【課題】半導体基板表面の清浄度を正確に確認することのできる半導体基板洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】半導体基板洗浄装置１００は、半導体基板１０を洗浄する洗浄部１と、洗浄部１で洗浄された半導体基板１０の表面の反射強度を測定する反射式センサ２と、反射式センサ２による反射強度の測定結果に基づき、半導体基板１０の洗浄の適否を判定する判定部３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】光学フィルムを製造する際に発生するムラまたはその他の視認性の低い欠陥を効果的に検出する。
【解決手段】フィルム欠陥監視装置は、一方向に移送されるフィルムの上面において既設定された周期ごとに前記フィルムの画像を取得する画像取得モジュールと、前記画像取得モジュールで取得された画像の中から選択される二以上の画像を積層し、積層された画像の輝度を増幅する画像処理モジュールと、前記画像処理モジュールで積層及び増幅された画像を画面上に表示する出力モジュールとを備える。 （もっと読む）

【課題】目視される物体の表面に関する３次元データの品質の指示を表示するための方法およびデバイスを提供する。
【解決手段】目視される物体２０２の表面２１０の画像５００を獲得して、表示するステップであって、画像５００の複数のピクセル２３１、２３２、２３３、２３４は、目視される物体２０２上の複数の表面ポイント２２１、２２２、２２３、２２４に対応する、ステップと、複数の表面ポイントに対応する複数のピクセルの各ピクセルに関して、ピクセルに対応する表面ポイントに関する３次元座標が利用可能性であるかどうかを判定するステップと、ピクセル２３１に対応する表面ポイント２２１に関する３次元座標が利用可能でない各ピクセル２３１に関する第１のオーバーレイ２５０を表示するステップとを備える方法。 （もっと読む）

【課題】基板縁部の状態を簡単に早く検出することが出来る基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置１００は、表面に膜を塗布した基板Ｗを保持し回転する回転テーブル５と、基板Ｗに光を照射する光照射手段２と、光照射手段２による基板Ｗ表面からの正反射光を受光し、撮像画像の信号出力する光電変換手段４と、を備える。そして、基板Ｗの回転中心を含んで回転中心から半径方向の一走査分の電気信号の回転手段一周分の検出値を加算して二次元画像を生成し、二次元画像の一方向に沿って設定された判定バンドから変化点を判断する。したがって、基板Ｗ上においてＥＢＲ線の良否を簡単に判断することができ、処理効率の良い検査が可能になる効果を奏する。 （もっと読む）

【課題】ノズル穴に生じる欠陥の種類を特定可能なノズル外観検査装置、およびノズル外観検査方法を提供すること。
【解決手段】ノズル外観検査装置１００は、ノズル穴の開口部の画像を取得する画像入力手段６０と、画像の二値化画像を生成する二値化手段６１と、二値化画像からノズル穴の内輪郭および外輪郭を検出する輪郭検出手段６２と、内輪郭の近似円である内輪郭近似円および外輪郭の近似円である外輪郭近似円を算出する近似円算出手段６３と、内輪郭および外輪郭と内輪郭近似円および前記外輪郭近似円とを比較して、内輪郭および外輪郭の形状の特徴を示す特徴フラグを内輪郭および外輪郭上の各点に対して設定するフラグ設定手段６４と、特徴フラグに基づいて欠陥の種類を示す欠陥フラグを設定し、欠陥の種類とその位置を検出する欠陥検出手段６５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターン、特に、ＬＣＤ製造用フォトマスクのような基板において、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによって、むら検査を実施することができるむら検査装置、むら検査方法およびむら判定方法を提供することを課題とする。
【解決手段】回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってむら検査を実施することができる検査装置およびむら検査方法。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置のレシピで設定するセル領域の設定を自動化する方法を提供する。
【解決手段】CellMatAreaの区別をCellMatAreaと非CellMatAreaのGrayLevelの分布特徴の差を用いてイメージをスキャンして、その結果からCellMatAreaと非CellMatAreaを分ける方法を取った。具体的にはCellMatの始点と終点を区別するための基準になる閾値をMemoryCellだけあるAreaで計算した後、その閾値を適用して始点と終点を探してそのそれぞれを繋げてCellAreaを作成した。 （もっと読む）

【課題】
被検査面が円筒側面形で鏡面反射性を有し、円筒中心軸に対して回転する前記被検査面に対応する曲率および前記被検査面の位置の少なくとも一方が経時的に変化する被検査体表面に発生する微小な凹凸欠点を精度よく検出できないという問題点を解決する。
【解決手段】
被検査体に明暗パターンの光を照射する光照射手段と、前記被検査体から反射した前記明暗パターンを撮像する撮像手段と、前記撮像手段で撮像した前記明暗パターンを含む撮像画像に基づいて前記被検査体の表面を検査するデータ処理手段とを備える表面検査装置であって、データ処理手段が、撮像手段により連続で撮像された２枚の画像から、各画像内の明暗パターン領域を比較することにより、微小な凹凸欠点を高精度に検出できる。 （もっと読む）

【課題】検査データと組み合わせて設計データを使用するためのさまざまな方法及びシステムが実現される。
【解決手段】設計データ空間における検査データの位置を決定するための一コンピュータ実施方法は、ウェハ上のアライメント部位に対する検査システムにより取り込まれたデータを所定のアライメント部位に対するデータにアラインさせることを含む。この方法は、さらに、設計データ空間における所定のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置を決定することを含む。それに加えて、この方法は、設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間における検査システムによりそのウェハについて取り込まれた検査データの位置を決定することを含む。一実施形態では、検査データの位置は、サブピクセル精度で決定される。 （もっと読む）

【課題】
微小な欠陥を検出すること、検出した欠陥の寸法を高精度に計測することなどが求められる。
【解決手段】
光源から出射した光を、調整する照明光調整工程と、前記照明光調整工程により得られる光束を所望の照明強度分布に形成する照明強度分布制御工程と、前記照明強度分布の長手方向に対して実質的に垂直な方向に試料を変位させる試料走査工程と、照明光が照射される領域内の複数の小領域各々から出射される散乱光の光子数を計数して対応する複数の散乱光検出信号を出力する散乱光検出工程と、複数の散乱光検出信号を処理して欠陥の存在を判定する欠陥判定工程と、欠陥と判定される箇所各々について欠陥の寸法を判定する欠陥寸法判定工程と、前記欠陥と判定される箇所各々について、前記試料表面上における位置および前記欠陥の寸法を表示する表示工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】クラックでない線状の領域の誤検出を招くことなく、高精度にクラックを検出する。
【解決手段】クラックの領域を映している可能性がある画素を選別する画素選別処理部４と、画素選別処理部４により選別された画素を繋ぎ合わせて線状の画像領域を形成し、その画像領域がクラックの一部を構成している線分であるか否かを判別する線分判別処理部５と、線分判別処理部５によりクラックの一部を構成していると判別された線分を繋ぎ合わせて折れ線を形成し、その折れ線がクラックに相当する折れ線であるか否かを判別する折れ線判別処理部６とを設け、折れ線判別処理部６によりクラックに相当すると判別された折れ線を表示する。 （もっと読む）

【課題】 コークス炉の炭化室の炉壁に対して炉長方向に移動させながらレーザ光を照射し、レーザスポットの画像と炉壁の画像とを重畳させた画像から壁面の凹凸量を測定するに際し、レーザスポットの画像を正確に抽出する。
【解決手段】 壁面観察装置１００によって、炭化室１１の炉壁１４に対して奥行方向に移動しながらレーザ光を照射し、レーザスポット４２の画像が重畳された「炉壁１４の画像」を取得する。このとき、レーザスポット４２の奥行方向に延びる線分（レーザ線分６０１）の幅（炭化室１１の高さ方向の長さ）が、耐火煉瓦の目地６０２の幅よりも短くなるようにレーザ光を照射する。そして、レーザスポット４２の奥行方向に延びる線分（レーザ線分６０１）として想定される幅と同じ幅の高輝度領域の輝度だけを元の輝度よりも高くするレーザ線分強調処理を実行した上で、レーザ線分６０１を追跡するレーザ線分追跡処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】 画像処理等に精通したオペレータを必要とすることなく、検査対象物の検査面の性状を簡単且つ正確に検査することができ、コスト低減を図ることができる外観検査装置および外観検査方法を提供する。
【解決手段】 外観検査装置は、照明装置１と、撮像装置２と、表示装置３とを有する。照明装置１は、検査面Ｗａに入射する光の濃淡の形態に対して、検査対象物Ｗの検査面Ｗａでの反射光による生じる濃淡の形態が、検査面Ｗａの性状により異なるように、検査面Ｗａに濃淡の光を照射する。検査面Ｗａの加工目の状態そのものを撮像して検査するものではなく、濃淡の光を照射によって検査面Ｗａに映り込む形態で検査する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから領域毎に複数の異なる欠陥判定を行い，結果を統合して欠陥候補を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】高精度な組付判定を効率的に行える組付検査装置を提供する。
【解決手段】組付検査装置は、本体品の空画像を記憶する空画像記憶手段と、被組付品を本体品へ組付けた組付完了品の組画像を記憶する組画像記憶手段と、組付状態を検査する検査品の検査画像を記憶する検査画像記憶手段と、検査領域を記憶する検査領域記憶手段と、検査領域内の空画像の複数の色要素の輝度からなる空輝度群および／または検査領域内の組画像の複数の色要素の輝度からなる組輝度群と検査領域内の検査画像の複数の色要素の輝度からなる検査輝度群とに基づき、検査画像の検査領域内にある画素の特性を指標する指標値を算出する指標値算出手段と、指標値の閾値であり検査領域に対応して設定される指標閾値を記憶する指標閾値記憶手段と、指標値と指標閾値に基づいて検査品の組付の良否を判定する組付判定手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗膜で光を反射させたときの明暗の境界の鮮明さを定量的に表す評価値を用い、従来の官能評価と合致する評価を得ることができ、評価のばらつきを抑えることが可能な塗装ムラ評価値算出方法、塗装ムラ評価値算出装置、及び塗装ムラ評価方法を提供する。
【解決手段】塗膜へ光を照射し、当該光の正反射光が入射しない角度から撮像した画像を複数の領域に区分し、各領域の明度を求めて近傍の領域間の明度差に基づき、画像全体での明度の勾配に係る値を求め、塗膜の塗装ムラの評価値とする。塗膜Ａのように階調的に変化する場合と、塗膜Ｂのように急激に変化する場合とでは塗膜Ｂの方が明暗の境界が鮮明となり、塗装ムラの評価は悪くなる。算出される明度の勾配に係る値により、定量的な塗装ムラの評価が可能となる。 （もっと読む）

【課題】径サイズの異なるタイヤの検査に容易に適用可能なタイヤ検査装置及びタイヤ検査方法を提供する。
【解決手段】タイヤ検査装置１は、タイヤＴの検査面Ｔａを撮像する第１撮像部１０と、検査面Ｔａを撮像する第２撮像部２０と、画像データ補正部１０３とを備える。第１撮像部１０は、タイヤの回転軸方向視において、第１撮像部１０の光軸Ａｘ１０が法線Ｎ１に一致するとともに検査面Ｔａを撮像するように配置されており、第２撮像部２０は、第２撮像部２０の光軸Ａｘ２０が法線Ｎ１に平行に検査面Ｔａを撮像するように配置されている。画像データ補正部１０３は、第２撮像部２０によって取得された画像と第１撮像部１０によって取得された画像とを一致させるように第２撮像部２０によって取得された画像を補正する。 （もっと読む）

【課題】検出または検査されるべき物体が位置する可能性のある二次元視野のデジタル画像を取得し、画像の分析と物体の状態の決定と記録を行う、物体の自動光電子検出および検査のための方法および装置を提供する。
【解決手段】決定は、物体が視野に位置する複数の画像から得られる証拠に基づき、一般に複数の視点に対応して行われる。物体が視野に位置する証拠は、検出のために使われ、物体が適切な検査基準を満たす証拠は検査のために使われる。複数の視点が継続動作中の物体に対し得られるように高速で画像を取得し解析するための方法および装置が開示される。 （もっと読む）

【課題】穀粒外観品位判別装置を利用して穀粒の品位別重量比率を算出する場合であっても該重量比率を精度よく算出できる方法を提供する。
【解決手段】撮像手段により穀粒を撮像し、該撮像データに基づいて穀粒の品位を判別する穀粒外観品位判別装置における品位別重量比率の算出方法において、複数の穀粒を撮像し、該撮像データに基づいて前記複数の穀粒の品位を判別し、該品位を判別された複数の穀粒の前記撮像データにおける画素数を品位別に集計し、該品位別に集計された画素数に予め品位別に設定される一画素当たりの重量換算係数を掛け合わせることで前記画素数を品位別の重量に換算し、該品位別の重量に基づいて当該穀粒の品位別重量比率を算出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】補正パターンを有するフォトマスクの欠陥検査において、補正パターンに由来する欠陥を除外すること。
【解決手段】本発明に係る検査装置１０は、結像面に転写される主パターンと、主パターンに対して光学近接効果補正を行う補正パターンとを有するフォトマスクを検査する。検査装置１０は、照明光源１１１と、照明光源１１１からの光を集光して前記フォトマスクに照射する光学系と、フォトマスク２０の透過像を取得する検出器１４２と、検出器１４２により得られた透過像と補正パターンのみに対応する検索画像とを用いて補正パターンに対応する除外領域を決定し、当該除外領域を欠陥検出から除外するためのフィルタを生成する処理部３０と、フィルタを用い、除外領域を除外して欠陥検査を行う欠陥判定部とを備える。 （もっと読む）