【課題】加工面の鋳巣の寸法計測に役立つ鋳巣の範囲を精度よく判定できる加工面欠陥判定方法及び信頼性の高い加工面品質検査方法を提供する。
【解決手段】２値化、輝度傾き抽出の処理ステップ１０２，１０３で加工面の原画像の２値化画像、輝度傾き抽出画像を得る。両画像を重ね合わせ処理ステップ１０５で重ね合わせて作成した欠陥検出用画像から鋳巣判定処理ステップで加工面の鋳巣の範囲を判定する。鋳巣判定処理ステップ１０６では、２値化画像中の鋳巣部分が拡大処理された２値化画像と輝度傾き抽出画像との論理積をとり、得られた鋳巣〔輝度傾き抽出画像における鋳巣（エッジの範囲）〕の範囲を判定結果として、２値化処理の閾値の高低に拘わらず精度のよい鋳巣範囲の判定を可能とした。同欠陥判定方法を品質検査方法に適用した。 （もっと読む）

【課題】現在の手動検査プロセスを置き換える自動化検査システムおよび方法を提供すること。
【解決手段】自動化欠陥検査システム（１０）が発明され、これはパターン化されたウェハ、全ウェハ、破損ウェハ、部分ウェハ、ワッフルパック、ＭＣＭなどを検査するために使用される。この検査システムは、特に、スクラッチ、ボイド、腐食およびブリッジング、などの金属化欠陥、ならびに拡散欠陥、被覆保護層欠陥、書きこみ欠陥、ガラス絶縁欠陥、切込みからのチップおよびクラック、半田隆起欠陥、ボンドパッド領域欠陥、などの欠陥のための第二の光学的ウェハ検査のために意図され、そして設計される。 （もっと読む）

【課題】箱体の姿勢にかかわらず接合部の精度を正確に検査でき、箱体の形状精度や印刷品質、異物の有無も同時に検査することができ、検査スペースの効率化を図ることができる品質検査装置を提供する。
【解決手段】接合部を挟んで隣り合う２つの領域を撮像する撮像手段３と、照明手段４と、基準形状データ記憶部、及び基準画像データ記憶部を有する記憶手段５０と、撮像される画像に基づき形状データを検出し、各領域の基準形状データと対比することにより各領域のずれ量を算出し、各領域の形状精度の良否を判定する形状精度判定手段と、形状精度判定手段により算出される各領域のずれ量に基づき、当該箱体の接合精度の良否を判定する手段と、撮像手段により撮像される画像に基づき各領域の画像データと基準画像データ記憶部に記憶された各領域の基準画像データとを対比することにより各領域の印刷品質の良否及び異物の有無を判定する手段とを備えた。 （もっと読む）

【課題】エンボスシートの外観の良・不良の検査を好適に行うことができるエンボスシート検査システム等を提供する。
【解決手段】エンボスシート検査システム１において、エンボス壁紙シート１０を搬送しつつ、斜め上方の照明５より照明されたエンボス壁紙シート１０の撮像範囲３ａをラインセンサ３で撮像し、画像データ２０を画像処理装置７に送信する。画像処理装置７は、画像データ２０について、所定の閾値により明点および暗点を抽出し、エンボス壁紙シート１０の幅方向の両端部の領域で明点および暗点の面積の総和を算出し、明点および暗点の面積の総和が、エンボス壁紙シート１０の幅方向の両端部の領域で所定量以上異なる場合、エンボス壁紙シート１０を、不良品であると判定する。 （もっと読む）

【課題】マルチコアプロセッサ１２を用いても画像処理の処理性能をスケーラブルに向上させることが可能な欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成された試料を撮像する撮像手段と、撮像手段で撮像された画像データを、複数の画像ブロックに分割する分割手段４ｂと、複数の画像ブロックに対してパターンの欠陥を検出する欠陥検出処理を並列に行う並列処理手段５とを備え、並列処理手段５には複数のコア１３、１４を有するマルチコアプロセッサ１２を複数使用する。マルチコアプロセッサ１２毎に、画像ブロックの欠陥検出処理が行われる。複数のコア１３、１４は、画像ブロックの欠陥検出処理を行う演算コア１３と、画像ブロックを分割手段４ｂから受信する制御コア１４とを有し、演算コア１３が欠陥検出処理を行う画像ブロックは、制御コア１４を介して用意される。 （もっと読む）

【課題】清掃用シート等の衛生物品に係るウエブ部材の起毛状態を検査する検査装置などを提供する。
【解決手段】衛生物品に係るウエブ部材の起毛状態の検査装置である。前記ウエブ部材は、少なくとも片面に、該片面から剥がれて起毛可能な部分を所定の配置パターンで離散的に有し、前記起毛可能な部分が剥がれて起毛した際には前記片面上に新たな露出部分を生じる。前記検査装置は、前記片面を撮像して前記片面の平面画像のデータを平面画像データとして生成する撮像処理部と、前記平面画像データに基づいて二値化画像を生成する際に、前記二値化画像において二値のうちの一方の値によって特定される画像に、前記平面画像のうちで前記新たな露出部分が撮像されている領域が含まれるように二値化処理を行う二値化処理部と、前記画像の大きさを示す値に基づいて、前記起毛状態の良否判定を行う良否判定処理部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 微小細粒（タガント）を付与した物品の真贋判定を行う際に、撮影画像に含まれるタガントがコピーや印刷等によって付与されたものでないことを明確に区別して、真贋判定を効率よく行うことが可能な真贋判定装置等を提供する。
【解決手段】 個々の物品１の基材１１上に、基材とは異なる光学反射特性を有するタガント１２をランダムに配置しておく。物品１に対して異なる方向から光を照射し、複数枚の画像を撮影する。撮影された複数枚の画像の差分を抽出することによりタガント１２に影９が生じているか否かを判断する。影９が生じている場合は、真の物品であると判断する。これによりカラーコピーされたタガントでないことを効率よく判断できる。 （もっと読む）

【課題】 より高い精度で紙葉類を処理することが出来る紙葉類処理装置、及び紙葉類処理方法を提供する。
【解決手段】 一実施形態に係る紙葉類処理装置は、紙葉類を搬送する搬送手段と、搬送される前記紙葉類に対して光を照射する照明手段と、前記紙葉類から画像を取得する画像取得手段と、搬送される前記紙葉類の深度と前記照明手段から放射される光の照度分布とに基づいて予め算出される補正係数を格納する補正係数格納手段と、前記補正係数により、前記画像取得手段により取得された前記画像を補正する補正処理手段と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】出力結果を読み取った画像と検査用画像とを比較することによる画像の検査において、モノクロ出力の場合や画像にスキューが発生している場合であっても画像の位置あわせを可能とすること。
【解決手段】検査用画像に含まれる形状のコーナーを抽出して検査用画像と読み取り画像との位置合わせ用の基準点として設定するマスター画像生成部４０２と、読み取り画像に含まれる形状のコーナーを抽出して検査用画像と読み取り画像との位置合わせ用の基準点として設定し、検査用画像について設定された基準点の位置と読み取り画像について設定した基準点の位置との差異に基づいて検査用画像と前記読み取り画像との位置合わせを行った後に、検査用画像と読み取り画像とを比較して検査を行う比較検査部４０５とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本実施形態では、検査対象物が各種のものであっても、柔軟に対応して検査目的を達成できる表面パターンの検出方法及び装置を提供する。
【解決手段】この実施例では、予め撮像した参照用検査対象物の撮像信号に基づく参照用パターンデータを用意し、検査用対象物を撮像した撮像信号に基づくリアル撮像パターンデータを取得し、前記リアル撮像パターンデータを前記検査用対象物のリアル速度情報に基づき圧縮及び又は伸張して修正パターンデータを生成し、前記修正パターンデータと前記参照用パターンデータを比較して、類似か非類似を判定し、判定結果を示す信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】対象物体に関する腐食の段階に基づく劣化の診断を高精度で行う。
【解決手段】金属製の対象物体の腐食により生じる錆を撮影して得た発錆箇所に係るＲＧＢ色空間の錆画像情報をＨＬＳ色空間の錆画像情報に変換するＨＬＳ変換部１１５と、変換後のＨＬＳ色空間の錆画像情報に係るＨＬＳ値が、発錆箇所が錆びているとする際の基準となる錆色領域の範囲内に含まれるか否かを判定する診断実行判定部１２１と、ＨＬＳ値が錆色領域の範囲内に含まれる旨の判定が下された場合、対象物体に関する腐食の段階に基づく劣化を診断する劣化診断部１２３と、を備える。錆色領域は、腐食の段階が初期の際に現れる赤茶色系統の初期錆、および、腐食の段階が前記初期よりも進んだ後期の際に現れる黒褐色系統の後期錆を共に錆として捉えることを考慮して設定される。 （もっと読む）

【課題】適合度の高いマスタデータを簡単に作成することができる基板検査用マスタデータ作成方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板検査用マスタデータ作成方法は、部品Ｐａ１〜Ｐａ８を実装した基板Ｂを検査する際に用いられ、複数の部品Ｐａ１〜Ｐａ８に対して共用されるマスタデータＬ１〜Ｌ４を作成するデータ作成工程と、基板Ｂを検査して、作成したマスタデータＬ１〜Ｌ４の妥当性を検証する検証工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】検査感度を向上させることができるパターン検査装置、パターン検査方法、およびパターンを有する構造体を提供する。
【解決手段】本実施形態によれば、被検査体に形成されたパターンの光学画像に基づいて第１の検出データを作成する第１の検出データ作成部と、前記パターンに関する第１の参照データを作成する第１の参照データ作成部と、前記第１の参照データの出力レベルが前記第１の検出データの出力レベルに対応したものとなるように出力レベルの変換を行う第１の階調変換部と、前記第１の検出データと、前記出力レベルの変換が行われた前記第１の参照データと、の差を演算する第３のレベル差演算部と、前記第３のレベル差演算部による演算結果に基づいて、欠陥の有無を判定する第５の判定部と、を備えたことを特徴とするパターン検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】プレスキャン機能を実施することによって、表面欠陥が存在するときの光ディスク再生デバイスの読み出し性能を向上させる。
【解決手段】光ディスク再生デバイスは、第１および第２のレーザと、光学アセンブリと、第１および第２の光学検波器と、光学検波器に結合されたコントローラ回路とを備える。光学アセンブリは、第１および第２のレーザからの入射光を光ディスクの表面上にそれぞれ前走査スポットおよび後走査スポットを形成するように導くように構成され、さらに、光ディスクの表面上の前走査スポットおよび後走査スポットからの対応する反射光をそれぞれの光学検波器に導くように構成される。コントローラ回路は、後走査スポットが光ディスクの表面欠陥に到達する前に前走査スポットに関連する反射光を処理することによって光ディスクの表面欠陥を識別するように構成される。 （もっと読む）

【課題】 透明な物体の表面に付着した微小な異物、及び透明な物体の表面の微小な欠陥を精度良く検出することができる観察装置を提供する。
【解決手段】 表面観察装置は、光源装置、偏光変換装置、ハーフミラー、レンズ、受光モジュール、回路基板、筐体、処理装置などを備えている。受光モジュールは、偏光フィルタ１５１、マイクロレンズアレイ１５３、イメージセンサなどを有している。そして、偏光フィルタ１５１の＋Ｚ側の面とマイクロレンズアレイ１５３との間隙Ｄｉｎｔは、マイクロレンズアレイ１５３におけるレンズピッチＰｍｌ以下となるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】公差を統計学的に意味を持つ値として客観的に設定するために、予め良品を選別しておく必要が無く、作業者の能力に依存しない検査プログラムを提供する。
【解決手段】コンピュータに、同一仕様の複数の対象物のうち所定数から個別に取得されたデジタル画像群について、同一座標をもつ画素毎に特性の統計量を算出して暫定良画素範囲を作成する第一の統計ステップと、前記デジタル画像群をメモリに記憶する記憶ステップと、記憶された前記デジタル画像群における各画像に対して画素毎に前記特性が暫定良画素範囲に属するか否かを判定する仮判定ステップと、記暫定良画素範囲に属すると判定された画素毎に前記特性の統計量を算出して設定良画素範囲を作成する第二の統計ステップと、対象物から取得されるデジタル画像に対して画素毎に前記特性が設定良画素範囲に属するか否かを判定する本判定ステップとを実行させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査対象物（例えば半導体パターン）の微細化により、検査すべき欠陥の大きさも微小化し、欠陥からの散乱光の強度が大幅に減少するが、このような欠陥からの微小な散乱光を検出するのに適した欠陥検査装置および方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成された試料１００に光を照射するレーザ光源１１１を備える照明光学系１１０ａと、前記照明光学系により照明された該試料から発生する光を検出するセンサ１２６を備える検出光学系１２０と、前記検出光学系により検出された光に基づく画像から欠陥を抽出する信号処理手段２５０と、を備え、前記検出光学系にて光を検出する間に前記センサの増幅率を動的に変化させることを特徴とする欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクに存在する位相欠陥とＥＵＶＬ用マスクを製造した後に残存する位相欠陥との両方を感度良く検出する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクを検査する場合は、中心遮蔽ＮＡ以内で大きい照明ＮＡを有するＥＵＶ光を照射し、ＥＵＶＬ用マスクを検査する場合は、ＥＵＶ光を遮蔽する中心遮蔽部と、中心遮蔽部の直径よりも小さい幅を有し、ＥＵＶ光を遮断する線状遮蔽部とをその瞳面に有する暗視野結像光学系を用いて、線状遮蔽部の幅と同じ照明ＮＡまたは線状遮蔽部の幅よりも小さい照明ＮＡを有するＥＵＶ光を照射する。 （もっと読む）

【課題】 任意の被写体を含む空間の眺望の程度を判定することができる撮像装置を提供する。
【解決手段】 任意の被写体を含む空間を撮像する撮像部８と、前記任意の被写体を含む空間の基準画像を取得する基準画像取得部４と、前記撮像部により撮像された撮影画像と前記基準画像とを比較することにより前記撮影画像における前記任意の被写体の眺望の程度を判定する眺望判定部４とを備える。 （もっと読む）

【課題】反射型サンプル基板上の欠陥の特性を、非破壊かつ高精度に評価可能な欠陥特性評価装置を提供する。
【解決手段】本発明は、反射型サンプル基板であるマスク基板１１上の被検欠陥１２に対して、実際の露光で利用する波長のコヒーレント光を、マスク基板１１上の被検欠陥と略同一のサイズに集光する集光光学系１０と、集光光学系１０により集光され、マスク基板１１上にコヒーレント光を照射する照射部１６と、照射部１６により照射された照射パタン領域１３ｂからの回折光を２次元的に受光する二次元検出器１３と、二次元検出器１３による受光結果である画像情報を記録する記録部１７と、記録部１７により記録された画像情報から、被検欠陥１２の反射振幅と位相分布を反復計算により導出する導出部１８とを備える。 （もっと読む）