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Fターム[3C049AA02]の内容

3次曲面及び複雑な形状面の研削、研磨等 (13,165) | 装置の構造(工具) (4,425) | 工具の種類 (1,832) | 砥石を用いるもの (1,164)

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【課題】熟練した技量を必要とせず、誰にでも簡単にチップやキュレット等を研ぐことができる研磨用チップを提供すること。
【解決手段】歯科用超音波スケーラや歯科用エアスケーラのハンドピースの先端部に着脱自在に装着される軸部2と、この軸部2の先端部から連続するようにして延びるとともに、表面21、裏面、および二つの側面23を備えた平板部3と、この平板部3の先端部から連続するようにして延びる円柱部4と、を有し、前記表面21、裏面、二つの側面23、および円柱部4の外周面に、砥石が電着または焼結により固着されている。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の主平面を、酸化セリウム砥粒を使用することなくかつ高い研磨速度で研磨して、加工の際に生じたキズやクラック等を除去し、平滑な主平面を有する磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研削工程と、主平面研磨工程とを備える。そして、主平面研削工程は、平均粒径0.01μm〜15μmのダイヤモンド砥粒を有する固定砥粒工具を用いて研削する固定砥粒研削工程を有し、主平面研磨工程は、シリカ粒子、ジルコニア粒子等の酸化セリウム粒子以外の平均粒径5nm〜3000nmの砥粒を含む研磨液と、研磨パッドを用いて研磨する第1の研磨工程と、その後平均粒径が5〜50nmのシリカ砥粒を含む研磨液と研磨パッドを用いて研磨する第2の研磨工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】支持基板に貼り合わせたウエハの歩留まりを上げることができる半導体装置の製造方法および製造装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の半導体装置の製造方法は、第1工程、第2工程および第3工程を含む。第1工程は、半導体素子が形成されたウエハの表面を支持基板に貼り合わせる。第2工程は、ウエハの裏面を研削して、ウエハを所定の厚さにする。第3工程は、ウエハの周縁部を支持基板の一部に達するまで研磨して、周縁部を除去する。 (もっと読む)


【課題】コバ部(レンズ外周縁部の肉厚部)の無い、もしくはコバ部が少ないレンズ素材を研削もしくは研磨加工する際にも、コバ部のあるレンズ素材の加工と同等、またはそれ以上の作業効率により加工作業を行うことが出来るレンズ加工装置に用いるレンズホルダを提供する。
【解決手段】この実施形態のレンズホルダとしてはレンズ素材Wの円弧状に形成されたレンズ保持面2を備えたホルダ本体1Aと、ホルダ本体1Aの外周縁部1aにレンズ素材Wの外周縁部Wa(以下外周縁部1aに形成された肉厚部をコバ部Kと呼称する)を支持するリング状の支持部材4とで構成され、この支持部材4は、加工対象となるレンズ素材Wのレンズホルダ1へのセット時の芯出し位置決めに用いる。ホルダ本体1Aの円弧状に形成されたレンズ保持面2には、所定の形状に形成した高摩擦材から成るシート材料16が貼着してある。 (もっと読む)


【課題】大きなサイズの高品質基板の製造に好適なサファイア基板の研削方法を提供する。
【解決手段】サファイア基板を機械加工する方法は、第1の固定砥粒を使用してサファイア基板の第1の面を研削する工程および第2の固定砥粒を使用して前記サファイア基板の前記第1の面を研削する工程を含み、前記第2の固定砥粒が、前記第1の固定砥粒に比べて小さな平均粒径を有し、前記第2の固定砥粒が自生作用する。 (もっと読む)


【課題】工作物を超音波補助回転機械加工するための工具ユニットを提供する。
【解決手段】工具ユニットは、超音波振動を生成し、伝達するために少なくとも1つの電気音響変換部(22)を含む変換器(23)と、変換器に結合された工具(30)と、内部に変換部を含む変換器が配置構成され、工具スピンドル(10)の保持部(11)に少なくとも部分的に挿入可能であり、着脱式接続部(27)によって工具スピンドルに接続可能であるホルダ(21)とを有する。 (もっと読む)


【課題】 円筒状永久磁石などの円筒体を面取りする際に用いられる砥石の寿命を延ばし、加工費を低減することのできる円筒体の面取り装置及び面取り方法を提供すること。
【解決手段】 円筒状永久磁石11の面取りをする面取り装置10であって、円筒状永久磁石11の一方端面12が台座面13に接するように円筒状永久磁石11を載置する台座14と、円筒状永久磁石11を台座14の所定位置に固定する凹部15と、所定位置に固定された円筒状永久磁石11の中心軸X1と同一軸上にその回転軸X2が位置している状態で、円筒状永久磁石11の他方端面16の周縁17を面取りする円板状砥石18と、円筒状永久磁石11と台座14により形成される円筒状永久磁石11の内部空間19に研削液20を供給する供給管21とを備えている。 (もっと読む)


【課題】加工コストを抑制して、安定した加工精度を得る。
【解決手段】孔の開口部に形成された末広がり面を仕上げ加工するための仕上げ加工装置であって、孔の壁面を仕上げ加工するための研磨部1と、該研磨部1を孔の軸線に沿った回転軸線Pを中心として回転させながら該回転軸線Pに沿って移動させる駆動部3とを備える。研磨部1は、回転軸線Pに対する拡がり角度の大きい状態と拡がり角度の小さい状態との間で姿勢変化可能に設けられている。孔への進入量が小さいときには、末広がり面における手前側の部分に研磨部1が当接するように、研磨部1は拡がり角度の大きい状態となる。孔への進入量が大きいときには、末広がり面における奥側の部分に研磨部1が当接するように、研磨部1は拡がり角度の小さい状態となる。 (もっと読む)


【課題】予め個片化された半導体チップの角の面取りをできるようにする。
【解決手段】面取り装置10が、半導体チップ11を回転させる回転装置30と、回転装置30の周辺に半導体チップ11の角に接離可能に配置された工具40と、回転装置30の回転軸に関する径方向に沿って工具40を移動させることによって、工具40を半導体チップ11の角に接触させて、半導体チップ11の角を面取りする移動装置50と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 生産上のコスト増加要因をともなわずに、半導体ウェーハの外周ダレ(エッジロールオフ)が所望値内に改善された半導体ウェーハ及びそのような半導体ウェーハを製造する方法を提供する。
【解決手段】 単結晶インゴットをスライスして半導体ウェーハを得るスライス工程と、該スライス工程によって得られた半導体ウェーハの外周部を面取りする面取り工程と、該面取りした半導体ウェーハを平坦化する平坦化工程と、該平坦化した半導体ウェーハの主面のうち少なくとも一方を研磨する研磨工程とを含む、半導体ウェーハの製造方法であって、前記面取り工程によって、前記半導体ウェーハの主面のうち少なくとも前記研磨工程によって研磨する主面側の面取り部において、エッジロールオフ量の規格に応じて、前記主面と前記面取り部の傾斜面とのなす角度を30°以上40°以下の範囲で調整する半導体ウェーハの製造方法 (もっと読む)


【課題】 ボールのバリを取る方法を提供する。
【解決手段】 制御装置が研磨器の位置を制御する。研磨器をボールと隣接した所望の第1位置に移動する。研磨器と接触した状態でボールを回転する。研磨器がボールの外面及び外面上のバリを研磨し、バリを除去する。センサを使用してバリの位置及び大きさを感知してもよい。 (もっと読む)


【課題】 ボールのバリ取りを行う構造体を提供する。
【解決手段】 本構造体は、アームと、アームの有効長さを変化するための歯車構造と、アームの有効角度位置を変化するためのカム構造とを含む。研磨面を持つフィンガがアーム上で往復動する。ボールは、回転ホルダに配置され、研磨面と接触してボール上の少なくとも一つのバリを除去する有効位置に位置決めされる。 (もっと読む)


【課題】 切削開始時に切削ブレードが逃げたり蛇行することを防止可能な円形被加工物の切削方法を提供することである。
【解決手段】 円板状の被加工物を切削ブレードで切削する切削方法であって、被加工物の上面側から該切削ブレードを回転させつつ被加工物の外周部に所定の深さで切り込ませる切込みステップと、被加工物に所定深さで切り込んだ状態の該切削ブレードと被加工物とを相対移動させて、被加工物を該切削ブレードで切削する切削ステップと、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】複数の板状ガラスが積層された積層体から複数の磁気ディスク用ガラス基板を作製するときに、外周研削面の真円度を向上させる。
【解決手段】複数の板状ガラスが積層された積層体を準備する積層体準備工程と、積層体を研削液に浸漬させる浸漬工程と、大径の円筒状の外周研削砥石と小径の円筒状の内周研削砥石とが同軸に配置される一体型コアドリルを軸を中心に回転させ、かつ、内周研削砥石と板状ガラスとが接触してなる内周研削面に研削液を供給しつつ、積層体の積層方向に移動させることで、積層体を円筒状に研削加工する研削工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】同一の設備で、短時間のうちに粗研削から仕上げ研削までを行って高精度な仕上げ面を得ることができるワーク研削装置、ワーク研削方法、エンジンバルブ研削装置、及びエンジンバルブ研削方法を提供する。
【解決手段】ワーク2を把持して研削砥石19によりワーク2の被加工面4Cを研削するワーク研削装置3において、前記研削砥石19が、一の砥石体の研削面25に粗研削を行う粗研削領域25C1と仕上げ研削を行う仕上げ研削領域25C2とを区別して備え、粗研削領域25C1を被加工面4Cに当接させて、トラバース加工により被加工面4Cの粗研削を実施し、仕上げ研削領域25C2を粗研削実施後の被加工面4Cに当接させて、プランジ加工により被加工面4Cの仕上げ研削を実施する構成とした。 (もっと読む)


【課題】個々のガラス板に寸法や形状等のばらつきがあっても、各ガラス板の四隅の角部を精度良く、かつ、効率的に研削加工することができるガラス板の角部加工装置と角部加工方法を提供する。
【解決手段】基準位置に合わせて固定した矩形のガラス板Gの四隅の角部を、各角部ごとに設けられた回転工具4を加工プログラムにより互いに直交するX軸方向及びY軸方向へ移動させて研削加工するガラス板Gの角部加工装置10において、ガラス板Gの四隅の各角部を成す二つの辺を検知手段7で検知し、その検知データに基いてガラス板Gの各角部の角度及び基準位置に対するガラス板Gの位置ずれ量を演算し、演算したガラス板Gの各角部の角度及びガラス板Gの位置ずれ量に基いて加工プログラムを補正するようにした。 (もっと読む)


【課題】ウェーハの周縁部における欠けの発生を抑制できるウェーハの面取り方法を提供すること。
【解決手段】円板状のウェーハWにおける一方の面である下面WAのみを保持した状態で、ウェーハWの面取りを行う面取り方法であって、ウェーハWにおける他方の面である上面WBの周縁部WCおよびウェーハWの側面WDを、粗研削用の研削材を用いて研削する粗研削工程と、前記粗研削工程の後に、ウェーハW1の上面WBの周縁部WC1およびウェーハW1の側面WD1を、精研削用の研削材を用いて研削する非保持面精研削段階、並びに、ウェーハW1の下面WAの周縁部WE1およびウェーハW1の側面WD1のうちの少なくとも周縁部WE1を、精研削用の研削材を用いて研削する保持面精研削段階を備える精研削工程とを備えることを特徴とするウェーハの面取り方法。 (もっと読む)


【課題】ワークの孔のバリを正確に取り、ワークの孔および研削部の劣化を抑制するバリ取り装置を提供する。
【解決手段】モータ22と、モータ22の駆動軸22aに偏心して取り付けられた重り23と、ワーク13の孔13aに挿入され、重り23の偏心運動によりモータ22と一体的に動いてワーク13の孔13aのバリを取る研削手段20とを備える。 (もっと読む)


【課題】円盤状基板の外周端面の研磨を行なう工程と内周端面の研磨を行なう工程とで共通のスペーサを使用することができ、円盤状基板の生産性を向上させることができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板10の間にスペーサ110を介在させて積層する積層工程と、ガラス基板10の内周端面を研磨する内周研磨工程と、内周研磨工程の後に積層状態を維持したままガラス基板10の外周端面を研磨する外周研磨工程と、を有し、スペーサ110は、ガラス基板10の外径半径をR1、内径半径をR2、外径チャンファ長をCout、内径チャンファ長をCin、スペーサ110の外径半径をr1、内径半径をr2、とすると、r2>R2+Cin…(1)r1<R1−Cout…(2)r1+r2<R1+R2−Cout…(3)であることを特徴とするガラス基板10の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 汎用性が大で簡単な構造で球体を満遍なく回転させることができるようにする。
【解決手段】 球体1を回転自在に受持する一対のローラ3,4と、この一対のローラ3,4をそれぞれ回転駆動するサーボモータ27,28と、前記両サーボモータ27,28を制御して前記球体1の1回転中に一対のローラ3,4の角速度を高低変化させながら一方のローラ3,4が高角速度のときに他方が低角速度となるように回転させる制御手段7とを備えている。また、前記制御手段7は、一対のローラ3,4を角速度高低変化させながら回転する途中に、球体1の少なくとも1回転における高角速度の時間長さを長短変更する回動制御機能43を有している。 (もっと読む)


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