照射するライト１２は、各ガイドローラ１６間の中心部に位置する銅箔２０の読取位置Ｏを照射する位置に設置されており、読取位置Ｏに光を照射する。ライト１２により照射されることにより読取位置Ｏで正反射された光は、矢印Ｐの方向に進行する。本実施の形態のＣＣＤカメラ１４は、矢印Ｐの方向とは数度異なる矢印Ｑの方向に垂直な面で光を受光するように設けられており、受光した光の強度に応じて画素毎に例えば８ビットの輝度信号に変換した画像データを制御部１８に出力する。 （もっと読む）

【課題】常に一方の面を支持して搬送しながらも、その一方の面（被支持面）の検査作業を能率的に行える板状体検査設備を提供する。
【解決手段】搬送装置10による板状体Ｇａの搬送経路１中で、目視検査部Ｂに対向する部分に、昇降動手段41と反転動手段51を設けた。昇降動手段は、搬送面１Ａの下方に位置する昇降体42と、昇降装置46と、搬送面に対して出退動自在として昇降体に設けた板状体持ち上げ体47とにより構成した。反転動手段は、幅方向１Ｗに移動自在な移動体52と、移動体の下部に連動した横移動装置55と、移動体の上部に、横軸心63Ａの周りに回動自在に設けた回動体61と、回動体の回動装置65と、回動体が水平状姿勢のときに下面61Ａ側に位置する板状体保持装置71とにより構成した。回動装置は、板状体保持装置が搬送経路の搬送面に対向して位置する水平状姿勢と、板状体保持装置が搬送面に対して起立状に位置する傾斜状姿勢との間で回動体を回動すべく構成した。 （もっと読む）

【課題】フレームを簡単に折り畳んで運ぶことのできるサイズ可変ステージを提供する。
【解決手段】互いに平行に設置され、互いに接近し離間することのできるベースフレームＢＦ１１，ＢＦ２１と、ベースフレームＢＦ１１，ＢＦ２１間を橋渡しする少なくとも１本のスライドフレームＳＦ１とを備えている。連結部材Ｃ１１，Ｃ２１は、ベースフレームＢＦ１１，ＢＦ２１の縦長方向に沿ってスライドするスライド機構と、ベースフレームＢＦ１１，ＢＦ２１に対するスライドフレームＳＦ１の角度を変化させることができる回転機構とが設けられている。さらに、連結部材Ｃ１１，Ｃ２１には、スライドフレームＳＦ１を、前記ベースフレームＢＦ１１，ＢＦ２１の縦長方向と直角な水平方向に沿ってスライドさせることのできる補助スライド機構が設けられている。 （もっと読む）

【課題】撮影手段が撮影する背景部の光量レベルを容易に調整する。
【解決手段】色彩選別機では、フロントカメラ５２及びリヤカメラ５４が背景部８４の背景板９０を背景として撮影した選別粒Ｇの光量レベルに基づいて、選別粒Ｇのうちの正常粒と異常粒とを選別する。ここで、背景部８４内における冷陰極管８６の発光光量が調整可能にされており、背景板９０は冷陰極管８６によって発光可能にされると共に、背景板９０の発光光量が調整可能にされている。このため、フロントカメラ５２及びリヤカメラ５４が撮影する背景板９０の光量レベルを容易に調整できる。 （もっと読む）

【課題】従来、製造プロセスの不良対策は、該検査装置で検出された欠陥を分析することにより行われている。一方、光散乱方式の欠陥検査装置の検出結果として総検出個数や欠陥の検出座標、欠陥の寸法などの情報を出力している。光散乱方式の欠陥検査においては、散乱光を用いて欠陥の寸法を測定しているが、寸法が適切に算出できない場合があった。
【解決手段】光学的系により検査する欠陥検査装置において、欠陥検出とほぼ同時に欠陥の寸法を測定する。欠陥寸法の測定を高精度化するために、標準粒子などの標準試料を用いて欠陥寸法を校正する手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】基板を撮影する際の基板の平坦度（特に撮像される部分の平坦度）を向上させて、正確に基板の上面を撮影する。
【解決手段】検査装置１において、基板９０を水平姿勢で搬送するコロ搬送機構である第１搬送部５と第２搬送部６とを設ける。また、第１搬送部５と第２搬送部６との間に支持部２を設けて搬送中の基板９０を浮上支持するとともに、支持部２によって浮上支持された状態の基板９０をＸ軸方向の１ラインを撮像するラインカメラ３１で撮像する。支持部２は基板９０から離間した状態で、浮上ステージから吐出するエアによって基板９０を浮上支持する。このようにして、Ｙ軸方向の位置Ｅ（撮像位置）においては、Ｘ軸方向の全幅に亘って検査装置１の部材が基板９０に当接しない構造とする。 （もっと読む）

【課題】装置に要するコストを低廉化できる構造でありながら、ワークの外周面に対する接着剤の塗布漏れをより正確に検査することができて、例えばゴムとワークとの接着力が低下した不良品を発生させにくくすることができる接着剤の塗布漏れ検査装置を提供する。
【解決手段】ワーク１の外周面１Ｇに接着剤の塗布漏れがあるか否かを検査する接着剤の塗布漏れ検査装置であって、ワーク１の外周面１Ｇに対して螺旋状に相対変位して螺旋状の外周面部１Ｇ１の色を検出するカラーセンサ２１と、カラーセンサ２１の検出結果に基づいて、ワーク１の外周面１Ｇに接着剤の塗布漏れがあるか否かを判別する判別部３０とを設けてある。 （もっと読む）

【課題】 被検査物の外観全体を容易且つ確実に検査できるように被検査物を搬送する被検査物の搬送装置を提供する。
【解決手段】 被検査物の外観検査に用いられる被検査物の搬送装置であって、往動搬送手段２１により搬送される被検査物の表裏を反転して、復動搬送手段２２ａに引き渡す表裏反転手段２３を備え、表裏反転手段２３は、往動搬送手段２１により搬送される被検査物を外周面に保持して回転搬送する第１のドラム２３１ａと、第１のドラム２３１ａにより搬送される被検査物を外周面に保持して回転搬送する第２のドラム２３２とを備え、第１のドラム２３１ａ及び第２のドラム２３２の少なくとも一方は、外周面に保持した被検査物を回転搬送することにより、往動搬送手段２１及び復動搬送手段２２ａの並列方向に被検査物を移動可能に配置されている。 （もっと読む）

【課題】検査の高速化が可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】画像処理部１３の光源特性測定部１３５において、光量制御量と基準明るさとの対応を光源特性として求め、光厳情報保存部１３６に光源特性データとして保存する。検査時は、正解パターン登録時の明るさ換算値及び光源特性データに基づいて、光量制御量を演算することで、光量調整の手間を要することなく、迅速に検査が実行可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、各種穀類粒の硝子率を客観的、かつ、正確に測定評価できる簡略安価な構成からなる穀類粒の品質評価システムを提供する。
【解決手段】本発明の品質評価システム１は、穀類粒を切断する穀粒切断器３と、切断された任意数の穀類粒をその断面側を光走査側として列設配置するトレイ６と、トレイ６に列設配置した穀類粒の各断面を光走査して各穀類粒の断面画像を取得する撮像装置１０と、取得した各穀類粒の断面画像に対する輪郭抽出処理と、輪郭抽出画像に対する表皮部輪郭除去処理と、表皮部輪郭除去後の各輪郭画像に対する硝子質部、半硝子質部、粉状質部の各面積を算出する面積算出処理と、算出した硝子質部と半硝子質部との面積の和の表皮部輪郭除去後の輪郭画像の全面積との比較演算を各輪郭画像毎に行い各穀類粒毎の硝子率を算出する処理と、の各処理を行う画像分析処理手段と、画像分析処理手段の処理結果を出力するプリンタ４０と備える画像処理及び評価装置２０と、を有するものである。 （もっと読む）

【課題】 被検査物の外観全体を容易且つ確実に検査することができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】 被検査物の外観を検査する装置であって、被検査物を搬送する第１の搬送手段２１及び第２の搬送手段２２ａと、第１の搬送手段２１により搬送される被検査物の表裏を反転して、第２の搬送手段２２ａに引き渡す表裏反転手段２３と、第１の搬送手段２１及び第２の搬送手段２２ａにより搬送される各被検査物を斜め上方から撮像する複数の撮像手段３０ｂ，３０ｃと、各撮像手段３０ｂ，３０ｃの撮像データに基づき被検査物の欠陥の有無を判別する欠陥判別手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学式顕微鏡により観察対象の欠陥を高感度に検出し、確実に走査型電子顕微鏡等の視野内に入れることによって高スループットで欠陥を観察できるようにした欠陥観察装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】真空チャンバ内に設けられたステージ上に載置される試料上の欠陥を光学的に再検出する光学式顕微鏡と、前記ステージを移動して前記試料上の欠陥を視野内に位置付けて観察する電子顕微鏡とを備えた欠陥観察装置であって、前記光学式顕微鏡は、更に、前記ステージ上に載置された試料の高さを光学的に検出する高さ検出光学系と、前記試料上の欠陥に対して照明を行う照明光学系と、該照明光学系により照明された前記試料上の欠陥から得られる反射光を集光して欠陥の画像信号を検出する検出光学系とを備え、前記高さ検出光学系で検出される試料の高さ情報に基づいて前記光学式顕微鏡について焦点合わせを行うように構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】照明波長の1/10程度の大きさの欠陥で発生する散乱光の分布は等方的となる。このため，多方向で検出した信号を加算することによりSN比が向上して微小欠陥検出が可能となる。一方で散乱光分布が異方性となる欠陥では，多方向で検出した信号を加算することでSN比が低下し，検出感度を低下させることとなる。半導体基板の欠陥検査においては，欠陥の種類に関係なく，高感度検査が必要である。
【解決手段】多方向で検出した散乱光の検出信号を加算して微小欠陥の検出を行うとともに，各検出信号を個別に処理することによって，異方性欠陥の見逃しを回避することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ワークを走査するＣＣＤカメラにおいて正確な走査結果を得ることができる部品検査装置を提供する。
【解決手段】 本発明の部品検査装置１は機台２と、この機台２の上面の一部に弾性部材３を介して載置されるベース板４と、このベース板４に載置され、ワークＳを搬送する回転搬送ユニット４０と、この回転搬送ユニット４０にワークＳを供給する供給ユニット１０と、前記ベース板４に載置され、回転搬送ユニット４０上のワークＳを走査するＣＣＤカメラ６０とから構成されることを特徴とする部品検査装置である。 （もっと読む）

【課題】パターン画像検出部１１０の特性変動や被検査ウェーハ６の表面特性の個体ばらつきに応じて、欠陥判定のしきい値を自動的に調整する。
【解決手段】画像処理部１２０は、被検査ウェーハ６表面のある領域の検出画像とその領域と同じパターンを有する他の領域の検出画像との差分画像に基づき、欠陥信号を抽出する欠陥信号抽出部２１、前記差分画像の全画素について、その各画素の欠陥信号量を累積して、その頻度分布および分散を算出する欠陥信号累積部２３、その算出した分散を、基準の被検査ウェーハ６から得られた基準の頻度分布の分散と比較して、頻度分布のオフセット量を算出するオフセット算出部２４、あらかじめ設定された基準の欠陥判定しきい値を前記オフセット量により修正し、その修正した欠陥判定しきい値に基づき、前記欠陥画像についての欠陥信号の欠陥判定を行う欠陥判定部２５、を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】被検査体の周期性パターンにおけるムラの有無を容易に判定するものであり、作業者間の習熟度の違いによる検査精度のばらつきを抑える。
【解決手段】被検査体に対して複数の照射角度で検査画像を撮像する工程と、前記検査画像において被検査領域の画素値の最大値と最小値に基づく各照明角度における第１画像特徴量から一枚又は複数枚の検査画像を選択する第１画像解析工程と、前記第１の画像解析工程により選択された検査画像の被検査領域中の画素値のばらつきに基づく第２画像特徴量から特定の検査画像を選択する第２画像解析工程と、前記第１画像解析工程及び第２画像解析工程に基づいて、被検査体におけるムラの有無を判定する評価工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】基板にかかる応力を抑制しつつ確実に吸着保持できるようにする。
【解決手段】外観検査装置１は、基板吸着装置として板金１５に固定された３つの吸着部群１６Ａ〜１６Ｃを備える。吸着部群１６Ａ〜１６Ｃはガラス基板Ｗの搬送方向に並んで配置されており、各々が３つの吸着部１８Ａ〜１８Ｃを備える。吸着部１８Ａ〜１８Ｃは、ガラス基板Ｗの裏面に吸着可能で、首振り動作が可能な吸着パッド２２が１つずつ設けられている。最も中央にある吸着部群１６Ｂの吸着部１８Ｂは、上方に押し付け部３３が配置されている。押し付け部３３は補助パッド３５を降下させてガラス基板Ｗを吸着部１８Ｂに押し付ける。 （もっと読む）

【課題】従来の半導体パターン検査装置において、シミュレーションで求められた危険箇所に対して、その検出感度を最適化したい要望がある。しかし、設計データとパターン検査装置を結びつけたツールがない。あるいは、その実施に膨大な時間を要し、製造現場での運用には無理があった。
【解決手段】本発明では、検査装置から出力した複数の検査・画像・特徴量データ、及びレビューＳＥＭ画像だけでなく、シミュレーションから求めた危険箇所の座標情報、及びその部分のＣＡＤ情報を取り込む。これらの情報を並べて表示するデータ処理装置により、危険箇所の検出率の観点から検査装置の検査条件のチューニングを容易にする。また、レビューＳＥＭで読み取ることが出来る座標データを出力して容易に定点観察機能を従来のレビューＳＥＭで実現できるようにする。これによりシミュレーションデータ、検査装置、レビューＳＥＭの連携を容易にする。 （もっと読む）