【課題】 マスクブランク用基板の洗浄時に、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板等の基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体中に配置された基板の少なくとも一つの表面に向かって、気泡又は洗浄用粒子を含む加圧した洗浄液体を噴射ノズルから噴射し、前記基板の少なくとも一つの表面を洗浄することを含むことを特徴とする、基板の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】高い清浄度でウェブを洗浄する。
【解決手段】ウェブ２の表裏面の少なくとも一方の面に対して、洗浄液が供給される。これにより、ウェブ２の面に沿った液流が発生させられる。この洗浄液には、ウェブ２の面に存在する異物１１に接触させるためのブラスト材１２が混入されている。したがって、ウェブ２の表面に沿った液流自体による剥離作用だけでなく、ブラスト材１２が接触することによる剥離作用が、異物１１に対して働く。このようにして、ウェブ２の面に沿った液流により、ウェブ２の面に存在する異物１１が除去される。 （もっと読む）

【課題】メディア撹拌型湿式粉砕機で使用するメディアを、短時間に洗浄し、メディアの粉砕を起こさないメディア洗浄機を提供する。
【解決手段】壁面の一部に篩面が形成されるとともに軸芯を中心として回転可能に形成された筒状のメディア容器２０と、内部に洗浄液を溜める洗浄槽３０とを備え、洗浄槽３０に溜めた洗浄液の液面と前記軸芯とが１５〜７０°の角度をなす状態で、篩面の一部を洗浄液に浸して回転する。超音波発振器５０を併用することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 汚砂だけでなくし渣をも対象として内部に目詰まりを起こすことなく洗浄処理が効率的になされるようにした汚砂・し渣洗浄処理方法ならびにその装置を提供すること。
【解決手段】 沈砂池から導かれる汚砂を、洗浄水を満たした処理槽内に投入してのち、エアーあるいは水などの流体の導入により上昇流を発生可能なリフト管内に汚砂を含む洗浄水を吸引・上昇させるとともに処理槽内に放出することでリフト管内と処理槽内との間で循環攪拌流を形成して汚砂を洗浄処理する工程と、沈砂池から導かれたし渣を洗浄水中に投入してリフト管を通して処理槽内に循環攪拌流を形成してし渣を洗浄処理したあと一方向に押しやって掻き揚げ処理する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被研磨基板を、シリカ微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで得られる被洗浄基板に対して好適に用いられ、洗浄性および耐泡立ち性が優れ、短時間の洗浄でも高度に清浄化されたＨＤ用基板を得ることを可能とするＨＤ用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いた清浄度の高いＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、特定のアクリル酸系共重合化合物および／又はその塩（成分(Ａ)）と、ポリアミン（成分（Ｂ））と、水（成分(Ｃ)）と、を含有し、実質的に非イオン性界面活性剤を含有せず、前記成分(Ｃ)以外の成分の重量の総和における前記成分（Ｂ）の含有量は３０〜９５重量％であり、前記成分(Ａ)と前記成分(Ｂ)の重量比｛成分(Ａ)/成分(Ｂ)｝が０．０４〜０．８である、Ｎｉ−Ｐ含有層を有するハードディスク用基板用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】従来の洗浄方法でも除去できない灰化物等の汚染物を除去できる高清浄度の洗浄方法の提供。
【解決手段】固形炭酸粒子を被洗浄材に噴射することにより、前記被洗浄材上の付着物を除去した後に、炉内において前記被洗浄材を加熱冷却する加熱冷却工程を含む被洗浄材の洗浄方法であって、前記加熱冷却された被洗浄材を、比抵抗１５ＭΩ以上の純水に浸漬する浸漬工程と、前記浸漬工程において、前記被洗浄材に超音波振動を与える超音波振動工程を含む洗浄方法であり、前記洗浄後に、５０℃以上の窒素雰囲気下で前記被洗浄材を乾燥させる第１乾燥工程を含む洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面に固着したアルカリ性物質等のうろこ状皮膜を除去する方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面に固着したうろこ状皮膜を中和反応して軟化させる作用を有する酸性の軟化処理材を、前処理として前記うろこ状皮膜に塗布して、該うろこ状皮膜を軟化させ、然る後、前記軟化したうろこ状皮膜に、洗剤に微粒子状の研磨材を混合して製造された皮膜除去クリーナーを塗布し、研磨用パッドで軽く研磨して除去する。 （もっと読む）

【解決手段】 パレット洗浄システム２は、水平状態のパレット１を起立状態とする起立部Ｃと、パレットに洗浄液を噴射する洗浄部Ｄと、パレットに付着した洗浄液を脱水する脱水部Ｅと、パレットを乾燥させる乾燥部Ｆとを備えている。
このうち、上記乾燥部Ｆは、乾燥手段１９を備えた乾燥室２０と、複数の起立状態のパレットを所定間隔で保持して、該パレットを載置面に直交する方向に搬送する主コンベヤ（第７コンベヤ２２）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤにパレットを供給する供給コンベヤ（第６コンベヤ２１）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤからパレットを排出する排出コンベヤ（第８コンベヤ２３）とを備えている。
【効果】 パレットの洗浄から乾燥までを効率的に行うとともに設置面積を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】付着物を確実に除去する。
【解決手段】付着物除去装置２は、付着物除去ノズル３を備える。付着物除去ノズル３には、小径オリフィス２１と大径オリフィス２２とが設けられている。液化二酸化炭素１１０は、小径オリフィス２１を通って粒子形成部３１に送られるとともに、大径オリフィス２２を通って粒子形成部３１に送られる。粒子形成部３１には、キャリアガス１００が送られる。粒子形成部３１では、小径オリフィス２１及び大径オリフィス２２からの液化二酸化炭素１１０とキャリアガス１００とから、二酸化炭素ガスと小径ドライアイス粒子１１１及び大径ドライアイス粒子１１２とを含む洗浄ガス１２０がつくられる。洗浄ガス噴出口１５から噴射された洗浄ガス１２０は、流延ドラム２１２の表面２１２ａに吹き付けられる。洗浄ガス１２０により、表面２１２ａに付着した液状付着物Ｘ１及び固形付着物Ｘ２が除去される。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された不要な薄膜その他の不要物を基板に損傷を与えることなく、効率的に除去することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板５０を保持する基板保持部３０と、研磨剤とミストを混合した混合ミストを噴出する噴射部１５と、噴射部１５と前記基板５０とを相対的に移動させる位置制御部２３とを備えており、基板５０の処理対象部に研磨剤を含む混合ミストを噴射（ミスト液を霧状にして研磨剤と一緒に噴射）して、基板５０に形成された不要な薄膜その他の不要物を除去する。 （もっと読む）

【課題】照明灯等の表面の膨張した赤錆を除去し防錆処理等を走行しつつ行う洗浄および防錆処理方法を提供することも目的とする。
【解決手段】供給水を所定圧力に加圧する高圧ポンプ１と、加温する温水器２と、高圧ポンプ１，温水器２と接続流路８，９，１０で接続され高圧温水を噴射する噴射ノズル装置４と、粒状の炭酸水素ナトリウムの貯留タンク４と、該タンク４に基端が接続され先端が噴射ノズル５ａに接続され該噴射流中に粒状の炭酸水素ナトリウムを混入させる炭酸水素ナトリウム供給路１１を備えた高圧洗浄装置を用いた洗浄および防錆処理方法であり、噴射ノズル５ａの先端から、粒状の炭酸水素ナトリウムを含み内部でキャビテーションを起こさせた状態の高圧温水を、処理しようとする金属製の対象物に噴射することによって、表面に発生している赤錆の膨張した部分を洗浄して除去し該除去した後に不動態被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】ドライアイス洗浄時に乱気流の発生を抑えつつ異物の除去が可能なフィルム洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し装置２と、ウェブフィルムＷを液体で洗浄する第１洗浄部３１、第２洗浄部３３と、洗浄したウェブフィルムＷを乾燥する第１乾燥部３２、第２乾燥部３４と、乾燥したウェブフィルムＷに対して気体とともにパウダー状のドライアイスを吹き付ける吹付けノズル４１を有し、吹付けノズル４１でドライアイスを吹き付けてウェブフィルムＷを洗浄するドライアイス洗浄部４と、ドライアイス洗浄したウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り装置６と、を備え、吹付けノズル４１は、ドライアイスの吹付け方向がウェブフィルムの洗浄面に対して斜めに傾けて設置されている。 （もっと読む）

【課題】成膜用治具に擦過痕などの疵をつけず、除去効率が悪くならず、大掛かりな装置を必要としないで洗浄する。
【解決手段】成膜用治具１を洗浄する装置である。成膜用治具１を設置する洗浄台３と、この洗浄台３に設置された成膜用治具１の洗浄面１ａに電解液７を噴射すべく、洗浄面１ａに対向配置されたノズル体５と、このノズル体５を一方の電極、洗浄台３を他方の電極とすべく、これらノズル体５と洗浄台３の間に電圧を印加する電源８と、ノズル体５に電解液７を供給する電解液供給手段６と、洗浄面１ａを洗浄した後の廃液を回収し、再び電解液７として電解液供給手段６に供給する循環経路１０を備える。
【効果】成膜用治具に擦過痕などの疵をつけず、また成膜用治具の形状に関係なく、簡易な装置で成膜用治具に付着した金属系付着物を洗浄して除去できる。 （もっと読む）

【課題】フィルムへの負担を軽減しつつ、異物の十分な除去が可能なフィルム洗浄方法を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し工程と、巻出し工程により巻き出されたウェブフィルムＷを超音波で液体洗浄する第１洗浄工程と、第１洗浄工程後のウェブフィルムＷを第１洗浄工程で設定された周波数よりも高い周波数の超音波で液体洗浄する第２洗浄工程と、洗浄したウェブフィルムＷを乾燥する乾燥工程と、乾燥したウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 液化炭酸ガスをドライアイスにして被洗浄物に投射して洗浄するに、ノズルとこれを囲包するホーンとの面積比を考慮して洗浄に適したドライアイスの粒径と硬度を得る。
【解決手段】 加圧された液化炭酸ガスを噴出するノズルと、ノズルの吐出口を囲包してその前方に配され、ノズルから噴出された液化炭酸ガスをドライアイスに生成して被洗浄物に投射するホーンとからなる噴射ヘッドを有する洗浄装置において、あるホーンの内径に対するノズルの内径を、ホーンの断面積／ノズルの断面積が２５〜３５の範囲にあるように設定する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程において、ガラス基板を保持する基板ホルダ自体から、或いは基板ホルダとガラス基板の接触による発塵を防止し、低フライングハイト化の阻害やサーマルアスペリティの要因となるガラス基板上の微小異物の付着を低減できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程、例えば洗浄処理工程において、少なくとも表面部が、ガラス基板よりも硬度が低く、かつ、強度の高い樹脂からなる基板ホルダ２０でガラス基板１０を保持して上記液処理工程を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被研磨基板を、シリカ微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで得られる被洗浄基板に対して好適に用いられ、優れた洗浄性を呈するハードディスク用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いたＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、下記式（１）で表される非イオン性界面活性剤、水溶性アミン化合物、及び水を含有する。Ｒ¹は、炭素数８〜１８のアルキル基，炭素数８〜１８のアルケニル基，炭素数８〜１８のアシル基、又は炭素数１４〜１８のアルキルフェニル基であり、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基、ｍ及びｎはそれぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数であり、ｍ＝１〜２０，ｎ＝０〜２０を表す数であり、ＥＯとＰＯの配列はブロックでもランダムでもよい。
Ｒ¹−Ｏ−（ＥＯ）ｍ（ＰＯ）ｎ−Ｈ （１） （もっと読む）

【課題】ワークピース表面上の絞り剤の残留物を、ワークピース全体を洗浄することなく除去することを可能とする装置及び方法を提供する。
【解決手段】溶接装置１は、ワークピース６上に溶接継目３を形成する溶接手段２と、ワークピースの表面に対して、溶接継目が形成されるべき領域に炭酸ガスと圧縮空気からなるクライオジェニック混合物８を噴射するノズル７と、を備える。溶接手段２とノズル７の距離は、少なくとも５ｃｍである。 （もっと読む）

【課題】可溶性結晶スラリー洗浄剤で洗浄対象定置配管系を洗浄し、洗浄後可溶性結晶スラリー洗浄剤を再生し、洗浄対象定置配管系から除去するＣＩＰ洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】スラリー洗浄剤で洗浄対象定置配管系の固着物を剥離除去し、固形物を前記スラリー洗浄剤から分離し、前記スラリー洗浄剤を再生し前記洗浄対象定置配管系に循環供給して前記洗浄対象定置配管系を洗浄するＣＩＰ洗浄において、可溶性スラリー材料を一部結晶化させた結晶化スラリー洗浄剤を用いるとともに、前記洗浄対象定値配管系に残留したスラリー結晶を溶解する温度にしたリンス液を用いて前記洗浄対象定置配管系から結晶スラリーを排出することからなる。 （もっと読む）