【課題】 連通管または整流板等を供え、冷水を貯えておく蓄熱槽及び当該蓄熱槽に設備された冷却水循環配管に対し、仮設廃液槽および仮設槽を使用することなく、狭いスペースでも採用でき、且つ、費用のかからない冷却水循環配管の水洗方法を提供すること。
【解決手段】 蓄熱槽に共沈剤、中和剤及び凝集剤を注入し、前記蓄熱槽内の保有水を凝集沈殿処理し、前記凝集沈殿処理で得られる上澄水を蓄熱槽に設備された冷却水循環配管の押出し水洗水として利用することを特徴とする水洗方法 （もっと読む）

【課題】管路内のケーブル布設部位に堆積する堆積物を効率よく破砕できるようにする。
【解決手段】内部にケーブルを布設された管路の開口部から管路内に挿入され、管路内のケーブル布設部位に高圧水を噴射する水噴射装置であって、一端を閉塞されるとともに、一端側の所定部に噴射孔７１を設けられ、他端から一端に水を送水される導水部１００と、噴射孔７１の反対側から導水部１００を支持する支持部１０１とを備え、導水部１００の一端の噴射孔７１からケーブル布設部位に高圧水を噴射するものである。 （もっと読む）

【課題】洗瓶機における定置洗浄の実施結果を後に参照することを可能にする。
【解決手段】洗瓶機１０００は、筐体１４０を有し筐体１４０の内部で瓶を洗浄する。洗瓶機１０００は、筐体１４０の内部の少なくとも一部分を湯で定置清浄するために該少なくとも一部分に湯を供給する供給部２００と、定置洗浄時に供給部２００によって供給される湯の流量および温度を含む情報を記録する記録部２３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】大気圧下での多湿放電を使用し、処理対象物の表面を損傷することなく、かつ低コストでの表面処理を実現できる大気圧放電表面処理装置を提供することにある。
【解決手段】例えばＯＨラジカルなどの活性種を使用して、ガラス部材などの処理対象物１０に対する表面処理を行なう大気圧放電表面処理装置１において、水分を含む多湿化ガス１２を処理対象物１０の表面に吹き付けるブロア７及び放電プラズマ１１を発生する高電圧電極２を有する大気圧放電表面処理装置である。 （もっと読む）

【課題】 効率的に広範囲に流体を噴出することができる、流体噴出装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、流体を噴出可能な流体噴出手段１１と、前記流体噴出手段１１を支持する第一支持部１３とを備え、前記流体噴出手段１１が前記第一支持部１３を移動可能に構成されており、前記流体噴出手段１１から噴出される流体として第一流体が供給され、前記第一支持部１３にて前記流体噴出手段を移動させる駆動源として第二流体が供給されることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄媒体の運動速度と清浄度とを高めて洗浄品質と洗浄効率とを向上させるとともに複雑な形状の部品であっても傷や洗浄残しが発生することを抑制する。
【解決手段】筒状に形成され可撓性を有する洗浄媒体１を、洗浄槽１２内で気流により飛翔させ洗浄対象物３に衝突させて洗浄対象物３に付着している付着物を除去する。洗浄媒体１が洗浄対象物３に衝突するとき、洗浄媒体１が洗浄対象物３に非弾性衝突するため一度の衝突における接触面積が大きく、かつ洗浄対象物３に衝突したときの接触力が大きくなると洗浄媒体１が撓んで洗浄対象物３の形状に倣うから、複雑な形状の洗浄対象物３を確実に洗浄して洗浄品質を高めて洗浄効率を向上させる。 （もっと読む）

本発明は、小片物品特に破砕されたプラスチック廃棄物を乾燥及び洗浄する装置であって、容器外被（２）に設けられるふるい外被（３）内に処理すべき物品用の環状流路（４）を形成する固定容器（１）を持ち、この流路（４）が、処理された物品のため容器外被（２）に接続される少なくとも１つの物品出口（５）、及びふるい外被（３）と容器外被（２）の間にあって流路（４）からの分離物のための少なくとも１つの集合空間（６）を持ち、洗浄兼乾燥空気用出口（７）が集合空間（６）に続き、処理すべき物品のために流路（４）内を循環する洗浄兼乾燥空気流用の少なくとも１つの送風機（９）が設けられ、この送風機（９）に、吸入筒（２６）を介して容器（１）へ入れられるプラスチック廃棄物のため容器の底側にある吸入送風機（１０）、及び流路（４）内で循環すべき物品のために吸入送風機（１０）に続いて設けられる半径流送風機（１１）が付属しているものに関する。有利な洗浄状態を与えるため、送風機（９）が、軸線方向に３つの送風機単位を持つ回転子を含み、これらの送風機単位のうち第１の送風機単位が吸入送風機（１０）を形成し、第２の送風機単位が半径流送風機（１１）を形成し、第３の送風機単位が、半径流送風機（１１）から軸線方向に離れるように向く羽根（１６）を持ちかつ片側で開く羽根車（１７）を形成していることを提案する。 （もっと読む）

【課題】ボルト穴の洗浄と目視検査と損傷履歴の管理とを一括して行うことができるスタッドボルト穴の洗浄、検査及び損傷履歴管理システムを提供する。
【解決手段】シリンダの主フランジの上面に沿って移動しつつ、スタッドボルトを挿通するためのボルト穴を洗浄、検査、及び管理する本体１００と、本体１００に接続されて自動またはマニュアル操作を行う自動制御部２１０及びマニュアル制御部２３０と、ボルト穴の状態及び履歴管理を行う写真検索部２５０とを有するメインコントローラ２００と、メインコントローラ２００に接続され、マニュアル操作を行うためのペンダントコントローラ３００と、本体１００に接続されて前記ボルト穴へ洗浄水を供給する洗浄水タンク４００と、ボルト穴の洗浄後に異物及び洗浄水を吸引して貯溜する真空洗浄機５００とを備えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】流水管路内の夾雑物を、より確実に除去できるようにする。
【解決手段】ブロック配水管の下流側末端に流速計２０とインラインフィルタ装置１０とを配置する。インラインフィルタ装置１０は、夾雑物を捕捉する機能を有するフィルタ５と、そのフィルタ５を夾んで上流側と下流側に位置する開閉自在のドレン排水管９及びフィルタ逆洗用排水管８とを備える。洗管の際には、流速計２０の示す数値に基づいて前記両排水管８，９を交互に開放して流水管路Ｐ内の流速を上昇させ、その流速の上昇により前記夾雑物の除去を促進する。また、ブロック配水管の途中に設けられた開閉弁の操作により、夾雑物を除去しようとする流路を特定し、他の流路を閉じることによりさらに流速を高めることができる。また、インラインフィルタ装置１０のフィルタ５が、その洗管位置の下流側に位置するので、夾雑物を下流側の流水管路Ｐに流さないように捕捉することができる。 （もっと読む）

【課題】対象物を配合するための配合装置を提供する。
【解決手段】装置は、搬送モジュールと、洗浄モジュールと、受容モジュールと、配合・液化モジュールと、放出モジュールと、制御モジュールと、を含むことが好ましい。搬送モジュールは、対象物を受容モジュール内に搬送する。搬送モジュールは、対象物を移送する間に、洗浄モジュールによってすすがれ、乾燥される。配合・液化モジュールが、受容モジュール内の対象物を配合し液化した後、放出モジュールが、配合し液化した対象物を放出する。 （もっと読む）

【課題】紫外線消毒装置として、処理ケーシーング内の紫外線照射管の外表面を、被処理液に接触しない駆動機構によって清掃でき、紫外線照射管に大きな負荷がかからず、複数本の紫外線照射管を配置する場合にも個々に駆動機構を設ける必要がなく、設備コストが低減され、紫外線照射管を細径に構成でき、処理ケーシーングの空間効率ならびに紫外線照射効率を高く設定できるものを提供する。
【解決手段】処理ケーシング１内に紫外線照射管３及びガイド筒４と清掃枠体５とが配設され、ガイド筒４内で回転駆動するスクリュー軸６に内側移動体７が回転不能に螺合し、清掃枠体５には紫外線照射管３に外嵌摺接クリーナー８が取り付けられ、清掃枠体５と内側移動体７の一方に永久磁石Ｍ１が保持され、他方に該永久磁石Ｍ１と磁気結合する永久磁石Ｍ２又は磁性体が保持され、スクリュー軸６の回転駆動に伴って移動する内側移動体７に対し、清掃枠体５が非接触で追従移動する。 （もっと読む）

【課題】真空度の増大を阻止して被吸引物質を効果的に吸引回収し、流路が被吸引物質により閉塞状態に陥った場合においては該状態を自動的に解消させる機能を備えた吸引口ユニットを提供する。
【解決手段】物体表面に真空吸着している吸引口ユニットに装着された吸引口シールを、適宜の間隔で物体表面から離反させて該ユニットの真空度を一定に維持しながら被吸引物質を吸引回収し、流路が閉塞状態に陥った場合には該シールを閉じて該ユニットへの被吸引物質の流入を阻止する一方で被吸引物質を含まない流体を該ユニットへ流入させて該閉塞を解消し、且つ、ピストンバイブレータにより自走することもできる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、被処理材のエアブローを被処理材の長さに応じて効果的に行える被処理材の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 管材内面の洗浄装置において、管材端部に固定集塵機の集塵フードを設置すると共に該集塵フードの前に管材端面を揃えるためのストッパーを設置し、もう一方の端部には位置決め可能な台車にエアブロー用ノズルを配設した管材の洗浄装置。また、上記位置決め可能な台車は管材と平行に設置された軌道に設置されてなり、さらに、上記エアブロー用ノズルはエアプレートに配設し、かつエアシリンダーと一体の台車に積載されてなる管材の洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】噴射部を回転させながらタンク内を洗浄する設備におけるタンクの洗浄に関する異常をより確実に検知する。
【解決手段】液体製品を製造するための製造設備１００は、タンク１０と、タンク１０内に配置されて洗浄液を噴射することによってタンク１０内を洗浄するための噴射部２０と、噴射部２０を回転させる回転機構３０と、噴射部３０の回転の異常を検知する異常検知部４０とを備える。異常検知部３０は、噴射部２０から噴射される洗浄液２１をタンク１０内の定位置で検知する液検知センサ４２と、液検知センサ４２から出力される信号に基づいて噴射部２０の回転に異常があるかどうかを判定する判定部４４とを含む。 （もっと読む）

【課題】爆轟により容器の内部面を洗浄する洗浄装置を提供する。
【解決手段】使用サイクルの初めに、燃焼管路は、空気（または他のパージガス）以外には空である。この管路に、関連するポートを介して予爆轟燃料および予爆轟酸化剤が導入され、上流部分に満たされる。点火器の火花放電を提供するために点火ボックスを起動し、予爆轟チャージを点火する。初期の爆燃は、セグメント８４内で急速に爆轟に変化し、爆轟波を発生させる。爆轟波は長手方向下流に進み、炉の内部において下流端部３０から衝撃波として出現し、洗浄すべき面に衝突し、典型的にコンタミネーション（汚染物質）を緩和するように、熱的かつ機械的に衝撃を与える。爆轟波に続き、加圧された燃焼生成物が、爆轟管路の下流端部３０から噴流として放出され、洗浄プロセスをさらに仕上げる。 （もっと読む）

【課題】紫外線照度及びオゾン濃度を安定化し被洗浄物に対して面内均一な洗浄を実施できるドライ洗浄装置及びドライ洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄槽２内において、気体３の上流側から順に整流板５、紫外線ランプ６及び被洗浄物７を配置する。紫外線ランプ６は、２５４ｎｍ及び１８４ｎｍの波長を有する紫外線を照射する。気体３中の酸素と１８４ｎｍの紫外線により発生したオゾン及び２５４ｎｍの紫外線により被洗浄物７を洗浄する。オゾン濃度及び２５４ｎｍの紫外線照度は、オゾン濃度計９及びＵＶ照度計１０により夫々測定され、この測定結果に基づき流量制御１９により気体３の流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】ピグの移動速度を極力一定に維持して、既設管の内面全体にわたってほぼ均一なライニングを行うことのできる管内ライニング用ピグの速度制御方法。
【解決手段】ピグ１の移動方向の後方側から流体による背圧を作用させてピグ１を移動させて、既設管Ｐの内面に未硬化樹脂Ｒを塗布してライニングする管内ライニング用ピグの速度制御方法で、ピグ１に向けて音波を発信し、ピグ１からの反射波によりピグ１の位置を計測し、単位時間当たりの位置変化に基づいてピグ１の移動速度を算出して、流体による背圧の調整でピグ１の移動速度が一定になるように、または、既設管Ｐ内に供給する空気の圧力と流量によりピグ１の位置を計測し、単位時間当たりの位置変化に基づいてピグ１の移動速度を算出して、空気による背圧の調整でピグ１の移動速度が一定になるように制御する。 （もっと読む）

【課題】洗浄部近傍の吸引状態を確実に検出することが可能でかつ吸引気流に含まれる揮発性ガスと接触せずに安価な流量検出手段にて検出する。
【解決手段】揮発性洗浄剤が供給される洗浄部１０と、洗浄部１０を基板１の洗浄箇所に沿って相対移動させる移動手段３と、洗浄部１０の近傍の雰囲気を吸引して排出する排気手段２０とを備え、排気手段２０は、洗浄部１０の近傍に開口する吸込口２１と排気ファン２２を接続する吸引経路２３と、吸引経路２３に分岐接続された外気吸入経路２４と、外気吸入経路２４に吸入される吸入流量を検出する流量検出手段２５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】透明基板の表面にこびりついた粘着剤や接着剤、その他の有機物質や固形異物等を、パネルに対してダメージを与えずに、確実に洗浄し除去する。
【解決手段】パネル１のガラス基板３に貼り付けた偏光膜８を剥離した後に、その表面にこびりついている有機物質を含む汚損物を洗浄により取り除くために、搬送手段１０に搬送されているパネル１は、温水ジェット噴射ステージ１１で温水が噴射された後、スチーム噴射ステージ１３に設けたスチームノズル１４からスチームが噴射されて、有機物質を膨潤化させ、かつ固着強度を低下させ、その後にブラシ洗浄ステージ２０に移行して、スチームを噴射させた面をブラシ２１により擦動する。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】一側面に出し入れ口２が形成された処理槽１と、この処理槽内の上記出し入れ口と対向する位置に設けられ処理槽内に搬入された半導体ウエハ１０の搬入方向と交差する径方向の両端部を保持してこの半導体ウエハを回転駆動する保持駆動手段８と、保持駆動手段に保持された半導体ウエハに処理液を供給する洗浄ノズル１２４，１２５と、処理槽内の上記保持駆動手段よりも内方に設けられ先端部に上記半導体ウエハの板面を洗浄する洗浄ブラシ７１，１２２を有するアーム６３，１２１およびこのアームを上下方向に駆動するとともに洗浄ブラシが半導体ウエハの径方向に沿って移動するよう上記アームを揺動駆動する駆動手段を有するツールユニット６１，６２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）