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Fターム[3B201BA12]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 機械的清浄手段 (788) | 摺接方式 (237) | 回転式 (163)

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縦回転 (30)
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Fターム[3B201BA12]に分類される特許

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【課題】一辺が1mを超える大型ガラス基板の加工後の洗浄において、大型ガラス基板の各洗浄、乾燥工程間の搬送経路が短く、広い設置スペースを必要としないコンパクトな構成の大型基板洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】薬液用スプレーノズル31と、該ノズルの上部に配置され、上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツールを1つ以上32、33有し、且つ、1つ以上の上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツール33の最上部に配置された対向する一対のシャワーノズル34と、該ノズルの上部に配置された対向する一対のジェットノズル35とを有する洗浄部30と、洗浄部30の上方に配置された対向する一対のエアーナイフ41を具備する乾燥部40と、大型基板90を直立させて保持する基板保持搬送治具50と、洗浄部30の下方に配置された投入払出部60とを有する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板に磁性膜等の情報記録膜を形成した情報記録媒体において、その表面への突起の形成を抑制でき表面の平滑性を向上させることが可能な情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程PR1と、研磨工程PR1の後に、洗浄液を用いてガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程PR2と、スクラブ洗浄工程PR2の後にガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程PR3とを有し、スクラブ洗浄工程PR2の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる。 (もっと読む)


【課題】基板の表面のデバイス形成領域に処理液による悪影響を与えることなく、基板の周縁部から汚染を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ブラシ11に関連して、処理液を吸引するための吸引ノズル70が設けられている。吸引ノズル70の先端部は、第1接触面32と第2接触面33との境界部分34に対向する先端面72と、第1接触面32および第2接触面33と当接する当接面73とを有している。先端面72には、吸引口74が形成されている。吸引ノズル70に接続された吸引管76は、処理室2の外部へ延びており、その先端は、真空発生装置60に接続されている。真空発生装置60が駆動されると、ブラシ11の内部に含まれる処理液は吸引口74に吸引され、ブラシ11の内部に吸引口74に向かう処理液の流れが形成される。 (もっと読む)


本発明は、スプレーガン(S)、詳細には、洗浄液用の送り装置(2)に接続された少なくとも1つの洗浄ノズル(1)と、スプレーガン(S)またはその部品を手動洗浄するための摩擦洗浄器具(3)とを有する、塗装スプレーガン(S)を洗浄するための洗浄装置に関する。かかるタイプの周知の洗浄装置は、塗料噴霧流路を十分に洗浄することができない。外側表面と塗料噴霧流路の両方の部分を効率的かつ環境的でしっかりと洗浄できる洗浄装置を提供するという目的は、洗浄ノズル(1)を摩擦洗浄器具(3)の近くの上方に配設することで達成される。その結果、洗浄ノズル(1)によって洗浄液をスプレーガン(S)の中かつ/またはその上に噴霧でき、スプレーガン(S)、詳細にはスプレーガンノズルを、摩擦洗浄器具(3)を使用した摩擦によって同時に手動洗浄することができる。
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【課題】高い洗浄能を有する、垂直磁気記録方式ハードディスク基板用洗浄剤組成物、それを用いて行われる洗浄方法、垂直磁気記録方式ハードディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】下記(式1)〜(式6)で表される界面活性剤からなる群から選ばれる1種以上の界面活性剤を含有し、25℃におけるpHが5以下である、Ni−P含有層を有する垂直磁気記録方式ハードディスク用基板用水系洗浄剤組成物。
【化1】


ただし、前記(式1)において、R1は、炭素数10〜16のアルキル基であり、Xは
ハロゲン原子である。 (もっと読む)


【課題】粉塵対策が十分で、広い作業スペースを要しない加工装置及び加工方法を実現する。
【解決手段】作業者は、天井の加工対象箇所にカップ状の防塵ユニット20を被せて覆い、この防塵ユニット20の縁を天井と隙間無く密着させる。作業者は、除塵機30と、蒸気発生器又はミストポンプと、の電源をONして開口部を湿潤する。作業者は、電動ドリル本体50の電源をONして、開口工具21を回転、上昇させ、天井に穴を開ける。作業者は、洗浄水ポンプの電源をONして防塵ユニット20内の粉塵を洗い流す。作業者は、防塵ユニット20を天井から離す。防塵ユニット20が天井から離れると、絞りリング80はシャッターを閉じる。作業者は、防塵ユニット20等を片づけ、必要であればHEPAフィルターを交換する。 (もっと読む)


【課題】 突起状の被洗浄物における起伏のある先端部であっても有効かつ十分な洗浄を行えるようにするとともに、ブラシ機構部におけるブラシへのゴミの付着を回避する。
【解決手段】 突起状の被洗浄物Mを挿入口2iから内部に挿入可能なハウジング部2,このハウジング部2に挿入した被洗浄物Mを洗浄するブラシ機構部3,このブラシ機構部3を回転させる回転駆動部4及びハウジング部2の内部に洗浄液Lを噴射する噴射部5を備える洗浄ユニットU1において、ブラシ機構部3に、弾性素材により形成し、先端のエッジ部10e…を被洗浄物Mにおける少なくとも先端面Mssに当接させて当該先端面Mssの汚れを掻き取る複数の突起部10…を所定の密度で配した先端面洗浄ブラシ11を設ける。 (もっと読む)


【課題】
横型回転羽根方式の従来の洗浄機において、石、金属等硬い異物の混入は厳禁とされている。これらは高速で回転する羽根に当たり、ケーシングや回転羽根に損傷与える他、しばしば回転羽根とケーシング間にかみ込む。更に、被被洗浄物投入後前半で水を噴霧、洗浄し、後半で遠心力で脱水する場合、軸が長くかつ水平のため大きな曲げ荷重がかかる。
【解決手段】
本発明は回転羽根2が鉛直軸の回りに回転する縦型とし、縦型円筒ケーシング3への投入口4を下方に、排出口5を上方とし、かつ回転羽根2の下端とケーシング3の底板10との間に異物回収空間9を備えた。これにより比重の重い小石等は、投入後速やかにケーシング底部に落下し回収できる。又、縦型である事と、脱水時の水切り改善効果による装置の短縮化により回転軸の負荷荷重が激減した。 (もっと読む)


【課題】従来のバフの洗浄装置においては、手による揉み洗いで、洗浄し、天日乾燥か、強制脱水等による方法が一般的である。この方法は、能率が劣ること、厳寒時には大変に辛い作業であり、その改良が望まれていた。一部において、洗浄水を単にバフ装置に吹き付けて洗浄する方法では、バフ装置のバフの奥に付着した汚れが取れ難い等の問題がある。そして、また乾燥はエアを吹き付けることにより行なっているため、エアの供給が必要であった。
【構成】フレームに設けたケーシングにクロス状に軸支したローラと、洗浄水供給装置と、ホースとで構成した車輌、又は壁面用のバフを備えた電動工具清掃装置で、ケーシングの上面に水噴出用の孔を複数個開設し、この孔を洗浄水供給装置に連通し、またケーシングの上面に排水用の孔を複数個開設する構成とした車輌、又は壁面用のバフを備えた電動工具清掃装置である。 (もっと読む)


【課題】洗浄対象物が顔の場合、従来はスチームを顔面に噴霧する方式であり洗浄が不十分であり、毛穴の奥に入り込んだ汚れは十分落とせるものではない。またマサージも顔面にパッドを当てがうだけでは効果はあまり期待できない問題点を克服するために、顔の肌の汚れや皮脂を落として細胞を活性化するコンパクト機構で低コストの洗浄器を提供する。
【解決手段】 洗浄器100は、入出口10を有する回転部歯車6、歯車7と、該回転部を回転させる駆動部モータ5と、前記入出口10に流体を供給する流体供給部(圧力タンク4、シリンダーポンプ3、操作レバー1、中間通水路13、トルマリンユニット2、通水路9)と、から構成されており、前記回転部が回転しながら入出口10から流体を噴出する。 (もっと読む)


【課題】銅配線の腐食抑制効果(銅腐食抑制効果)が優れ、かつ接触抵抗に影響を及ぼさない銅配線用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】銅腐食抑制剤(RE)及び水(W)を含有してなり、25℃でのpHが3〜14であり、かつ式(1)を満たしてなることを特徴とする銅配線用洗浄剤を用いる。

【数1】


{式中、Eは25℃での酸化還元電位(V、vsSHE)、pHは25℃でのpHを表す。}

また、上記の銅配線用洗浄剤を半導体基板又は半導体素子に連続的又は断続的に供給して、銅配線を有する半導体基板又は半導体素子を洗浄することを特徴とする半導体基板又は半導体素子の洗浄方法を用いる。
なし (もっと読む)


【課題】基板の少なくとも一方表面の周縁領域および周端面を良好に洗浄することができ、かつ、その周縁領域における洗浄幅を容易に変更することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ブラシ16を保持した揺動アーム17は、ウエハWの表面の周縁領域に対するブラシ16の押し圧を調節するための押し圧保持機構33を備えている。ブラシ16は、鉛直軸線まわりに回転対称な略鼓状に形成され、中心軸線に対して45度の傾斜角度を有して、下方ほど中心軸線に近づくように傾斜する第1洗浄面を有する。回転中のウエハWの周縁部にブラシ16の第1洗浄面が当接され、第1洗浄面がウエハWの表面の周縁領域および周端面に押し付けられる。このとき、押し圧保持機構33の働きによって、ブラシ16の第1洗浄面は、予め設定された一定の押し圧で、ウエハWの表面の周縁領域に押し付けられる。 (もっと読む)


【課題】基板の両面の各周縁領域および周端面を洗浄することができ、かつ、各周縁領域における洗浄幅を容易に変更することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、第1ブラシ84および第2ブラシ88を備えている。第1ブラシ84の先端部の側面は、円錐面をなし、周縁領域13および周端面15に当接する洗浄面98となっている。一方、第2ブラシ88の先端部の側面は、円錐面をなし、周縁領域14および周端面15に当接する洗浄面99となっている。第1ブラシ84の洗浄面98をウエハWの表面の周縁領域13および周端面15に当接させて、その周縁領域13および周端面15を洗浄することができ、また、第2ブラシ88の洗浄面99をウエハWの裏面の周縁領域14および周端面15に当接させて、その周縁領域14および周端面15を洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】基板の厚みにかかわらず、その少なくとも一方表面の周縁領域および周端面を良好に洗浄することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】ブラシ16は、略円板状の胴部27と、この胴部27の先端側の端面に接続され、先端側に向けて拡がる略円錐台状の第1周端面当接部28とを備えている。胴部27の先端側の端面における第1周端面当接部28の周囲の円環帯状の部分が、基板の一方表面の周縁領域に当接する第1洗浄面29Aとなっている。また、第1周端面当接部28の側面が、基板の周端面に当接する第2洗浄面29Bとなっている。第1洗浄面29Aを基板の表面の周縁領域に押し付けるとともに、ブラシ16の第2洗浄面29Bを基板の周端面に押し付けることにより、基板の一方表面の周縁領域および周端面を同時に洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】 再汚染の問題がなく、廃水処理が簡単で、且つ装置、運用コストを抑えることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 基板1を複数のローラ2で連続して搬送し、基板1を洗浄及び乾燥処理する基板洗浄装置において、洗浄手段は、固形物を混合した混合液5と、加圧された気体と、混合液噴射ノズル3とを有し、基板1に向けて、混合液5を加圧された気体により混合液噴射ノズル3から噴射させる。 (もっと読む)


【課題】基板サイズ情報を自動的に入力することによって、基板サイズ情報の手入力ミスを防止するとともに、生産性を向上させることができる洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】異なる複数のサイズのフォトマスク基板8に所望の洗浄処理を施すために、基板サイズに応じて可変する可変部位(三方弁293など)と、フォトマスク基板8とともに投入される基板保持部材81に付された基板サイズ情報を読み取るバーコードリーダー101と、バーコードリーダー101により読み取られた基板サイズ情報にもとづき、可変部位を可変させる制御部7とを備えた構成としてある。 (もっと読む)


表面洗浄機(100、300,370、380、500)が提供される。この装置は、表面(125、302)の上を移動するように構成された可動式躯体(102、306、381)と、可動式躯体(102、306、381)によって搭載された洗浄装置(110、112、308、314、375、385)と、液体流路(16、17、18、59、70、71、160、160A、160B)と、液体流路(16、17、18、59、70、71、160、160A、160B)における電気分解装置(10、40、50、161、162、163、324、325、326、503、504、505)とを含む。
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【課題】高層ビルで自動窓拭き機と管理端末と自動窓拭き機格納ステーションを設置し、汚れ検知センサーを全窓取り付けることにより自動的に汚れを検知し汚れた窓を清掃する。更に、自動窓拭き機の清掃用具は格納ステーションの予備格納部へセットしておくと清掃用具寿命検出で自動的に交換を行う。
【解決手段】本発明の窓拭き自動システムは、日数管理を行う管理端末と、窓の汚れ検知を行い管理端末に通知する汚れ検知センサーと、所定の日数経過時又は汚れ検知時に管理端末から受けた命令に基づいて窓の清掃を自動実行する自動窓拭き機と、自動窓拭き機を格納する格納ステーションとを具備する。更に、格納ステーションは、自動窓拭き機の清掃用具の予備が格納されている予備格納部と、自動窓拭き機の使用済みの清掃用具と予備の清掃用具とを交換する清掃用具交換部とを具備する。 (もっと読む)


基板を洗浄する方法が提供される。方法は、活性化溶液を基板の表面に塗布することから始まる。活性化溶液および基板の表面は、固体の洗浄表面の表面と接触する。活性化溶液は固体の洗浄要素の一部分の中に吸収され、次にダイ基板または固体の洗浄表面は、互いに対して動かされ、基板の表面を洗浄する。塑性変形を受ける固体の洗浄要素によって、基板の表面を洗浄する方法も提供される。対応する洗浄装置も提供され、より効果的でより摩耗の少ない洗浄技術を提供する。
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【課題】サイズの異なるガラス材料製のハードディスクを効率よく洗浄できるようにしたガラスハードディスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】ローダーカセット(2)から送り出されたハードディスク(1)を第1ウォーターベアリング(6)で搬送する。第1検出間隙(8)を設けて第2ウォーターベアリング(7)を連接し、ハードディスク(1)をスクラブ洗浄部へ送る。このスクラブ洗浄部で、ハードディスク(1)はテーパー付のドライブローラ(10)の傾斜面に当って回転される。スクラブ洗浄後のハードディスクは第3ウォーターベアリング(24)及び第2検出間隙(27)をあけて設けた第4ウォーターベアリング(26)でアンローダーカセット(31)に収納される。上記第1検出間隙(8)及び第2検出間隙(27)には、ハードディスクを横方向から検出するセンサー(9)、(29)がある。 (もっと読む)


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