【課題】粉体を分散するための攪拌羽根を持たず、同一容器でろ過から乾燥まで行うことができる粉体の水洗処理方法および水洗処理装置を提供する。
【解決手段】水を入れた容器４に圧縮空気を入れて旋回流をつくり、導入した粉体を分散及び攪拌した後蓋をし、前記容器４の下部に設けられた排出口６を開けて粉体のろ過及びろ過液の排出を行った後、該粉体が乾燥するまで保持し、好ましくは、前記圧縮気体として蒸気を用いることにより、前記容器４内を加温して水洗処理を促進することを特徴とする粉体の水洗処理方法および水洗処理装置。 （もっと読む）

【課題】表面に液体塗布層を備えたシート媒体を乾燥する乾燥ユニットにおいて、乾燥に伴う発熱の問題を抑える。
【解決手段】乾燥ユニット２０は、所定の搬送経路に沿って搬送される前記シート媒体を、乾燥手段である第１光源ユニット３０、第２光源ユニット４０、保温ユニット５０、熱風乾燥ユニット６０及び第３光源ユニット７０において加熱し、乾燥させるにあたって、乾燥環境である上流側空間２０Ａ及び下流側空間２０Ｂにおける熱を回収し、熱回収手段である第１回収ダクト２３、第２回収ダクト２４及び排気ブロアを設け、それらの熱回収手段を、搬送経路に対して、乾燥手段と同じ方向から対向させる。したがって、乾燥手段から輻射や温風などとしてシート媒体Ｐに与えられた熱の内、跳ね返された熱を回収することができ、多くの熱を回収し、乾燥に伴う発熱の問題を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】熱風による表面乾燥と、赤外線ヒータによる輻射熱乾燥との併用により、スピーディーに塗工膜を表面及び内部から加熱乾燥でき、しかもこの輻射熱乾燥効率を高めるため赤外線ヒータを近づけても、熱風乾燥の乾燥効果を十分に維持しつつたとえ塗工膜から気化ガスが生じても危険濃度にならず、乾燥能力の向上によるフィルム塗工の量産性を高めることができる画期的な薄膜塗工装置に設ける乾燥装置を提供すること。
【解決手段】塗工を終えたフィルム状の被塗工体４を搬送通過させ熱風乾燥させる乾燥室５に、輻射熱で塗工膜６を乾燥させる乾燥用ヒータ部９を配設し、この乾燥用ヒータ部９は、通風間隙10を介して多数のヒータ棒状部11が並設した構成とし、このヒータ棒状部11にこの下方の塗工膜６に向けて導風する熱風導風部12を設けた薄膜塗工装置に設ける乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】過昇温を抑制された温風を吹き付ける場合でも記録媒体に付着した液体の乾燥状況が不均一になることを抑制できる乾燥装置及び液体噴射装置を提供する。
【解決手段】インクが付着した連続紙Ｓに加熱した空気を吹き付けることにより、連続紙Ｓに付着したインクを乾燥させるヒーターユニット２０であって、空気を加熱するヒーター３６と、ヒーター３６により加熱された空気が流動する空気流路部３５内の温度を検知するとともに空気流路部３５内の温度が予め設定された許容温度以上になったときに前記ヒーター３６への電力の供給を遮断する過昇温抑制センサー３９と、を備え、この過昇温抑制センサー３９を、空気流路部３５の外側に配置した。 （もっと読む）

【課題】噴霧乾燥装置で製造される微粉末を歩留良く回収することができる粉体補集目的のサイクロン装置を提供すること。
【解決手段】サイクロン本体と、分散粉体を含んだ気体流をサイクロン本体に吹き込むために設けられた粉体導入管と、サイクロン本体内のガスを排気するために設けられ排気管と、吸引口を有するサイクロン本体下部に設けられた粉体回収容器と、圧縮ガスを用いて吸引力を発揮するエジェクターを具備し、エジェクターにより粉体回収容器の吸引口からガスを吸引することによるブローダウン機構を有し、エジェクターにより吸引したブローダウンガスと圧縮ガスの混合ガスを粉体導入管もしくは、サイクロン本体に吹き込むことを特徴とする粉体回収装置である。 （もっと読む）

【課題】乾燥機本体から乾燥チャンバ等の部品を容易に、かつ、確実に取り出すことができるドラム式乾燥機及びドラム式乾燥機のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】軸線中心に回転する乾燥ドラムと、この乾燥ドラムの外周面の少なくとも一部に対向配置される乾燥チャンバと、これら乾燥ドラム及び乾燥チャンバが収容される乾燥機本体と、を備えたドラム式乾燥機であって、乾燥機本体１１には、軸線に平行に延びる内部レール部１５が配設されており、乾燥チャンバ３０は、内部レール部１５に案内されるスライド部材３３を有し、乾燥機本体１１には、軸線方向一方側に向けて開口する開口部が形成され、この開口部には、内部レール部１５に連設され、かつ、内部レール部１５の延在方向に延びる外部レール部４０が着脱可能に配置されている。 （もっと読む）

【課題】循環ガスや原料溶液に含まれる溶媒の外部漏れを効果的に防止する。
【解決手段】噴霧乾燥装置は、ノズルから噴霧された原料溶液のミストを乾燥して微粒子とする噴霧乾燥塔と、噴霧乾燥塔で乾燥された微粒子を循環ガスから分離して回収する粉末回収器と、循環ガスを冷却して原料溶液の溶媒を分離する凝縮器と、溶媒の分離された循環ガスを加圧して噴霧乾燥塔のノズルに供給する気体圧縮器とを備える。気体圧縮器は、ピストン４１をシリンダ４０内で往復運動させるピストン式の強制移送機４Ａで、ピストン４１の往復運動方向に直線運動するピストンシャフト４３と、このピストンシャフト４３を往復運動させる往復運動機構３４とを備える。シリンダ４０の往復運動機構３４側の開口部は、閉塞プレート４７で閉塞しており、この閉塞プレート４７は、摺動自在に貫通するピストンシャフト４３の表面をシール４８で気密に閉塞している。 （もっと読む）

【課題】乾燥空気供給システムにおいては、定常的に必要とされる乾燥空気量とともに、必要とされる量が急に多くなったり、少なくなったりした場合にも対応できるように、供給能力の余裕が必要となる。
【解決手段】複数の除湿機の出力口と乾燥空気を送り出す送風管が連通された供給チャンバと、前記複数の除湿機の入力口と外気取入れ口が連通された外気導入チャンバと、前記供給チャンバおよび前記外気導入チャンバを連通させるバイパス風路と、前記バイパス風路中の前記供給チャンバ側に配置され測定値を出力する圧力計と、前記バイパス風路中で前記圧力計より前記外気導入チャンバ側に配置され開閉を制御されるバイパスダンパと、前記圧力計からの圧力信号を受け取り、前記圧力信号に基づいて、前記バイパスダンパと、前記複数の除湿機を個々に制御する制御部を有する乾燥空気供給システム。 （もっと読む）

【課題】加熱部を容易に着脱することができるドラム式乾燥装置を提供する。
【解決手段】ドラム式乾燥装置１は、回転可能に支持され、基材Ｗを巻き掛けることで回転する円筒状のドラム部２０と、ドラム部２０の内腔Ｓ１に配置された係合部４５と、係合部４５に着脱可能に係合する被係合部５１ａを有する加熱部５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されることを抑えることができる加熱乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板を収容するチャンバ部と、前記チャンバ部に基板を収容した状態で基板を支持する基板支持ユニットと、複数のヒータ部からなり基板温度を調節するヒータユニットと、ヒータユニットを制御する制御装置と、を備える加熱乾燥装置であって、前記制御装置が加熱乾燥中に基板と基板支持ユニットとの全ての当接点の温度を測定し、その測定結果に基づいて、各ヒータ部の温度を制御することにより、基板全面の温度を均一にする構成とする。 （もっと読む）

【課題】薄く、幅の狭いウエブでも、バタつきや蛇行の発生を抑制する。
【解決手段】下ノズル３のスリット１５設置面から直交するように、略台形状の仕切り板１７の複数を平行に取付ける。孔やスリットのない閉塞した仕切り板１７の後端部は、下ノズル３の上面より高く隙間１８を有し、仕切り板１７の上底は搬送時のウエブ２の略正弦波形状である。下マニホールド５から熱風は、下ノズル３の下部空間１２、孔１４、上部空間１３、案内壁１６に沿って、スリット１５から上方に吹き出される。熱風はウエブ２の下面に当たり、下ノズル３の上面との間の圧力が高まり、離れるように浮上する。浮上状態のウエブ２をニップローラの回転により走行させる。ウエブ２の下面の熱風は仕切り板１７により横方向の流れが抑制され、ウエブ２の端面から流出の熱風によるカールを抑制でき、隙間１８によりウエブ２下面の圧力を逃し、ウエブ２の吹き上がりやバタつきを防止する。 （もっと読む）

【課題】被乾燥物を短時間で効率よく乾燥させることのできる真空乾燥装置を提供する。
【解決手段】被乾燥物４０を気密に収容する乾燥槽１０と、乾燥槽１０を減圧して減圧状態とする減圧手段３０と、乾燥槽１０の減圧状態を解除する減圧解除手段Ｖ１と、乾燥槽１０内の圧力を検知する圧力検知手段１４と、液化した溶剤を乾燥槽１０から外部に排出する溶剤排出手段Ｖ４、５３と、前記減圧手段３０、減圧解除手段Ｖ１、及び溶剤排出手段Ｖ４、５３を制御する制御手段６０と有する真空乾燥装置において、真空乾燥の実行中に、乾燥槽内の圧力が目標圧力Ｐよりも高く、且つ該圧力の下降速度が設定値Δｐ１以下となったときに、減圧手段３０による減圧を停止させて減圧状態を解除し、溶剤排出手段Ｖ４、５３によって液化溶剤を乾燥槽１０から排出した後に再び減圧手段３０による減圧を再開させるものとする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で、野菜等の被乾燥物を少量乾燥できる静置型乾燥装置を提供する。
【解決手段】
本発明の野菜等の静置型乾燥装置１は、少量の被乾燥物である野菜等を乾燥ボックス２ａの中に入れ、当該乾燥ボックス２ａの複数個を重設して乾燥風を下方から上方に通風して乾燥を行うことができるようにしてあるので、これにより、少量の野菜等を乾燥することができ、また、簡単な構造なので乾燥装置の製造コストも安価である。また、乾燥運転中に乾燥中の被乾燥物の状態を観察する際には、多段に重設した前記乾燥ボックス２ａを下ろしたりすることなく、サンプル乾燥ボックス８を引き出して乾燥中の被乾燥物の変色等の品質変化を容易に観察することもできる。さらに、乾燥運転中において、重量測定部４で測定した重量測定値の表示を見て被乾燥物の乾燥進行状況（水分値の低下状況）を把握することができるため、乾燥を停止する時期を適宜判断することができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハ等の被乾燥物表面の水分を効率よく、かつ、再現性良く除去し、被乾燥物へのパーティクルの付着、および、ウォータマークや乾燥不良の発生を抑制することができ、且つ、装置のセットアップを容易に行うことのできる蒸気乾燥装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、水で洗浄された被乾燥物を有機溶剤の蒸気中に曝し、前記被乾燥物の表面で前記蒸気を凝縮させることにより、前記被乾燥物の表面に残留する水分を前記有機溶剤で置換した後に、前記被乾燥物の表面の前記有機溶剤を揮発させることによって、前記被乾燥物を乾燥する蒸気乾燥方法に用いられ、前記被乾燥物および前記蒸気を収容する処理槽と、該処理槽内に設置され、前記蒸気を前記被乾燥物の表面に導入するための孔を有する蒸気導入部材とを備えることを特徴とする蒸気乾燥装置である。 （もっと読む）

【課題】減容処理を無駄に長引かせたり処理不足状態で終了することをなくす。
【解決手段】生ごみ処理装置１は、生ごみを収容する処理槽３と、処理槽３内に収容された長石及びリン鉱石を含む鉱石系粉末からなる分解触媒２８と、処理槽３内に回転駆動されるように設けられ、その回転により前記生ごみ及び分解触媒を撹拌する撹拌体１１と、処理槽３内に熱風を供給する熱風供給装置４と、熱風を排気する排気ダクト２０、２１、２２と、処理槽３内の湿度を検知する湿度センサ２４と、湿度センサ２４による検知湿度が設定湿度以下となった後、検出湿度が別の設定湿度以上とならないままに所定時間が経過したときには生ごみ処理運転を停止する制御装置２７と、を具備してなる。 （もっと読む）

【課題】安定的にエネルギー効率が高い産業用加熱システムを提供する。
【解決手段】産業用加熱システムは、ヒートポンプ装置（１２）と、ボイラ及び電気ヒータの少なくとも１つを含む補装置（１３）と、ヒートポンプ装置及び補装置からの熱が対象物に伝わる加熱室（１６）と、少なくとも加熱室から回収された排熱を蓄え、ヒートポンプ装置に熱を供給可能な蓄熱装置（３０）と、制御装置（７０）とを有する。制御装置（７０）は、少なくとも蓄熱装置の蓄熱量に基づいて、ヒートポンプ装置及び補装置の稼働タイミング及び実質的な稼働時間を制御する。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れや汚染の発生を抑えつつ、被処理基板を乾燥することの可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】処理容器３１内では、被処理基板Ｗが縦向きの状態で液体内に浸漬されており、この液体を超臨界状態の置換流体により押し出して処理容器３１より排出する。しかる後、液体と置換された後の置換流体を処理容器３１から排出して当該処理容器３１内を減圧し、この置換流体を超臨界状態から気体に遷移させることにより被処理基板Ｗを乾燥する。 （もっと読む）

【課題】 連続式箱型乾燥機における乾燥室の投入口及び排出口からの室内気体の流出及び室内気体の熱の流出を防止することができるとともに、乾燥設備全体のエネルギー効率を向上することのできる、新規な連続式箱型乾燥機が具えられた乾燥設備の開発を技術課題とした。
【解決手段】連続式箱型乾燥機１における乾燥室１０内の室内気体Ｇ５を、乾燥室１０の外部に取り出すとともに昇温して循環気体Ｇ３とし、循環気体Ｇ３を乾燥室１０に戻すように構成された昇温循環機構３と、乾燥室１０内に換気用の外気Ｇ０を供給するための給気機構２とが具えられ、給気機構２は、乾燥室１０の室内気体Ｇ５の温度に対して±８０℃以内にまで昇温された外気Ｇ０を、乾燥室１０の外側から投入口１１及び排出口１２に指向させて噴出するとともに、この外気Ｇ０を乾燥室１０内に導入するように構成されたものであることを特徴として成る。 （もっと読む）

【課題】被処理基板への影響を低減しつつ良好な洗浄、乾燥処理を実行可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】基板処理装置２に設けられた洗浄槽２２１では、洗浄液供給部から洗浄液を供給しながら当該洗浄液に被処理基板Ｗを縦向きの状態で浸漬して洗浄が行われ、この洗浄槽２２１の上方領域と連通する乾燥室２１では、洗浄槽２２１から引き上げられた被処理基板Ｗの乾燥が行われる。そして、第１の乾燥ガス供給部及び第２の乾燥ガス供給部からは、洗浄後の被処理基板Ｗの上端が洗浄液の液面より上方に引き上げられた後、少なくとも被処理基板が晒される領域に、前記洗浄槽の上方領域から乾燥室内に至るまでの雰囲気に液体除去用の溶剤蒸気を含む第１の乾燥ガスと、前記溶剤蒸気を含まない第２の乾燥ガスとが交互に供給される。 （もっと読む）

【課題】処理材料の乾燥処理工程に要する熱エネルギーを従来よりも低減する。
【解決手段】乾燥処理装置１００は、処理材料を収容する密閉容器５を内部に収容可能であって、各接続装置１２〜１４と、密閉容器５の内部が窒素ガスで加圧されるように変更可能な窒素ガス置換ユニット１５と、密閉容器５の内部が真空状態になるように変更可能な真空引きユニット１６とを有する恒温室２と、恒温室２から外部に搬送された密閉容器５を冷却する冷却機構３とを備える。 （もっと読む）