【課題】精度よく欠陥検出を実施する欠陥検出装置、および欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】欠陥検出装置１は、検査対象物Ｘを撮像して撮像画像を取得する撮像部３と、撮像画像を複数の検査領域に分割する画像分割手段と、各検査領域の標準偏差を演算する標準偏差演算手段と、標準偏差に基づいて検査対象の検査領域を抽出する影部抽出手段と、検査領域に対して、影方向に沿った走査方向を設定する影方向判定手段と、走査方向に沿う各検査対象画素の輝度変化量を演算するとともに、この輝度変化量が所定の欠陥閾値以上となる検査対象画素を欠陥として検出する欠陥検出手段と、を具備した。 （もっと読む）

構造化光を用いて、製造された物品（９４）の合い具合及び仕上がりについての問題を検出する改善された方法及び装置。反対方向から取得される２つ以上構造化光画像（９２、９８）を用いて、継ぎ目の付近の小さい欠陥によって引き起こされる誤検出を回避しながら、接合面の合い具合を測定する。 （もっと読む）

【課題】最小限の操作で基板検査装置が撮像した最新の画像データを表示させることが可能な基板検査方法および基板検査システムを提供すること。
【解決手段】基板検査装置の撮像した最新の画像データを表示させるための表示指示を入力するだけで、基板検査装置を特定するための基板検査装置識別子がデータベースサーバに送信され、これを受信したデータベースサーバが、基板検査装置識別子に基づいて画像データベースを検索し、現在時刻から見て最新の画像データを基板検査装置に送信する。 （もっと読む）

【課題】液晶パネル、プラズマディスプレイ、半導体ウェハ等などの繰返しパターンが形成されている検査対象物の欠陥検査を精度良く、しかも、非検査領域が存在しない検査方法を提供すること。
【解決手段】注目画素と代表的な繰返しピッチ分だけ離れた比較画素群の輝度を比較演算する比較演算処理と、注目画素と代表的な繰返しピッチから微小画素数分だけ離れた場所における輝度を比較演算する比較演算を並列で行う、繰返しパターンを有する基板の検査方法。 （もっと読む）

【目的】回転位相板及び四分割ミラーを用いずにインコヒーレント化する照明装置を搭載したパターン欠陥検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン欠陥検査装置１００は、基本波を発光する光源１４０と、基本波を、基本波の偏向状態を維持した第１と第２の分波に分岐し、第１の分波と第２の分波とを同一光路長で合成する光学系１４２と、第１の分波の光路上に配置され、第１の分波の偏向面と第２の分波の偏向面とが直交するように第１の分波を偏向するλ／２波長板３０と、光学系１４２により合成された合成波をパターンが形成された被検査対象に照射する光学系１４４と、被検査対象を載置するＸＹθテーブル１０２と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、回転位相板及び四分割ミラーを用いずにインコヒーレント化された照明光を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＰＧ塗布ラインの良否を正しく検査し、量産ラインにおいて多数のワークに形成されたＦＩＰＧ塗布ラインの不良発生の経時的変化を正しく把握する。
【解決手段】ＦＩＰＧ塗布ラインを含む被検査面の画像を２値化処理するステップ（第１工程）１０３を備える。また、パターンの位置及びパターン構成要素の寸法が予め設定された２値の繰返し模様状のパターン画像とステップ１０３により得られた２値化処理画像との間で論理積演算して第１判定用画像を得るステップ（第２工程）１０４と、前記パターン画像の反転画像と前記２値化処理画像との間で論理積演算して第２判定用画像を得るステップ（第３工程）１０６を備える。そして、第１、第２判定用画像によってＦＩＰＧ塗布ラインの良否を判定するステップ（第４工程）１０８を備えて構成する。ＦＩＰＧ塗布ラインの良否判定をディジタルの画像データを用いた定量値で行い、かつその良否判定結果を蓄積保存可能とした。 （もっと読む）

【課題】偏光状態の変化そのものを検出することで、より高精度な欠陥検出を行うことが可能な表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、所定の繰り返しパターンを有するウェハ１０の表面に直線偏光を照射する照明系３０と、直線偏光が照射されたウェハ１０の表面からの反射光を受光する受光系４０と、繰り返しパターンにおける欠陥の有無を検査する信号処理ユニット５０と、信号処理ユニット５０による検査結果を表示するモニタ５５とを備え、受光系４０は、互いに透過軸の向きが異なる複数種の偏光素子の領域からなる偏光素子アレイ４４と、反射光のうち偏光素子アレイ４４を透過した光を偏光素子の領域毎に受光する二次元撮像素子４９とを有し、モニタ５５は、繰り返しパターンで反射する際に生じる直線偏光の偏光状態の変化を輝度情報に換算して偏光素子の領域毎に二次元的に表示するようになっている。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの検査において、ソルダレジストが塗布された部分は画像データの輝度が低くなるため、画像処理を利用した欠陥検査では回路パターンを取得しにくかった。ソルダレジストが塗布された部分の回路パターンを得るためには、照射する光を強くする必要があるが、ソルダレジストを塗布しなかった部分は白飛びになってしまい、ソルダレジストがある部分と無い部分を検査するための検査装置が必要であった。
【解決手段】強い光を照射し、白飛びを起こした部分を画像データから削除して欠陥検査を行い、次に通常の強度の光を照射して白飛びして削除された部分の欠陥検査を行う。 （もっと読む）

【課題】ディスクの表面（記録面部分）及び端面（エッジ部）の同時検査や両面の同時検査に好適なディスク検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】垂直姿勢で保持されたディスク12の面に対し、照明装置112，114,116,118からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ102,104によって撮像する。照明光は、光ファイバーなどのライトガイドを使用して照射パターン形状を整形し、ディスク12のテクスチャの接線方向に沿って照射する。カメラ102,104から得られる画像を解析し、ディスクの中心位置と半径を求めて自動的に各検査面のウインドウを形成する。また、検査画像からエッジ部分における反射形状を認識し、当該反射形状に基づき、塵埃と塵埃以外の要因によるものとを判別して塵埃の検出と測定を行う。 （もっと読む）

【課題】基板上のパターンの欠陥を検出する際に被検査画像を２値化して検査用の処理済画像を生成するための閾値を高精度に求める。
【解決手段】欠陥検出装置では、撮像部により基板の被検査画像が取得され、被検査画像にエッジ抽出フィルタを適用した上で２値化することによりエッジが抽出される。そして、被検査画像からエッジが除去されたエッジ除去済画像の濃度ヒストグラムに基づいて、被検査画像を２値化して検査用の処理済画像を生成するための検査用閾値が求められる。濃度ヒストグラムでは、エッジが除去されることにより、配線パターンに対応する濃度分布と基板本体に対応する濃度分布との間の濃度帯において画素の頻度が０となり、２つの濃度分布が明確に分離される。このため、基板本体に対応する濃度分布の最大濃度を検査用閾値とすることにより検査用閾値を高精度に求めることができる。 （もっと読む）

【目的】擬似欠陥を低減させるパターン検査を行う装置および方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置１００は、パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、前記光学画像データと前記光学画像データに対応する参照画像データとを入力し、前記光学画像データの複数の画素値と前記参照画像データの複数の画素値との関係を基に、前記光学画像データの画素値レベルと前記参照画像データの画素値レベルとの少なくとも一方を調整するレベル調整回路１４０と、画素値レベルが調整された前記光学画像データと前記参照画像データとを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】粒状物等の判別精度を向上させた光学式判別装置（光学式選別装置）を提供することを技術的課題としたものである。
【解決手段】
粒状物等の光学式判別装置（又は光学式選別装置）における判別手段（FPGA）11は、しきい値領域K1を設定するにあたって、移送手段3によって移送した判別すべき原料サンプルから反射光及び／又は透過光を前記撮像部9a,9bで撮像し、該撮像データ9a,9bにおける任意の二波長の各濃度値を二次元グラフ上に描画し、該二次元グラフ上に描画した各濃度値画素b1の全てを対象に、このうちの異なる２点の画素b1を直径とする２点間円Ｎの中に当該２点の画素以外の画素b1があるか否かを判定し、該判定によって前記２点間円Ｎの中に当該２点の画素以外の画素b1が無い場合にのみ当該２点画素b1,b1を接続線Ｑで結び、これら各接続線Ｑの接合によって描画された閉領域Ｋ１を前記しきい値領域Ｋ１として設定する。 （もっと読む）

【課題】互いに同一であるべき画素同士のグレイレベル差を所定の検出閾値と比べて画素同士の違いを検出する欠陥検査において、グレイレベル差を検出し又は検出閾値を決定する際に、検査画像に含まれるノイズ成分による影響を低減する。
【解決手段】同一の単位パターン５１〜５５が繰り返し現れる検査画像６１内のある検査画素７１に欠陥が存在するか否かを判定する際に、この検査画素７１、及びこの検査画素が含まれる単位パターン５１と異なる他の複数の単位パターン５２〜５５内においてこの検査画素７１にそれぞれ対応する画素７２〜７５のうちの少なくとも３つの画素の画素値のうちのいずれかを基準画素値として選択して、この基準画素値と検査画素７１の画素値とを比較することにより、この検査画素７１が欠陥候補か否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンが形成された試料の表面を撮像して得られる検査画像において、この繰り返しパターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのそれぞれの対応する部分同士を比較することにより、試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査において、一部のパターンが欠けた不完全な単位パターンにおいても欠陥検出を可能にする。
【解決手段】試料１００の繰り返しパターンに対応して試料の撮像画像に繰り返し現れる単位パターンＤ１〜Ｄ４のそれぞれの対応する部分同士を比較することにより欠陥を検出する欠陥検査欠陥検出装置５０において、各単位パターンの領域Ｄ１〜Ｄ４を複数のフレームに分割したフレーム（１〜３２）の単位で欠陥検出処理を行う対象領域を指定する。 （もっと読む）

【目的】素子間でのばらつきに起因する測定データの誤差を抑制する検査装置及び方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の検査装置１００は、被検査試料を載置するＸＹθテーブル１０２と、ＸＹθテーブル１０２と相対的に移動する第１の方向と直交する第２の方向に並ぶ複数の受光素子を有し、これら複数の受光素子を用いて被検査試料の光学画像を撮像するラインセンサ１０５と、第２の方向に画素単位でずらした位置でラインセンサ１０５によって重複して撮像された各画素データを画素毎に累積する累積部１３２と、画素毎に累積された画素データと所定の参照データとを比較する比較部１３９と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、異なる受光素子で撮像された画素データが画素毎に累積されるので素子間の特性のばらつきを平均化することができる。 （もっと読む）

【課題】被検査物の欠陥検出の感度を向上することができる欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】欠陥検出方法は、被検査物の撮像画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程と、その工程で得られた各画素の欠陥強調値に基づいて欠陥を検出する欠陥検出工程を有する。欠陥強調処理工程は、検査対象画素を順次選定する検査対象画素選定工程ＳＴ２１と、検査対象画素の周囲に所定距離離れて複数配置された比較対象画素を、複数の比較対象画素群に分けて設定する比較対象画素群設定工程ＳＴ２２と、比較対象画素群の各比較対象画素と検査対象画素の各輝度値の差である輝度差データを求め、その値が最小となる最小輝度差を比較対象画素群毎に求める最小輝度差算出工程ＳＴ２３と、比較対象画素群毎に算出された最小輝度差のうち、値が最大となる最小輝度差を前記検査対象画素の欠陥強調値とする欠陥強調値算出工程ＳＴ２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ノイズの影響を簡便に低減させ、高画質で高品質の画像データを取得する多重スキャンによる画像取得方法、画像取得装置および試料検査装置を提供する。
【解決手段】 マスク１１が載置されたステージに対して、１次元画像センサのライン方向と交差するＸ方向の走行移動と、ライン方向であるＹ方向のステップ移動と、を繰り返して第１スキャン・・・第９スキャン・・・第ｎスキャンの多重スキャンを行い、１次元画像センサによりマスク１１の２次元画像データを取得する画像取得方法において、ステップ移動量を、１次元画像センサのライン方向の画素数からなるセンサ幅Ｗより小さくして、マスク１１の同一領域の画像を１次元画像センサのライン上の異なる画素で複数回撮像し、これ等の異なる画素で撮像して得た画像データを画素間演算し平均化処理あるいは比較処理する。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの欠陥検査方法では、検査精度を高めるためには、画像の分解能をあげなければならない。また、回路基板の集積密度も向上しており、画像の分解能は高くする必要性もでる。しかし、画像の分解能を上げると、画像データ量が増える。するとＣＣＤなどの画像変換素子のデータ転送速度がコンピュータの処理速度より低いため、検査時間が増大するという課題があった。
【解決手段】比較的低い分解能で回路パターンの映像を撮り、画像補間によって情報量を増やす。その上で２値化した画像データを用いて欠陥検査を行う。このようにすることで、ＣＣＤなどの画像変換素子からのデータ転送時間を短くすることができ、またデータ補間と２値化によって、誤検出や過検出といったことのない精度よい欠陥検出をすることができる。 （もっと読む）

【課題】カラーハイライト照明で検出が難しいはんだの急峻な面や平坦面を判別できるようにするとともに、はんだ以外の部位を白色照明下で撮像できるようにする。
【解決手段】基板Ｓの上方に、カラーカメラ１Ａと赤外線カメラ１Ｂとを各受光面が基板面に対向するように配備する。またカメラ１Ａ，１Ｂと基板Ｓとの間には、赤、緑、青の各可視光をそれぞれ異なる方向から照射する第１照明部２Ａと、カメラ１Ａの光軸１１に沿って赤外光を照射する第２照明部２Ｂとを設ける。カメラ１Ａでは、第１照明部２Ａからの光に対する基板Ｓからの反射光の入射によるカラー画像を生成し、カメラ１Ｂは、赤外光に対する反射光の入射による濃淡画像を生成する。フィレット以外の部位を検査する場合には、カラー画像の対応箇所の画像を処理し、フィレット検査の際には、カラー画像および濃淡画像を用いて５段階の傾斜レベルに相当する部位を特定する。 （もっと読む）

【課題】内容物の位置ズレを高精度に検出できる分包シート検査システム及び検査方法を提供する。
【解決手段】分包シートの外面に照射光を照射可能な光源と、前記光源から照射された照射光が分包シートの外面で反射された反射光を受けて映像信号を発生させる撮像手段４と、撮像手段４から出力される前記映像信号にエッジ強調処理を行なうことでシール部を強調するとともに、強調されたシール部において、分包シートの外端からポケット部とシール部との境界までの距離をシール長を計測するシール長計測装置６と、分包シートに照射するＸ線を照射可能なＸ線源７と、このＸ線照射に伴うＸ線透過量を検出するＸ線検出器８と、シール長の情報を入力してポケット部の位置と適合する検査領域を設定し、Ｘ線検出器８で検出されたＸ線透過量に基づいて、検査領域における内容物を検査する判定手段９とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）