【課題】内部空間の容積を低減できる構造の密閉チャンバ内で、基板に良好な処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】密閉チャンバ２は、上部開口５を有するチャンバ本体６と、チャンバ本体６に対して回転可能に設けられて、上部開口５を閉塞する蓋部材７と、蓋部材７とチャンバ本体７との間を液体でシールする第１液体シール構造８とを備えている。蓋部材７は、回転可能に設けられており、蓋部材回転機構３２によって回転駆動される。密閉チャンバ２内には、スピンチャック３により保持されたウエハＷが収容される。このウエハＷに対して処理液ノズル４から処理液が供給される。 （もっと読む）

【課題】パネルをその下側から効率的にリペア処理することができる。
【解決手段】本発明のリペア装置は処理対象パネルのリペア処理を行う。処理対象パネルを搬送してリペア処理を行う処理コンベアを備え、当該処理コンベアが、ローラコンベア部と、搬入部と、リペア部と、搬出部と、パネル搬送ステージとを備えた。前記ローラコンベア部は、フリーローラを備えて前記パネル搬送ステージによる前記パネルの搬送を補助する。前記リペア部のＸＹ軸ステージは、レーザ装置の搬送方向と直行する方向の位置調整を行うＹ軸移動機構と、前記パネル搬送ステージで前記パネルの位置決めがされた後に前記レーザ装置を搬送方向に移動させて補助的に微調整を行うＸ軸移動機構とを備えた。 （もっと読む）

【課題】ノズルを移動しながら基板を処理することができ、かつ、密閉チャンバの内部空間の狭空間化を図ることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】密閉チャンバ２は、密閉された内部空間を区画する隔壁９を有している。密閉チャンバの内部空間でウエハＷが保持される。密閉チャンバ２には、移動ノズルとしての形態を有する処理液ノズル４が設けられている。処理液ノズル４を支持するノズルアーム１５は、隔壁９に形成された通過孔１４を介して密閉チャンバ２の内外に跨って延びている。このノズルアーム１５は、密閉チャンバ２外に配置された直線駆動機構３６によって駆動されるようになっている。隔壁９とノズルアーム１５の外表面との間は、第３シール構造によってシールされるようになっている。 （もっと読む）

【課題】配向膜に対し均一なエネルギー分布で偏光光を照射できる光配向用偏光光照射装置を提供すること。
【解決手段】連続または間歇的に直線状に搬送される光配向膜５１に対し、光配向膜５１の搬送方向に沿って光照射部３０Ａ．３０Ｂを多段に配置する。多段に配置された各光照射部３０Ａ，３０Ｂ内に、点光源ランプ３１と反射ミラー３２と、反射ミラー３２により反射された光を偏光する偏光素子１１と設ける。ランプ３１は一対の電極を結ぶ線である管軸が反射ミラーの光軸と平行になるように配置される。そして、各段の光照射部の偏光素子１１の境界部が、他の段の光照射部の偏光素子１１の境界部と光配向膜５１の搬送方向に対して互いに重ならないように、各段に配置された光照射部３０Ａ，３０Ｂを、光配向膜の搬送方向に直交する方向に位置をずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】上記基板反転部の一の反転動作により、上記基板を反転させるとともに、上記基板の搬送方向に沿った短辺および長辺の方向を変更することが出来るとともに、タクトタイムを短くする。
【解決手段】 長方形の基板５を長辺または短辺が搬送方向に沿った状態にて搬送する第１基板搬送機構６１と、上記基板５を短辺または長辺が搬送方向に沿った状態にて搬送する第２基板搬送機構６２とを備える基板搬送機構において、基板反転部６７の反転動作により、上記第１基板搬送機構６１にて搬送された上記基板５を反転させるとともに、配置を変更して上記第２基板搬送機構６２に配置するように構成されている反転機構６５を備えている基板搬送機構または偏光フィルムの貼合装置における反転機構。 （もっと読む）

【課題】上基板をローラコンベアで上向きに搬送し、基板貼合装置に搬入する前に上下反転して、基板貼合装置の上テーブルに受け渡すようにする。
【解決手段】搬送ローラ上を上向きに保持されて搬送されて来た上基板がウォーキングビーム４２を構成する複数の指部４５上に受け渡され、真空吸着パッド４６によってこれら指部４５に吸着保持される。かかる状態で、ウォーキングビーム４２の一方の端部の上下移動部材４４が垂直な移動用柱４１に沿って移動し、これとともに、ウォーキングビーム４２の他方の端部の水平移動部４３が水平方向に移動する。水平移動部４３が移動用柱４１の位置を越えて移動すると、上下移動部材４４が降下し、ウォーキングビーム４２が水平状態になっていく。これにより、ウォーキングビーム４２が上下反転し、これに伴って、これに吸着保持されている上基板２も上下反転する。 （もっと読む）

【課題】表示基板に接続されたＴＡＢとＰＣＢとの相対的な位置ずれを防ぐＦＰＤモジュールの組立装置を提供する。
【解決手段】ＦＰＤモジュールの組立装置は、ＰＣＢ搬送部８４と、予熱用ヒータ９６Ａ，９６Ｂと、カメラ８５Ａ，８５Ｂと、本圧着部７６とを備える。ＰＣＢ搬送部８４は、ＰＣＢ１０３を保持して搬送する。予熱用ヒータ９６Ａ，９６Ｂは、ＰＣＢ搬送部８４に保持されたＰＣＢ１０３に接触してＰＣＢ１０３の予熱を行う。カメラ８５Ａ，８５Ｂは、ヒータによって予熱されたＰＣＢ１０３の位置を検出する。本圧着部７６は、カメラ８５Ａ，８５Ｂの検出結果に基づいてＰＣＢ搬送部８４により搬送されたＰＣＢ１０３と表示基板１０１に接続されたＴＡＢ１０２とを熱圧着する。 （もっと読む）

【課題】ＰＳＶＡ技術を利用した液晶パネルの製造工程で、液晶パネルへの確実な電圧印加を可能とし、確実な紫外光照射処理を行うことのできる紫外光照射装置を提供すること。
【解決手段】光反応物質を含有した液晶を内部に封入した被処理基板を搬送するステージと、該ステージに搬送された被処理基板に電圧を印加するための電圧プローブと、該被処理基板に紫外光を照射する紫外光光源と、該紫外光光源を配置した紫外光照射器と、を具備した紫外光照射装置において、該ステージは、水冷機構を持ち、該被処理基板を設置する側の面に判定用光源を具備しており、該ステージに対して紫外光照射器側には、該判定用光源からの光を検出する検出機構がある紫外光照射装置とする。 （もっと読む）

【課題】高純度な処理液を基板に供給することができる処理液供給装置および処理液供給方法を提供する。
【解決手段】処理液供給装置３は、鉛直方向に沿って配置され、下端部の径が小さくなるように形成された円筒状の処理液容器８を備える。処理液容器８の内部には処理液が貯留され、下端部は処理液が吐出される処理液吐出口１２となっている。処理液容器８の上部には、配管１３が接続されており、配管１３を介して負圧源としての真空装置（図示せず）が接続され、配管１３には処理液容器８内に気体（たとえば大気）を導入するための気体導入配管１４が分岐接続されている。処理液容器８に貯留された処理液は、処理液容器８に気体を導入することによって重力落下により基板Ｗに吐出され、処理液容器８への気体の導入を停止することによって処理液の吐出が停止される。 （もっと読む）

【課題】洗浄性能を維持しつつ、洗浄水の使用量を大幅に削減することが可能な節水型基板洗浄システムを提供する。
【解決手段】薬液処理ゾーン１０の下流側に複数の洗浄ゾーン２０，３０及び４０を基板搬送方向に沿って配列する。最上流側の洗浄ゾーン２０にパドル処理用の洗浄機構２２を設ける。最下流側の洗浄ゾーン４０における洗浄機構４１，４２に未使用の純水からなる洗浄水を供給する。使用後の洗浄水を上流側の洗浄ゾーンにおける洗浄機構へカスケード方式で順次送給する。最上流側の洗浄ゾーンでの使用済み洗浄水を廃棄する。最上流側の洗浄ゾーンに基板先端が進入する前に当該洗浄ゾーンにおける洗浄機構２２からの洗浄水の吐出を開始し、当該洗浄ゾーンから基板後端が抜け出た後も所定時間、洗浄水の吐出を続けることにより、洗浄ゾーンで使用される洗浄水の汚染度を、許容限度内で且つその限度近傍に維持する。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置において、基板を移動するステージをリニアモータにより駆動する際、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行う。
【解決手段】ステージの温度を検出し、運転開始時又は運転中に、マスクホルダ２０にマスク２が保持され、かつチャック１０に基板１が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げる第１の慣らし運転を行う。運転開始前又は運転中にステージの温度が下限値未満に下がっても、露光処理中のステージの温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。 （もっと読む）

【課題】ＬＣＤパネルＵＶ硬化前基板のエッジカット加工に際し、ポリマー配向処理前の液晶基板に余分なストレスをかけることなく加工できるようにする。
【解決手段】直列状の搬入路Ａ、並列すると共に、浮上エアの噴出と保持吸引の小孔１群を有するテーブルＢ、搬出路Ｃをならべ、搬入路からテーブルに基板Ｘを引き込み爪２１により移送し、テーブル上の基板を搬出路に払い出し爪２２により移送し、テーブル上で基板を構成するとＣＦ板エッジの下面にカッタによりスクライブし、このスクライブした部分を捻り折割装置Ｈにより折割処理する。 （もっと読む）

【課題】整流環境を妨げることのない偏光フィルムの貼合装置を提供する。
【解決手段】本発明の貼合装置６０は、長方形の基板５を搬送する第１基板搬送機構６１と第１基板搬送機構６１で基板５の下面に偏光フィルムを貼合するニップロールと反転機構６５と基板５を搬送する第２基板搬送機構６２と第２基板搬送機構６２で基板５の下面に偏光フィルムを貼合するニップロールとを含み、第１基板搬送機構６１と第２基板搬送機構６２とは同一方向に向かって配置されており、反転機構６５は基板５を吸着する吸着部６６と、基板５の長辺又は短辺を下辺として基板５を第１角度まで回転させる第１回転及び第１角度から基板５を反転させる第２回転により基板５を反転させる基板反転部６７と、第１回転によって回転された基板５を、第１基板搬送機構での基板５の表面に対して平行な方向に９０°回転させる基板回転部６８とを備える。 （もっと読む）

【課題】測定用レーザー光の遮断に影響されることなく、マスクステージと基板ステージの位置及び水平面内での姿勢を高精度で測定可能であるとともに、マスクステージと基板ステージを近接して配置して、環境温度を略同じにしてマスクと基板の熱膨張の差を抑制することができ、高精度な露光を実現する露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージ位置測定装置６６は、基板ステージ１１,１２の移動方向と直交する方向に離間し、マスクステージ１０の側面に配置された２箇所のマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂによりマスクステージ１０の位置及び水平面内での姿勢を測定する。また、基板ステージ位置測定装置６３，６４は、基板ステージ１１,１２の側面に配置される基板ステージ測長ミラー６１の２つの測定点７２Ａ,７２Ｂにより、基板ステージ１１,１２の位置及び水平面内での姿勢を測定する。 （もっと読む）

【課題】搬送により発生するパーティクルが基板へ付着するのを広範囲にわたり低減させ、メンテナンス時、低減させたパーティクルの処理を容易にできる基板処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理基板をトレイに搭載した状態で、排気可能な処理室の間を、トレイごと搬送しながら処理基板に処理室内で所定の処理を施す基板処理装置であって、トレイの搬送路の下方に、該トレイの搬送路の方向に沿って同じ磁極で向き合う磁性体を配置し、かつ、その上を非磁性材料からなる部材で覆われているパーティクル吸着体が備えられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ及び半導体の製造工程における処理装置の稼働率の向上、消費材料のムダの防止を可能とし、更には仕掛カセット保管のためのストッカ容積増加をに伴う設備導入費用や維持費用の増加を防ぐ基板収納カセット選択方法及び基板収納カセット搬送システムを提供する
【解決手段】処理工程に投入するカセットがカセットをストックするストッカ設備内に存在する場合は、該カセットを投入装置に投入するカセットとして選択し、処理工程に投入するカセットがストッカ設備内に存在しない場合は、基板投入装置から処理工程内の主要な処理装置の間に存在する基板数と該処理工程の前処理工程内の主要な処理装置から前処理工程内の基板回収装置に存在する基板数から、前処理工程の基板回収装置で回収中のカセットを投入装置に投入するか否かを判断することを特徴とする基板収納カセット選択方法。 （もっと読む）

【課題】レイアウト構成の簡単な貼り合せシステムとし、液晶パネルの製造時間の短縮が図れるシステムを提供することである。
【解決手段】下基板を搬送するローラコンベアからなる第１の搬送ライン５と、この第１の搬送ライン５上にシール剤を塗布するペースト塗布機７と、このペースト塗布機７の下流側に配置された短絡用電極形成用塗布機８と、液晶材を滴下する液晶滴下装置９と、下基板１の状態を検査する第１の検査室１０とが直列に配置し、第１の搬送ライン５に並列に上基板２を搬送するローラコンベアからなる第２の搬送ライン６が形成され、この第１の搬送ライン５と第２の搬送ライン６の合流点で、第１の搬送ライン５に接続されたローラコンベアからなる第３の搬送ライン２０を設け、この第３の搬送ライン２０上に移載室１２と、基板貼合室１５と、紫外線照射室１７と、パネル検査室１８とを直列に配置する。 （もっと読む）

【課題】電気検査工程において、画像認識装置及びそれに連動した軸等を用いた高価な機器等を用いることなく、より安価な構成で高精度なアライメントを行う機構を提供する。
【解決手段】プローブのアライメント機構であって、キャリア１は、位置決め手段として、ワーク５の端子側端部が配置される位置決めピンブロック２と、前記位置決めピンブロック２上に前記端子側端部を挟むように並べて配置された２つの位置決めピン３と、を有しており、前記アライメント部は、位置決め手段として、前記２つの位置決めピン３の間に挿入されて前記ワークの端子側端部を押圧することが可能な位置決めブロック１０を有しており、前記位置決めブロック１０の面取り量をａ、前記位置決めピンの面取り量をｂ、両者の差をＤとするとき、Ｄ＜ａ＋ｂ・・・（１）の関係を満たす、プローブのアライメント機構。 （もっと読む）

【課題】大型の基板であっても、洗浄品質を維持しつつ短いタクトタイムで洗浄を行う。
【解決手段】第一洗浄布１２を基板に押し付ける第一押圧子１１と、第一洗浄布１２の新しい部分を第一押圧子１１に供給する第一供給手段１３と、第一押圧子１１を基板１に対して相対的に移動させることにより第一洗浄布１２を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段３とを備える基板洗浄装置３０であって、第一押圧子１１は、第一洗浄布１２を基板１に押し付ける第一押付部２５と、第一押付部２５の前方に液体を吐出する第一吐出口１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】一対のワークを確実に貼合でき、しかも真空チャンバーの減圧に要する時間を大幅に短縮して、エネルギー消費と運転コストを削減できるワーク貼合装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー２の内部を減圧した状態で、第２ワークＷ２をプレス体６で第１ワークＷ１に押し付けて１次貼合し、さらに、真空チャンバー２の内部に加圧空気を供給して２次貼合を行なうワーク貼合装置を前提とする。真空チャンバー２の内部を、真空チャンバー２といずれか一方の定盤４との間に設けたシール体２０で、第１チャンバー２１と第２チャンバー２２とに区分する。１次貼合を行なう際に、第１チャンバー２１と第２チャンバー２２のそれぞれに真空源３の真空圧を作用させて減圧する。２次貼合時に、第１チャンバー２１と第２チャンバー２２に加圧空気を作用させて、定盤駆動構造１１に作用する加圧負荷を軽減する。 （もっと読む）