【課題】
放射線の影響が大きい検査対象物の検査方法及びその装置において、局所的な視認性を改善することを可能にして視認性の良い画像を得られるようにする。
【解決手段】
放射線の影響が大きい検査対象物の内部をカメラで撮像して検査対象物の内部の画像を得、この撮像して得た画像を検査対象物から離れた放射線の影響の少ない場所で受信し、この受信した画像の中から検査対象物の内部の注目領域を設定し、この設定した注目領域の画像のコントラストを補正し、このコントラストを補正した画像を画面上に表示し、この画面上に表示されたコントラストが補正された画像を記憶手段に記憶する検査方法及びその装置とした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、線材製造工程のうち圧延、引抜、及び射出工程で線材を生産する過程で線材の表面に発生する表面欠陥を光学センサを用いて非接触式でリアルタイムに検出する装置及び方法に関する。
【解決手段】本発明による円形線材の光学欠陥検出装置は、円形面状の光を照射する照明装置と、移送されている円形線材で反射された前記照明装置の反射光を受光して光信号を生成し、前記生成された光信号を映像信号に変換する光学センサと、前記光学センサから映像信号を受信して前記円形線材の表面情報を取得する信号処理手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＰＴＰシートの製造過程における錠剤の外観検査に際し、検査精度や検査効率の飛躍的な向上を図ることのできる錠剤検査装置及びＰＴＰ包装機を提供する。
【解決手段】外観検査装置は、包装用フィルムにカバーフィルムが取着された後のＰＴＰフィルム６において錠剤５の正面及び側面の外観異常を検査する。外観検査装置は、ＰＴＰフィルム６のポケット部２をポケット受け孔部５７に嵌め込みつつ当該ＰＴＰフィルム６の搬送に伴い回転する回転ローラ２０と、回転ローラ２０の内部に配置され、ポケット部２に収容された錠剤５に対し光を照射する照明手段２１と、回転ローラ２０の内部にてポケット受け孔部５７に向けて配置されたＣＣＤカメラ２２と、ポケット受け孔部５７の周囲に取付けられ、錠剤５側面からの光をＣＣＤカメラ２２に向け反射する円錐ミラー６０と、ＣＣＤカメラ２２から出力される画像信号を処理する画像処理装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】従来よりもガラス基板の欠陥の検査感度を向上可能であり、かつ、欠陥を検査する時間を短縮できるガラス基板の欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びに、前記欠陥検査方法又は前記欠陥検査装置を用いたガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本ガラス基板の欠陥検査方法の一形態は、第１主平面及びその対向面である第２主平面を有するガラス基板に、複数方向から光を順次照射し、前記ガラス基板の画像を順次撮像する順次撮像工程と、前記順次撮像工程で順次撮像した各ガラス基板の画像に基づいて、前記ガラス基板の前記第１主平面及び前記第２主平面の欠陥の有無を検査する欠陥検査工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】物体の表面を撮像して生成される画像に基づいてその表面におけるクラックの有無を判定する表面検査装置を提供すること。
【解決手段】匣鉢の表面を検査する表面検査装置１００は、その匣鉢の表面を撮像して処理対象画像を生成する処理対象画像生成部１０と、その処理対象画像に対して画像処理を施し、その処理対象画像において所定方向に延びる線状オブジェクトを顕在化させた顕在化画像を生成する顕在化画像生成部１１と、その顕在化画像における線状オブジェクトによって形成されるクラック候補の端部位置に基づいてその匣鉢の表面におけるクラックの有無を判定するクラック有無判定部１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ハイライトからシャドーまでの全濃度域において一定の検査精度を確保する。
【解決手段】プリンタ１３は印刷媒体の属性情報を記憶するメモリ２９ａを有し、画像読取装置１５で読み取られて出力された検査画像データと、プリンタ１３へ入力された元基準画像データと、印刷媒体の属性情報と、を取得するデータ取得部２０と、属性情報の補正パラメータを記憶しておく補正パラメータ記憶部２１ａと、データ取得部２０で取得した属性情報に対応する補正パラメータを用いて元基準画像データを補正し、補正後基準画像データを生成する画像生成部２１と、検査画像データおよび基準画像データから検査画像データを生成し、検査画像データと補正後基準画像データとの一致度を、予め定めた値を用いて比較して印刷画像の画像検査を行う画像検査部２２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
試料上の欠陥からの散乱光強度が、欠陥径に応じて微小になった場合には、センサから出力される検出信号にはセンサ素子自身の暗ノイズの占める割合が大きくなり、微小な欠陥の検出が困難となる。また、レーザ光源はパルス発振しているため、センサから出力される検出信号にはレーザ光源のパルス成分も重畳することになり、高精度に欠陥を検査することが困難となる。
【解決手段】
試料の表面にパルス発振してレーザビームを照射する照射手段と、前記照射手段による照射により該試料の表面より発生した散乱光を検出する検出手段と、前記照射手段により照射された該レーザビームに基づき遅延信号を生成し、該遅延信号を用いて前記検出手段により検出された散乱光を処理する処理部とを備えた欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【課題】容器に貼付されたラベルの良否がラベラ内で検査できるラベル検査装置を提供する。
【解決手段】自転しながら公転軌道３ａを公転する容器２にラベル７を貼付するラベラ１と、ラベラ１の公転軌道３ａを挟んで対向し、かつラベルの正面方向またはラベルの側面方向に設置された少なくとも一対の撮像手段１２ａ〜１２ｄと、撮像手段１２ａ〜１２ｄが撮像した容器２の画像をから容器２に貼付されたラベル７の特徴点を計測する画像計測演算手段と、ラベル７の良否を判定する基準値が設定された良否判定基準値設定手段と、画像計測演算手段が計測した特徴点と基準値とを比較演算してラベル７の良否を判定する良否判定演算手段とから構成したもので、ラベラ１内に撮像手段１２ａ〜１２ｄを設置するだけでよいため、既存のラベラにも容易かつ安価に実施することができる。 （もっと読む）

【課題】被検査面における欠陥の位置に依存せずに欠陥の有無を判断できる検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】本明細書に開示する欠陥の検査方法は、明部１１ｂ及び暗部１１ｃを有する照明パターンを、被検査面２１に照射し、被検査面２１の同じ領域が、明部１１ｂで照らされる第１画像３０ａ及び暗部１１ｃで照らされる第２画像３０ｂを取得し、被検査面２１の所定領域に対応する第１画像３０ａ内の領域の輝度と、基準被検査面が明部１１ｂで照らされて取得された第１基準画像内の被検査面の上記所定領域に対応する領域の輝度と、被検査面２１の被検査面２１の所定領域に対応する前記第２画像３０ｂ内の領域の輝度と、基準被検査面が暗部１１ｃで照らされて取得された第２基準画像内の被検査面の上記所定領域に対応する領域の輝度とに基づいて、被検査面２１の所定領域の欠陥の有無を判断する。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭの欠陥観察方法及びその装置において、ウェハ上の多様な欠陥を高速、高感度に欠陥を観察する。
【解決手段】他の検査装置で光学的に検査して検出した試料１上の欠陥の位置情報と他の検査装置の光学的な検査の条件の情報を得、他の検査装置で検出した欠陥をＳＥＭ６で観察するためのテーブル上に試料を載置し、このテーブル上に載置した試料上の欠陥を光学的に検出するための検出条件を得た他の検査装置の光学的な検査条件の情報に基づいて設定し、テーブル上に載置した試料上の欠陥の中から抽出した欠陥を設定した光学的な検出条件に基づいて検出してこの抽出した欠陥のテーブル上での位置情報を得、この得た抽出した欠陥のテーブル上での位置情報に基づいて他の検査装置で検査して検出した欠陥の位置情報を修正し、この修正した欠陥の位置情報を用いてテーブル上に載置した試料上の欠陥をＳＥＭ６で観察する欠陥観察方法及びその装置とした。 （もっと読む）

【課題】被検査体の移動速度が大幅に変化する場合でも、被検査体上の疵を安定して検出する。
【解決手段】移動する被検査体２から反射された光を受光するラインセンサカメラ１と、ラインセンサカメラ１から一定周期で出力される撮像信号を一時記憶する撮像信号用バッファ６と、被検査体２の移動距離を検出するロータリエンコーダ９と、ロータリエンコーダ９によって検出された被検査体２の移動距離が所定間隔に達した時点で、撮像信号用バッファ６に一時記憶されている撮像信号を読み出す制御を行う画像取り込み制御ユニット８ｂと、撮像信号用バッファ６から読み出された撮像信号から被検査体の表面の疵候補点を検出する疵検出部とを備える表面検査装置。 （もっと読む）

【目的】欠陥の検出および検出される欠陥種別の判定を行うパターン検査装置を提供する。
【構成】光源と、偏光状態の異なる第１の検査光と第２の検査光とを発生する検査光発生部を含み、第１の検査光と第２の検査光とを試料の同一面に照射する反射照明光学系と、試料に照射される第１の検査光と前記第２の検査光とを、それぞれ第１の像と第２の像として結像する結像光学系と、第１の像と第２の像とを拡大する拡大光学系と、拡大光学系で拡大される第１の像と第２の像とを撮像する画像センサと、画像センサで撮像される第１の像の画像である第１の検査画像と、第２の像の画像である第２の検査画像とを記憶する記憶部と、記憶部に記憶される第１の検査画像を第１の基準画像と比較し、第２の検査画像を第２の基準画像と比較して欠陥を検出する検出部と、欠陥の欠陥種別を判定する判定部と、を備えるパターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】
複数の方向に配置した複数の検出器からの信号を基板の高さ変動の影響を受けることなく処理して基板上のより微細な欠陥を検出することを可能にする。
【解決手段】
第１の集光検出手段と第２の集光検出手段とにそれぞれ複数列の光センサアレイを有する光電変換器を備え、処理手段は第１及び第２の集光検出手段のそれぞれの複数列の光センサアレイからの検出信号を用いて試料の表面に対する第１及び第２の集光検出手段の焦点位置のずれを求め、この求めた第１及び第２の集光検出手段のそれぞれの焦点位置のずれに応じて第１の集光検出手段から出力された検出信号と第２の集光検出手段から出力された検出信号とを補正し、この補正した第１の集光検出手段から出力された検出信号と第２の集光検出手段から出力された検出信号とを統合して試料上の欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】液体の性質や容器表面の情報に左右されることなく効率的に液中異物の有無を検出することができる液中異物検査方法を提供する。
【解決手段】被検査体を連続的に搬送し、所定の検査位置にて単一の被検査体に対して光を照射するとともに隔離配置された第１及び第２撮像手段により被検査体を同時に撮像し、第１撮像手段によって撮像された第１画像と第２撮像手段によって撮像された第２画像とからそれぞれ所定画素以上のシルエット像の有無を検出し、第１及び前記第２画像に同一のシルエット像が検出された場合には、予め定められた第１及び第２撮像手段の各位置と第１及び第２画像のシルエット像位置に基づいてシルエット像の３次元位置を三角法により測定してシルエット位置情報を得るとともに、シルエット位置情報と容器表面の３次元位置が予め記憶された容器位置情報とを比較してシルエット像が容器表面に位置するか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】位相シフト法を用いて３次元計測結果の表示が可能で、また２次元計測が可能な外観検査装置及び印刷半田検査装置を提供することにある。
【解決手段】印刷半田検査装置１は、検査対象物１００に対し斜め上方であって対向する２方向から位相変化光を照射可能な一対の第１照明装置２と、前記検査対象物に対し上方からＲＧＢ光を照射可能な第２照明装置３と、前記検査対象物を白黒画像で撮像可能な撮像装置４と、を備えている。そして、前記検査対象物の同一撮像面に対し前記２方向の位相変化光を照射して撮像し、該撮像の前又は後にて前記検査対象物の同一撮像面に対し前記ＲＧＢ光を順次照射して撮像し、各画像を合算した画像により前記検査対象物の外観を検査する。 （もっと読む）

【課題】ＭＴ法を利用して検査品の良否判定を行う技術において、良否判定をするための処理時間を短縮し、なおかつ検査品に偏りがある場合であっても、良否判定を精度良く行うこと。
【解決手段】マハラノビス距離を算出するためのマハラノビス基準空間の生成にあたり、先ず、良品サンプルの良品画像を取得する（Ｓ１）。次いで、その良品画像に対して、２値化処理→平滑処理→差分処理の画像処理を施して、良品画像に含まれる、他の領域に比べて良品の程度が劣る良品グレー領域を検出する（Ｓ２）。次いで、検出した良品グレー領域の輝度分布データを算出する（Ｓ３）。次いで、その輝度分布データに基づいて、マハラノビス基準空間を生成する（Ｓ４）。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハなどのパターンが形成された試料のマクロ検査装置において、寸法・形状の異常を高感度で検出可能にする。
【解決手段】パターンが形成された試料の検査装置において、パターンが形成された該試料に光を照明する照明光学系と、該パターンの散乱光を受光する検出光学系と、該検出光学系の瞳面に配置され、該パターンのフーリエ像を撮像する撮像素子と、該フーリエ像を正常なパターンのフーリエ像と比較し、該パターンの異常を検出する処理部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体欠陥信号の検出における、統計システム及びその方法に関するものである。
【解決手段】この統計システムは、オンラインモニター、欠陥信号分析、欠陥情報データベース及び欠陥情報統計処理を含み、上記欠陥信号分析には、欠陥信号解析ユニット、欠陥信号検出ユニット及び欠陥情報行列を含む。また欠陥信号検出ユニットには、順序検出サブユニット、繰り返し検出サブユニット、グルーピング検出サブユニット、オーバーラップ検出サブユニット及び未定義信号検出サブユニットが含まれる。本発明の提供する方法においては、検査工程では検出されていない半導体ウエハが、再び欠陥信号検出ユニットの各サブユニットでの検出を経るので、半導体ウエハ欠陥モードのマッチング確率を向上させ、誤報告及び報告漏れを減少させる。さらに欠陥信号検出の検出確度を向上させることにより本発明での半導体欠陥信号の検出及び統計方法が、従来技術における人為的検出方法に取って代わることができ、半導体製造コストを低下させる可能性を持つ。 （もっと読む）

【課題】 高価な位置検出器を取り付けることなく、シート材端部の観察画像が常に最適状態にある観察装置及び方法、並びに、観察画像を用いた評価結果にばらつきが生じることを防ぐことができる観察評価装置及び方法を提供する。
【解決手段】 連続搬送されるシート材端部を第１及び第２の観察手段を用いて観察評価する装置及び方法において、
第１の観察手段は、シート材の幅方向端部を視野に含み、厚み方向にシート材端部との距離が変更可能な第１の観察手段位置変更機構に取り付けられ、
第２の観察手段は、シート材の厚み方向端部を視野に含み、幅方向にシート材端部との距離が変更可能な第２の観察手段位置変更機構に取り付けられており、
第１及び第２の観察手段での観察情報に基づき、シート材の幅及び厚み方向端部の位置を検出し、第１及び第２の観察手段位置変更機構を制御することを特徴とするシート材端部の観察評価装置及び方法である。 （もっと読む）

【課題】検出対象とする欠陥の検出精度を向上させ、当該欠陥に関する散乱光信号の取得量をより適正化することができる欠陥検査装置、欠陥情報取得装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】移動する試料台１１上のウエハ１００に検査光２１を斜方照射する検査光照射装置２０と、ウエハ１００からの散乱光１ａ−１ｃを検出する散乱光検出器３０ａ−３０ｂと、ウエハ１００上の同一座標から同時に発生した散乱光１ａ−１ｃについての散乱光検出器３０ａ−３０ｂによる散乱光信号２ａ−２ｂを論理演算して当該散乱光信号が欠陥で散乱した欠陥信号か否かを判定し、欠陥信号と判定された散乱光信号のみを出力する欠陥判定部４５と、欠陥判定部４５から出力された散乱光信号を記憶する記憶部５６と、複数の論理演算から選択した一又は複数を組み合わせて欠陥判定部４５で欠陥の判定条件として用いる論理演算式を設定する操作部５２とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）