【課題】ＬＥＤ検査装置及びそれを利用するＬＥＤ検査方法が提供される。
【解決手段】前記ＬＥＤ検査装置は、第１光を生成して、前記第１光によって励起されて前記第１光より長波長の光を放出する蛍光体を有する封止材が具備されたＬＥＤに照射する第１照明部と、前記第１光より長波長の第２光を生成して前記ＬＥＤに照射する第２照明部と、前記蛍光体から放出された光と前記ＬＥＤから反射した前記第２光を受信して、前記ＬＥＤの映像を獲得する映像獲得部と、前記映像獲得部から得られた前記ＬＥＤの映像を利用して、前記ＬＥＤの不良有無を判断するＬＥＤ状態判定部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】発光素子の不良の有無を検査し、検査後に不良の発光素子を廃棄することのできる発光素子検査装置及びこれを用いた検査方法を提供する。従って、発光素子の不良検査及び不良廃棄を自動化するとともに一連の過程で迅速に処理することにより、生産性の向上を図ることができる。
【解決手段】本発明の一実施形態による発光素子検査装置は、発光素子のビジョン検査により不良の有無を検査する検査部と、前記検査部から供給された前記発光素子のうち、前記検査部の検査結果に基づいて不良と判定された発光素子を廃棄する不良リジェクト部とを含む。 （もっと読む）

【課題】製品の表面にある特異部分の分布に関する特徴を検出すること。
【解決手段】特異部分分布特徴検出装置１００は、製品の表面を撮影して表面画像を取得する画像取得部２と、その表面画像から複数の特異画素を含む処理対象画像を生成する処理対象画像生成部１０と、その処理対象画像上に設定した直交ＸＹ座標系における特異画素の座標を取得する特異画素座標取得部１１と、それら複数の特異画素の座標のうちの二つの座標のピッチと位相差との組み合わせを反復特性として導き出す反復特性導出部１２と、ピッチＧと位相差Ｒとを座標軸とする直交ＧＲ座標系を用いて、その組み合わせの直交ＧＲ座標系上の一座標への変換を実行し、その変換回数を座標毎に計数して計数結果を出力する座標系変換部１３と、その計数結果の解析に基づいて複数の特異画素が形成する反復的特徴を検出する反復的特徴検出部１４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】対象物に形成された検査対象画像の画像形成状態の検査精度を向上させることが可能な画像形成状態検査方法、画像形成状態検査装置及び画像形成状態検査用プログラムを提供する。
【解決手段】印字状態検査方法は、飲料容器に印字された数字を撮像する撮像ステップと、該数字の撮像パターンをテンプレートと照合して撮像パターンのテンプレートに対する第１の一致度を算出する第１算出ステップと、該算出された第１の一致度が第１の閾値以上であるか否かを判定する第１判定ステップと、第１の一致度が第１の閾値以上である場合に、撮像パターンを、テンプレートを上下２つに分割した各分割テンプレートと、対応する部分においてそれぞれ照合して撮像パターンの各分割テンプレートに対する第２の一致度をそれぞれ算出する第２算出ステップと、該算出された各第２の一致度が第２の閾値以上であるか否かをそれぞれ判定する第２判定ステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】はんだ過多の不良は、はんだ量によって決定される良否であるため、はんだ付け部の高さ計測により検査することができるが、基板のはんだ付け部はその数が多く、はんだ付け部全ての高さ計測を実施すると、生産タクトが大幅に増大してしまうという課題を解決すること。
【解決手段】課題を解決するための本発明のはんだ付け検査方法は、基板の表面に垂直な垂直方向におけるはんだ量が多い状態をはんだ過多とし、前記はんだ過多を検出するはんだ付け検査方法であって、前記垂直方向から前記基板のはんだを撮像する撮像工程と、前記撮像工程で撮像された画像に基づいてはんだ過多候補を抽出する候補抽出工程と、前記候補抽出で抽出されたはんだ過多候補の前記垂直方向の高さ測定を行う高さ測定工程と、前記高さ測定工程で測定された高さに基づいてはんだ過多を検出する検出工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ワイヤーロープを走行しながら連続撮影を行った撮影画像を基にワイヤーロープの状態を確実に検査できるワイヤーロープ検査装置を提供する。
【解決手段】ワイヤーロープ検査装置において、ワイヤーロープ１００を走行しながら連続撮影を行うカメラ１０と、撮影画像とワイヤーロープ位置の対応付けを行って撮影画像を保存する画像保存手段と、表示したいワイヤーロープ位置を指定することで、その指定位置に対応するワイヤーロープの撮影画像を表示する画像表示部１６と、画像処理によってワイヤーロープ１００の素線切れを検査する素線切れ検出部１８とを備えた。 （もっと読む）

【目的】粗密パターン各々に対して、高い信号強度を得ることが可能なパターン検査装置提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、パターン形成されたフォトマスク１０１を照明する照明光学系１７０と、照明によってフォトマスク１０１から得られる第１の光学画像を複数の第２の光学画像に光学的に分離するビームスプリッタ１３１と、分離された複数の第２の光学画像を用いて、少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する複数のセンサ回路１０６，１３６と、複数の光学画像データの１つと比較するための基準画像データを生成する参照回路１１２と、画素毎に、数の光学画像データの１つと基準画像データとを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【解決課題】検査物品の内容液中に混在し得る異物を、容器外部に付着した汚れ、ゴミ、塵埃、傷等と区別して、より的確に検出できるとともに、歩留りや生産性の良好な異物検査装置および異物検査方法を提供する。
【解決手段】検査物品６０を自転させたのちに自転停止させて、検査ユニット１０ａ、１０ｂ…で、検査物品６０の内容液中に混在し得る異物を検出する異物検査装置１であって、検査ユニット１０ａ、１０ｂ…が、撮像部２１と、多数の処理画像を形成する処理画像形成手段２５と、任意に選ばれる複数の処理画像を論理和演算により合成して、合成マスター画像を形成する合成マスター画像形成手段２６と、検出用画像抽出手段２７と、合成マスター画像と複数の検出用画像とをそれぞれ比較することにより、内容液中の異物の有無を判定する判定手段２９と、を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】事前の設定の手間を簡略化しつつ正確に検査ポイントを探索することのできるパターンマッチング手法を提供する。
【解決手段】撮影画像の一部の画像領域を抽出し、その画像領域の分割画像をテンプレート画像として設定し、テンプレート画像を回転させながらパターンマッチングを行う。また、このパターンマッチングにより、画像領域内に点対称パターンが存在するか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】印刷スクリーンを通してワークピース上に印刷された堆積物を検査する。
【解決手段】ワークピースＷは、印刷スクリーン２の複数の開口を通してその上に堆積物が印刷されるものである。カメラユニット８は、印刷スクリーン及びワークピースに対して移動可能であり、制御ユニットは、印刷スクリーン及びワークピースの少なくとも一対の対応する領域の画像を捕獲するようにカメラユニットを制御すると共に、画像を処理して、印刷スクリーンの画像を規定する複数の点の各々について、その点が開口のものであるか否かを決定する。そして、その点が開口のものである場合にだけ、対応する複数の点によって規定されたワークピースの対応する画像の対応する点が、堆積物のものであるか否かを決定する。これにより、ワークピースに印刷された堆積物の印刷特性を、堆積物のものであると決定された点と開口のものであると決定された点との関係から判定する。 （もっと読む）

あるシステム及び方法が、再構築により、基板上のオブジェクトの概略構造を決定する。これは、例えば、リソグラフィ装置のクリティカルディメンション（ＣＤ）又はオーバレイ性能を評価するための微細構造のモデルベースのメトロロジーなどに適用できる。基板上のスタック上の格子などのオブジェクトの概略構造を決定するためにスキャトロメータが使用される。ウェーハ基板は上層と下地層とを有する。基板はスタックオブジェクト上の格子を含む第１のスキャトロメトリターゲット領域を有する。スタック上の格子は上層と下地層とからなる。上層は周期格子のパターンを備える。基板はさらに、上層がない、隣接する第２のスキャトロメトリターゲット領域を有する。第２の領域は、パターン形成されていない下地層のみを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造において、複数のプロセス条件や検証レイアウトパターン作成方法の間で、仕上がりパターンがどのように異なるかを検証する。
【解決手段】設計レイアウトパターン又は検証レイアウトパターンを基に仕上がりパターンを予測する仕上りパターン予測手段２と、仕上がり予測パターンの輪郭を多角形化する仕上り予測パターン多角形化手段３と、設計レイアウトパターン又は基準レイアウトパターンを基に検査用基準パターンを作成する検査用基準パターン作成手段６と、多角形化された仕上り予測パターンと上記検査用基準パターンとを比較することにより仕上がりパターンのパターン歪を検出するパターン歪検出手段８とを備え、複数の光学条件、及び／又は、複数のパターン形成プロセス条件について仕上りパターン予測手段２により複数の仕上がり予測パターン５を求め、複数の仕上がり予測パターンの差から仕上がり予測パターンの寸法変動幅８を得る。 （もっと読む）

【課題】検査対象の位置決めの装置を用いずに，また多量のテンプレートを用いたマッチング処理を行わずに，精度の高い外観検査を実現する。
【解決手段】外観検査制御装置１０において，テンプレート情報記憶部１１には，正規化用リファレンス画像と，検査用リファレンス画像とがあらかじめ登録されている。検査対象画像正規化部１５は，第１段階で，低解像度の検査対象画像と，低解像度の正規化用リファレンス画像とのマッチング結果に基づいて，検査対象画像を正規化する。検査対象画像正規化部１５は，第２段階で，第１段階で正規化された検査対象画像と，本来の解像度の正規化用リファレンス画像とのマッチング結果に基づいて，第１段階で正規化された検査対象画像をさらに正規化する。検査部１６は，２段階に正規化された検査対象画像に対して，検査用リファレンス画像を用いた検査を行う。 （もっと読む）

【課題】印刷検査位置における枚葉紙の浮き上がりやバタつきを防いだ状態で印刷検査を行うことができる印刷検査装置を提供する。
【解決手段】印刷欠陥を検査する検査装置であって、圧胴102上を移動する枚葉紙Ｐの表面を撮影する撮影手段２と、圧胴102上を移動する枚葉紙Ｐに対して、撮影手段２の撮影位置より枚葉紙Ｐの移動方向下流側に空気を吹き付けるエア吹付手段５とを備えており、エア吹付手段５は、枚葉紙Ｐに吹き付けた空気が、枚葉紙Ｐの表面に沿って、枚葉紙Ｐの移動方向上流側流れるようにエア吹付け角度が調整されている。エア吹付手段から枚葉紙に吹き付けられた空気が、枚葉紙の表面に沿って上流側に流れるから、枚葉紙は圧胴表面に密着するから、枚葉紙にしわができることを防ぐことができる。枚葉紙の後端まで空気が流れるから、後方部分のバタつきを防ぐこともできるし、撮影位置に余剰エアが溜まることがない。 （もっと読む）

【課題】表面に膜が形成されたウエハでも安定してアライメントマークと周辺部のコントラストが高い画像データを取得できるようにしたものを提供する。
【解決手段】照明光となる光源と前記光源からの光を物体に照射し、また反射光を集光結像する結像光学系と前記結像光学系の集光点に設置し、物体の画像を取り込むカメラと取り込んだ画像を処理する画像処理機能からなるアライメント測定装置を備えた欠陥検査装置において、画像の取り込みを少なくとも２つの異なる波長帯域の反射光において行い、それぞれの反射光に対応した物体の画像情報を適切に演算処理することによってアライメントマークのコントラストを高めるように構成する。 （もっと読む）

【課題】
繰り返しパターンの周期に揺らぎを含む物体や、繰り返しパターンに無関係な外乱を含む物体の画像であっても、当該繰り返しパターンにおける個々のパターンの位置を正確に検出できるようにした技術を提供する。
【解決手段】
パターン検出装置は、繰り返しパターンを含む物体の画像を入力し、当該入力された物体における繰り返しパターンの周期を推定し、当該推定された周期で分割された画像に基づいて参照画像を生成する。そして、参照画像と、物体の画像とを比較し、比較の結果に基づいて繰り返しパターンにおける個々のパターンの位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、プリンタ基板からの反射光を取り込んだ画像データを用いて正確な良否判定を行うことができ、良否判定の基準となる基準データの作成を短時間で行うことができるはんだ付け外観検査装置およびはんだ付け外観検査方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 投影データ作成部１２は、パット４と接続端子２１とのはんだ付け部の画像データをパット４の幅方向に投影処理した検査対象投影データを作成し、演算部１４は、検査対象投影データと基準投影データ記憶部１３に記憶されている基準投影データとを比較し、判定部１５は、検査対象投影データと基準投影データとの比較結果に基づいてはんだ付け状態の良否を判定する。 （もっと読む）

【課題】作業者の負荷が大きいという問題や作業効率が低いという問題がある。
【解決手段】取得部１１は、半導体パターンが写されたパターン画像を取得する。入力部１２は、描写フィールドのフィールドサイズと、描写フィールドの継ぎ目の幅とを受け付ける。制御部１４は、入力部１２が受け付けたフィールドサイズおよび継ぎ目の幅に基づいて、その継ぎ目に相当する半導体パターン上の領域である非検査領域を特定する。検査部１５は、取得部１１が取得したパターン画像を用いて、半導体パターンから制御部１４にて特定された非検査領域を除いた最終検査領域内の欠陥を少なくとも検査し、その最終検査領域内の欠陥を示す最終検査結果を出力する。 （もっと読む）

【課題】目視によるブレードの確認が容易になる画像処理装置およびプログラムを提供する。
【解決手段】ＣＰＵ３４ｃは、ジェットエンジン内に周期的に配置されたブレードを撮像した動画像を構成するブレード画像からテンプレート画像を抽出し、ブレード画像とテンプレート画像とを比較する。ＣＰＵ３４ｃは、ブレード画像の中から、画像比較の結果に基づいて一部のブレード画像を選択し、選択したブレード画像に基づいてブレードの表面形状を計測する。モニタ２２は、計測された表面形状を表示する。 （もっと読む）

【課題】被検査画像中に特徴量の急峻な変化がある場合でも精度よく検査できる画像検査方法及び画像検査装置を提供すること。
【解決手段】予め良品画像を複数の良品分割画像に分割して、良品分割画像ごとのマハラノビス距離を算出して基準空間を作成して、被検査画像の良否判定を行うための良否判定基準値を設定する。被検査画像を取得して（Ｓ４１）、画像処理を施す（Ｓ４２）。次いで、その被検査画像を、複数の被検査分割画像に分割する（Ｓ４３）。次いで、個々の被検査分割画像の所定の特徴量を抽出する（Ｓ４４）。次いで、各被検査分割画像のマハラノビス距離を算出して信号空間を作成する（Ｓ４５）。被検査分割画像ごとに、対応する信号空間のマハラノビス距離を、同一位置にある良品分割画像における良否判定基準値と比較することによって、被検査画像の良否判定を行う（Ｓ４６〜Ｓ４８）。 （もっと読む）