【課題】ＴＤＩセンサ等のセンサのラインレート以上のスキャン速度で検査した場合、ＴＤＩセンサのラインレートとスキャン速度が非同期となり画像がボケてしまうため、ＴＤＩセンサのラインレート以上のスキャン速度では使えないという課題についての配慮がされていなかった。
【解決手段】ＴＤＩセンサのラインレートとステージスキャン速度を非同期で制御し、且つＴＤＩセンサの電荷蓄積による画像加算ずれの課題を解決するため、被検査物に細線照明を照射し、ＴＤＩセンサの任意の画素ラインのみに被検査物の散乱光を受光させる。また、ＴＤＩセンサのラインレートとステージスキャン速度の速度比によって、検出画素サイズの縦横比を制御する。 （もっと読む）

【課題】不規則なパターンが存在する場合でも、そのパターンの影響を受けずに欠陥を検出することができる欠陥検出方法および欠陥検出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】欠陥検出方法は、画像入力工程ＳＴ１と、検査データ抽出工程ＳＴ２と、比較データ抽出工程ＳＴ３と、背景パターン方向算出工程ＳＴ４と、欠陥検出工程ＳＴ５とを備える。背景パターン方向算出工程ＳＴ４は、検査データおよび各比較データの比較を、各比較データを前記走査方向に移動しながら行い、その比較結果に基づいて撮像画像の背景パターン方向を算出する。また、欠陥検出工程ＳＴ５は、検査データおよび各比較データにおいて前記背景パターン方向に位置するデータの差分を求め、その差分値に基づいて欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】撮像部の視野を越える範囲の画像を取得する検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置１は、被検査対象物に対して、相対的に移動し、前記被検査対象物を撮像する撮像部１０と、前記撮像部の駆動を制御し、前記撮像部の撮像した画像を取得する制御部２０と、を具備している。制御部２０は、撮像部１０により取得された複数の画像に対して画像処理を行う画像処理部３０を有している。画像処理部３０は、取得された複数の画像を張り合わせて合成画像を作成する画像合成部３１を備えている。検査装置１は、前記合成画像を用いて前記被検査対象物の検査を行う。 （もっと読む）

フーリエフィルタリングおよびイメージ比較を用いるマスク検査システムは、第１ディテクタと、動的フーリエフィルタと、コントローラと、第２ディテクタとを含んでよい。第１ディテクタは、検査システムのフーリエ面に配置され、かつマスクの領域によって生成されるパターン付き光の第１部分を検出することができる。動的フーリエフィルタは、パターン付き光の検出された第１部分に基づいてコントローラによって制御されてよい。第２ディテクタは、マスクの一部によって生成され、かつ動的フーリエフィルタを透過したパターン付き光の第２部分を検出することができる。さらに、マスク検査システムは、パターン付き光を別のパターン付き光と比較するためにデータ解析デバイスを含むことができる。結果的に、マスク検査システムは、マスクの領域上のあらゆる可能な欠陥をより正確にかつより高い解像度で検出することができる。 （もっと読む）

【課題】 鋼板のゴールドダスト疵を、長時間安定して精度よく検査することができる表面疵検査装置を提供する。
【解決手段】 鋼板２１のゴールドダスト疵を検査する表面疵検査装置１０は、ハロゲンランプ１１と、ＣＣＤカメラ１２と、二値化処理手段１５と、ブロブ処理手段１６と、判定手段１７と、を含む。ハロゲンランプは、鋼板の表面に対して傾斜して光を照射する。ＣＣＤカメラは、ハロゲンランプと同じ傾斜側に配置され、鋼板の表面を撮像して画像信号を得る。二値化処理手段は、画像信号を二値化する。ブロブ処理手段は、二値化後の画像信号からブロブ処理結果を求める。判定手段は、鋼板のゴールドダスト疵に関する品質とブロブ処理結果との関係として予め求められる検量線に、ブロブ処理手段で求められるブロブ処理結果を対比して、鋼板のゴールドダスト疵に関する品質を判定する。 （もっと読む）

【課題】検査対象となる部品が複雑な形状を有する部品であったり複数種類の欠陥を有する部品であったりしても、短時間で精度良く欠陥を検出することができる欠陥検出方法を提供すること。
【解決手段】熟練作業者による動作・視線の動きを計測する工程（Ｓ１０）と、熟練作業者の知見に基づいて作成される重要度マップを準備する工程（Ｓ２０）と、計測された動作・視線の動きを検査システムに模擬させながら連続的な複数の撮像画像（動画像）を取得する工程（Ｓ３０）と、取得された動画像に基づいて特徴量を算出する工程（Ｓ４０）と、重要度マップおよび算出された特徴量に基づいて欠陥候補部位が存在するか否かを検査する工程（Ｓ５０）と、欠陥候補部位についての動画像の再取得を行う工程（Ｓ６０）と、取得された動画像に基づいて特徴量を算出する工程（Ｓ７０）と、算出された特徴量に基づいて欠陥の定量値化を行う工程（Ｓ８０）とを含む方法。 （もっと読む）

多数の異なる照明構成で表面をスキャニングする方法は、単一のスイープ中にシーケンシャルな仕方で複数のイメージをキャプチャするステップであって、各イメージが１以上のピクセルのラインを包含することを特徴とするキャプチャするステップと、複数のイメージの各々をキャプチャするためのイメージユニットの相対的な位置のシフトおよび照明構成の所定のシーケンスによって複数のイメージをキャプチャするのに用いられる照明構成をシーケンシャルに交代させるステップと、表面の所望の領域がスキャンされるまで関連するイメージキャプチャ位置および照明構成設定のシーケンスを繰り返すステップとを有し、所定のシフトが１０ピクセルと１ピクセル以下との間であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】同パターンが繰り返し描かれた複数のチップパターン毎に付与される互いに異なるフレア補正図形の差を考慮し、ダイ−ダイ比較方式によりマスクパターン検査を行う。
【解決手段】多層膜マスクにおいて最初の検査ストライプを指定した後、多層膜マスクを走査させて検査画像の取り込みを開始し、１つ目のチップの検査画像データを取り込み、フレアマップ格納部２６から対応するフレア補正量のデータを読み込む。次に、２つ目のチップの検査画像データの取り込み、フレアマップ格納部２６からフレア補正量データをパターン輪郭の辺のシフト量として取り込む。これらフレア補正量データは、補正データ生成回路２２がパターンの形状補正量に変換する。比較回路２３では、取り込んだ２つのチップのパターン形状を、補正データ生成回路２２が生成したパターンの形状補正量に基づいて補正し、２つのチップのパターンを画像比較して欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】画像データを基に求められたスペクトルデータを利用し、検査対象品のスペクトルの波形形状と良品のスペクトルの波形形状との相違の度合いが表現できるように定義した数値指標を用いて検査対象品の外観の良否判定を行うこと。
【解決手段】検査対象品及び良品を撮影した画像のそれぞれについて各画素位置に対する輝度分布を画像内の行又は列毎にスペクトル化し、前記検査対象品のスペクトルの波形形状と良品のスペクトルの波形形状との相違の度合いが表現できるように定義した数値指標を用いて良否判定を行う。このスペクトル化は、前記画像内の行又は列方向に一又は複数の位置ずつ移動しながら輝度分布をスペクトル化していき、複数の行又は列方向のスペクトル、もしくは、これらの複数の行又は列方向のスペクトルを連結した１つのスペクトルとすることができる。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査において、疑似欠陥の発生を抑制しつつ、微小欠陥の検出感度を向上する。
【解決手段】欠陥検査装置１は、検査画像と参照画像との間で、対応する画素同士のグレイレベル差を決定するグレイレベル差決定手段１５と、検査対象画素とその隣接画素におけるそれぞれのグレイレベル差を特徴量とする識別関数の値に応じたクラス分けを行うパターン認識によって、検査対象画素が欠陥候補か否かを判定する欠陥判定手段１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェーハを検査するための検査システム。
【解決手段】 この検査システムは、広帯域照明を供給するための照明設定を備える。広帯域照明は、異なるコントラスト、例えば明視野および暗視野広帯域照明であることができる。検査システムは、第１の画像収集装置および第２の画像収集装置を更に備え、半導体ウェーハが動く間、各々が半導体ウェーハの画像を収集するために広帯域照明を受け取るために構成される。システムは、広帯域照明の平行を可能にするための複数のチューブレンズを備える。システムはさらに、安定化メカニズムおよび対物レンズ組立体を備える。システムは、細線照明エミッタ、および半導体ウェーハの３次元画像をそれによって収集するために細線照明を受け取るための第３の画像収集装置を更に備える。システムは、第３の画像収集装置が、複数の方向に半導体ウェーハから反射される照明を受け取ることを可能にするための反射器組立体を備える。 （もっと読む）

【課題】
パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパター
ンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な
欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する
【解決手段】
同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の
不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、切替え可能な複数の異なる検出系と異な
る検出系の像を同時に取得可能な複数台のセンサとそれに応じた画像比較部とを備えて構
成した。
また，画像の特徴量から統計的なはずれ値を欠陥候補として検出する手段を備えて構成
し，ウェハ内の膜厚の違いに起因して画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている
場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】めっき層表面に生じるめっき未着等の欠陥を安定的に検出することが可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置２０は、パッド部と、パッド部と異なる色彩をもつめっき層とを有する被検査基材１０の外観を検査するものである。外観検査装置２０は、被検査基材１０に対して光を照射する照明装置と、被検査基材１０を撮像してカラー画像を取得するカラーセンサカメラ２２と、カラーセンサカメラ２２に接続された画像処理装置３０とを備えている。画像処理装置３０は、カラー画像のうちパッド部からの反射率が低く、めっき層からの反射率が高くなる特定波長成分のみを含む画像成分を抽出する成分抽出部３２と、特定波長成分を含む画像成分の画像を処理する画像処理部３３と、めっき層の欠けを判定する判定部３４とを有している。 （もっと読む）

【課題】 同一の欠陥について複数のカメラで異なるタイミングで検出されることがある検査システムにおいて、表示・出力する欠陥情報を適切に絞り込むこができるようにする
【解決手段】 紙１の搬送方向に沿って、前後に配置された複数のカメラ装置１０で撮像された画像データを取得すると共に、各カメラ装置からの画像データ単位で画像認識処理を行い、欠陥の有無を判断する検出ラック部２１と、検出ラック部で欠陥を検出した場合に、欠陥処理部２２を経て作成された検出された欠陥情報を表示装置３０に表示するデータ処理部２３とを備える。データ処理部は、異なるカメラ装置で撮像された同一の欠陥についての欠陥情報を比較し、決定ルールに従って決定された異なるカメラ装置のうちの１つのカメラ装置で撮像された画像データに基づき抽出した欠陥情報を代表欠陥情報として決定し、表示する機能を備えた。 （もっと読む）

【課題】
欠陥解析の終了を待たずに画像の欠陥検出を実行できるようにして、検査スループットの低下防止を図ることができる外観検査方法、及び、外観検査装置を得る。
【解決手段】
予め定義された画像取得の順序と検査対象領域とに基づいて、基板の検査画像を一時格納するメモリのうちの空き状態のバンクに送信された画像を格納して欠陥検出を実行し、欠陥検出の実行状況を監視し、欠陥検出の処理が最も進んでいる画像から欠陥解析を順次実行し、バンクから当該画像を削除して該バンクを解放し、次の画像を格納する。 （もっと読む）

【課題】パターンの異なるウェハに対して自動学習機能を備えたウェハパターン検査方法及び装置を提供する。
【解決手段】ウェハパターン検査方法及び装置は、検査対象であるウェハのパターン又はチップの検査画像を入力し、入力した検査画像と予め記憶されたリファレンス画像とを比較し、比較画像の相違量よりパターン又はチップの良否を判定する段階を備える。検査中に良品率が所定の閾値以下に低下した場合、ずれたパターン又はチップの画像をリファレンス画像として学習処理を再度行う。そして学習処理でパターンを学習した後に均一なパターンを探し、均一なパターン部分であれば、パターン検査以外のピッチ検査などの検査でウェハの検査を行うか、あるいは均一パターン部分でパターン検査とピッチ検査を同時に行ない、パターン検査の感度を決定し、決定した感度でウェハ全面のパターン又はチップを検査する。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させ、装置コストや工数比を低減させる。
【解決手段】繰り返しパターンが形成された基板を検査し、前記繰り返しパターン内の欠陥の位置情報および前記欠陥の特徴情報を抽出する欠陥検出部と、複数の欠陥修正手法が登録されたデータベースを備える。また、前記基板の欠陥を指定された欠陥修正手法により修正する欠陥修正部を備える。さらに、前記欠陥検出部で検出された欠陥に対応する欠陥修正手法を、前記基板のレイヤ構造に基づいて前記データベースから読み出し、当該欠陥修正手法を利用して前記欠陥の修正を実行する前記欠陥修正部を制御する制御部と、を備えることを特徴する。 （もっと読む）

【課題】ハードディスク用のパターンドメディアの検査において、パターン形状及びサーボパターンの位置ずれの欠陥を高速に検査する方式を提供する。
【解決手段】設計情報１を用いて検査領域２を指定し、スキャットロメトリー法によって測定するための領域分割３を行い、得られた検出データをパターン分類４し、周期領域５と非周期領域６に分類する。光センサによって分光特性を検出７し、特徴量を抽出８する。抽出された特徴量８と、特徴量マップデータベース１１に蓄えられた特徴量を領域毎に比較することによってパターンドメディアの状態を評価する。 （もっと読む）

【課題】タブルパターニングに用いられるマスクの検査を精度良く行うことが可能なマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。
【解決手段】２枚のマスクの光学画像を取得し（Ｓ１００）、取得した２枚のマスクの光学画像を合成する（Ｓ１０２）。合成された画像において１枚目のマスクのパターンと２枚目のパターンとの相対位置ずれ量を測定する（Ｓ１０４）。測定した相対位置ずれ量を基準値と比較し、２枚のマスクの良否を判定する（Ｓ１０６）。 （もっと読む）

【課題】煩雑な計算を行うことなく欠陥画像に付与されたカテゴリが当該欠陥画像が属すべきカテゴリか否かを判定する。
【解決手段】作業者により予め対象欠陥画像７２に一のカテゴリが付与され、３つのカテゴリ毎に属する欠陥画像の種類ｘ，ｙの特徴量の平均値および標準偏差に基づいて特徴量範囲Ｅ_ｘ１〜Ｅ_ｘ３，Ｅ_ｙ１〜Ｅ_ｙ３が設定されている。対象欠陥画像７２の一の種類ｘの特徴量Ｕ_ｘ２は特徴量範囲Ｅ_ｘ２にのみ含まれるため、平均位置７０２１を中心とするカテゴリに１票が投票される。同様の投票が特徴量の他の種類ｙについても行われ、平均位置７０２１を中心とするカテゴリに１票が投票される。そして、得票数の最も多いカテゴリが対象欠陥画像に与えられたカテゴリと異なる場合、その旨が作業者に通知される。投票を利用することにより、カテゴリの判定の煩雑な計算が不要とされる。 （もっと読む）