【課題】清浄な検査断面を簡単かつ迅速に形成することができる、断面観察用試料製造装置及び断面観察用試料の製造方法を提供する。
【解決手段】この製造装置１０は、試料１の一部を遮蔽する遮蔽材２０と、前記遮蔽材２０の端縁部に沿って、前記試料１の表面にイオンビームを照射して、遮蔽材２０で覆われた部分と遮蔽材２０で覆われていない部分との境界に沿って前記試料１の表面に切欠溝を形成する切欠溝形成手段（イオン銃１３）と、前記切欠溝に沿って試料１に圧力を加えて、前記試料１を切欠溝に沿って劈開する劈開手段２３と、劈開された試料１の検査すべき断面にイオンビームを照射して検査断面を加工研磨する加工研磨手段（イオン銃１３）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】標準ガス中の微量水分を計測する微量水分計測器を正確に校正するため拡散管セルより発生する微量水分を高精度に制御するとともに、微量水分計測器の応答性を調べるため標準ガス中の水分濃度を素早く変更して安定させることができる微量水分発生装置を提供する。
【解決手段】微量水分発生槽41は、温度制御器（図示せず）により温度制御するチャンバ42内に拡散管セル43を収納している。微量水分発生槽41の入口側の管路に、チャンバ42内の圧力を制御する圧力制御器44を接続し、微量水分発生槽41の出口側の管路に、流れを制限させる狭窄素子47を接続する。狭窄素子47は、その狭窄部48より下流側と上流側すなわちチャンバ42内との圧力比（下流圧／上流圧）を０．５３以下に制御する。 （もっと読む）

【課題】均一な厚さとなる電子顕微鏡用の試料を作製する。
【解決手段】試料の面方向に対し略垂直となる第１の角度より電子を照射し、第１の長さを測定する第１の測定工程と、第１の測定工程の後、試料の面方向に沿った集束イオンビームを照射し、試料を薄く加工する加工工程と、加工工程の後、試料の面方向に対し、第１の角度とは異なる第２の角度より電子を照射し、第２の長さを測定する第２の測定工程と、第２の測定工程の後、第１の長さと前記第２の長さに基づき、試料の厚さを算出する厚さ算出工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より明瞭な観察又は分析を可能にする試料、試料作製方法及び試料作製装置を提供すること。
【解決手段】試料作製方法は、第１面１０ａが上方を向き、コンタクトを有する試料２０を、第１面１０ａが側方ないし下方を向くように試料２０の向きを変える回転工程と、試料２０に対して、コンタクトの短手方向から集束イオンビームを照射する照射工程とを含む。照射工程において、回転工程により上面を向いた第２面１０ｂに対して集束イオンビームを照射し、コンタクトの延在方向に沿うように試料２０に薄膜領域２０ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】より明瞭な観察又は分析を可能にする試料、試料作製方法及び試料作製装置を提供すること。
【解決手段】試料作製方法は、一方の側に切欠部３０ａを有し、試料２０を支持する支持基板３０を作製する支持基板作製工程と、試料２０のコンタクト側が支持基板の一方の側を向き、平面投影面において試料２０の一部が切欠部３０ａの断面に重なるように試料２０と支持基板３０とを接合する接合工程と、試料２０の面１０ｂ側（基板側）から集束イオンビームを照射して、切欠部と重なった部分において、コンタクトの延在方向に沿うように試料に薄膜領域２０ａを形成する照射工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡における試料の検査方法を提供する。
【解決手段】試料キャリア500は、パッド505,508と接続する電極504,507を有する。領域A上に試料は設けられる。前記試料を前記試料キャリア上に設けた後、前記試料上に伝導性パターンが堆積される。それにより前記試料の特定部分に電圧又は電流を印加することが可能となる。前記試料上への前記パターンの堆積は、たとえばビーム誘起堆積又はインクジェットプリントによって行われて良い。前記試料内での電子部品-たとえばレジスタ、キャパシタ、インダクタ、及びFETのような能動素子-の構成についても教示する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、微小試料片およびまたはその周辺領域を汚染することなく、確実で安定的な微小試料片の分離、摘出、格納を行う装置および方法を提供することにある
。
【解決手段】試料基板から観察すべき領域を含む試料片をイオンビームスパッタ法により分離し、試料を押し込んで保持し、引き抜いて分離するための、根元に比較して先端が細く、該先端部が割れている形状で、該形状により得られる試料片を保持する部位の弾性変形による力で試料片を保持する棒状部材からなるはり部材を用いて、前記試料片を試料基板から摘出し、試料片を載置するための載置台上へ移動させた後、前記はり部材と前記試料片を分離することで該試料片の格納を行う。 （もっと読む）

【課題】窒化ケイ素含有物中のアルミニウムの湿式分析試料の調製方法に関する。
【解決手段】窒化ケイ素含有物をフッ化水素酸で溶解し、さらに硝酸を添加して得られる溶液を蒸発乾燥させて固体残渣とし、固体残渣を硝酸で再溶解することを特徴とする。
【効果】分析試料溶液を再現性良くかつ定量的に調製することが可能となる。また従来の湿式分析方法であってＡＡＳ、ＩＣＰＭＳ等に容易に適用可能となり、装置の有する感度で再現性よく検出可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は透過型電子顕微鏡の試料作製方法及び試料保持体に関し、試料片への通電を容易に行なうことができる透過型電子顕微鏡の試料作製方法及び試料保持体を提供することを目的としている。
【解決手段】真空外で、半月状の導電性部材１の弦の部分に電気的絶縁膜３を形成し、該電気的絶縁膜３の上に金線４を接着し、アクチュエータを用いて、予め作製されていた試料片を前記半月状の導電性部材１の弦の部分に取り付けて固定し、真空内で、前記試料片部分に電気的導通のためのデポジションを行ない、前記金線４と試料片２ａとの間に導電性プローブを固定のためのデポジションにより取り付け、前記導電性プローブを切断することにより透過型電子顕微鏡の試料を作製するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 微小検体を基台に移す際、静電気による吸着力、原子間力または分子間力等に打ち克って確実に基台上に固定する。
【解決手段】 上面１１が親水性を有する基台１０上に、開口部３１を有する撥水膜３０を形成する、冷却素子２０により基台３０を冷却すると開口部３１内に水滴１１０が結露する。微小検体１１２を水滴１１０の近傍に移動すると、メニスカス力により微小検体１１２が水滴１１０に取り込まれる。この後は、水滴１１０を揮発して、水滴１１０の凝集力により微小検体１１２を基台１０上に固定する。 （もっと読む）

【課題】 分析時におけるバックグラウンドノイズを大幅に低減することが可能な微小試料台を提供すること。
【解決手段】 微小試料台１００は、半導体基板よりなる微小試料台基部１０の一面に成膜により一体化された微小試料搭載用薄膜２０を有する。微小試料台基部１０はＶ字形状の溝１１を有し、微小試料搭載用薄膜２０は溝１１の上面と溝１１の最深部との間に設けられた上端面２１を有する。微小試料台基部１０の上面１３と微小試料搭載用薄膜２０の上端面２１との間の部分が微小試料７０のガード部となる。 （もっと読む）

【課題】イオン化傾向が水素より低い金属不純物をＩＣＰ−ＭＳ発光分析等の分析機器による分析が行えるシリコン粉の金属不純物の分析方法を提供することを目的とする。また、シリコン粉の内部に存在する金属不純物を、ＩＣＰ発光分析等の分析機器による分析が行えるシリコン粉の金属不純物の分析方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１の容器に金属不純物が付着したシリコン粉を入れる。そして、このシリコン粉に、第１の混合溶液を加え、所定時間静置する。その後、静置したシリコン粉を取り出し、第２の容器に入れ、このシリコン粉に第２の混合溶液を加え、四フッ化ケイ素を発生させ、第２の容器の外に放出する。その後、熱を加えて、第２の混合溶液を蒸発させる。その後、シリコン粉に新たに第２の混合溶液を加え、加熱し、金属不純物を溶解させる。その後、第２の混合溶液に溶解した金属不純物の濃度を測定する。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法により、試料を所望の膜厚に薄片化することができる試料作製方法を提供する。
【解決手段】試料作製方法は、基板１００の表面から所定深さＤ１を有する第１の孔１０２と基板１００の表面から所定深さＤ２を有する第２の孔１０４とを(Ｄ１＞Ｄ２)、基板１００の表面に形成する工程と、裏面側から研磨を実施して、第１の孔１０２を露出させる工程と、さらに第２の孔１０４が露出した時点で研磨を終了する工程と、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、既知の方法の欠点である、ミリングによって曝露された面では像が生成されないこと、及び如何なるエンドポイント指定もウエハ表面から生成される像に基づかなければならないことを解決することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、FIB鏡筒のみが用いられている装置によって、この問題に対する代替解決策を提供する。
薄片を最終的な厚さ-たとえば30nm-にまでミリングするため、集束イオンビーム100は前記薄片に沿って繰り返し走査される。前記薄片をミリングしている際、前記薄片から信号が得られ、該信号はエンドポイント指定にとって十分であることが分かった。検査用のさらなる電子ビームは必要ない。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームによって削られた物質が遮蔽材や試料に再付着するリデポジションの影響を受けない平坦な試料断面を作製する試料作製装置及び試料作製方法を提供する。
【解決手段】 加工を始めるとき遮蔽材１２の端縁部を断面作製位置より試料の端部に近くに設定し、遮蔽材に遮蔽されない試料の突き出し部が狭くなるようにしておく。制御演算装置２０は試料６の突き出し部の切削が進行するのに合わせて、ピエゾモータ２２により試料ホルダ７を駆動し、試料を矢印方向に移動させる。遮蔽材１２の端縁部が断面作製位置に到達したら移動を停止させ、その状態でイオンビーム照射を継続し仕上げ加工を行なう。 （もっと読む）

【課題】構成を複雑化することなくステージの移動時の振動を抑制することが可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、ステージ機構とカウンタマス機構と制御装置とを有し、制御装置は、ステージ機構を制御するカウンタマス制御ユニットとカウンタマス機構を制御するカウンタマス制御ユニットを有する。カウンタマスの可動平面とステージの可動平面は、互いに平行であり、且つ、互いに隔てられて配置されている。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハやデバイスチップから所望の特定領域を含む試料片のみをサンプリング（摘出）して、分析／計測装置の試料ステ−ジに、経験や熟練や時間のかかる手作業の試料作り工程を経ることなく、マウント（搭載）する試料作製方法およびその装置を提供すること。
【解決手段】FIB加工と、摘出試料の移送、さらには摘出試料の試料ホルダへの固定技術
を用いる。
【効果】分析や計測用の試料作製に経験や熟練技能工程を排除し、サンプリング箇所の決定から各種装置への装填までの時間が短縮でき、総合的に分析や計測の効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハやデバイスチップから所望の特定領域を含む試料片のみをサンプリング（摘出）して、分析／計測装置の試料ステ−ジに、経験や熟練や時間のかかる手作業の試料作り工程を経ることなく、マウント（搭載）する試料作製方法およびその装置を提供すること。
【解決手段】FIB加工と、摘出試料の移送、さらには摘出試料の試料ホルダへの固定技術
を用いる。
【効果】分析や計測用の試料作製に経験や熟練技能工程を排除し、サンプリング箇所の決定から各種装置への装填までの時間が短縮でき、総合的に分析や計測の効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】液体中に含まれる塵埃の量を測定する新規な技術を提供する。
【解決手段】塵埃測定方法は、塵埃を含む第１の液体を、第１のフィルタでろ過し、第１のフィルタに塵埃を捕捉する第１のろ過工程と、第１のフィルタに捕捉された塵埃を、第１のろ過工程でろ過される第１の液体よりも少ない量の第２の液体中に剥離させる工程と、塵埃を含む前記第２の液体を、第１のフィルタよりもろ過面積が狭い第２のフィルタでろ過し、第２のフィルタに塵埃を捕捉する第２のろ過工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビーム装置による加工の際、マニピュレータとして微小ピンセットとその回転機構とを用いることで、傾斜機構を必要とせずに試料の向きを変えて試料ホルダへ固定可能な集束イオンビーム装置を提供する。
【解決手段】試料２０を固定するための固定面６２ｓを有する試料ホルダ６２と、試料ホルダが設置されている試料台６１と、集束イオンビームを試料に照射する集束イオンビーム照射機構１２０と、試料を挟持し、その軸方向Ｌが試料台の表面と所定の角度θをなす微小ピンセット５０と、微小ピンセットを開閉させる開閉機構５３と、微小ピンセットを軸方向の周りに回転させる回転機構５４と、微小ピンセットの位置を移動させる移動機構５５とを備えた集束イオンビーム装置１００である。 （もっと読む）