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Fターム[4C082AG02]の内容

放射線治療装置 (15,937) | 出力照射線の制御 (1,370) | 放射線源 (489) | 出力(線量率)の制御 (180)

Fターム[4C082AG02]に分類される特許

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【課題】治療制御コンピュータによって制御される放射線治療装置を提供する。
【解決手段】線源であって、治療用の放射線のビームをビーム軸線に沿って放出することができ且つビーム軸線と実質的に一致する回転軸線を中心として回転することができ、これによって前記軸線を中心として弧を描く、線源と、ビームを所望の形状にコリメートするように構成された多分割コリメータと、線源の線量の率、線源の回転、および、前記多分割コリメータを制御することができる制御手段と、を有するタイプの放射線治療装置用の治療計画装置である。 (もっと読む)


【課題】被照射部よりも浅い位置にある組織に対するダメージを抑制して治療することができるボーラス、および粒子線照射装置を得ることを目的とする。
【解決手段】粒子線照射装置10に設置され、照射野内の粒子線Bのエネルギー分布を被照射部100TCに応じて変調するための変調部1cを備えたボーラス1であって、照射野内での変調部1cの粒子線Bの照射方向における水等価厚み分布が、被照射部100TCの粒子線Bの照射方向から見て浅部(Proximal)側の面(LP側のE1からE2までの部分)の形状または体表面からの深さ分布を補償するように設定されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】シンクロトロンからのイオンビームの出射制御の際、イオンビームのON制御時に出射ビーム電流波形のオーバーシュートを抑制することを課題とする。
【解決手段】イオンビームを加速して出射するシンクロトロンと、シンクロトロンから出射されたイオンビームを照射対象に照射する照射装置と、シンクロトロン及び照射装置を制御する制御装置を備え、照射装置は、通過するイオンビームを走査する走査電磁石及びイオンビームの線量を測定する線量モニタを有し、制御装置は、照射対象の各照射領域に対する目標線量値及び目標線量値よりも低い値である閾値を記憶し、線量モニタからの出力信号に基づく積算線量値が閾値になるまでの期間に、シンクロトロンから出射されるイオンビームの電流値を制御することによって、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】紫外線レーザを用いるタイプのX線発生装置は内視鏡に組み込んで生体内へ挿入可能であり、かかる使用時において安全性を確保する。
【解決手段】紫外線レーザ発生装置から放出される紫外線レーザを電子線放出素子103の紫外線レーザ受光面に照射し、電子線放出素子において紫外線レーザ受光面と異なる電子線放出面から放出される電子線を金属片104へ照射し、該金属片からX線を発生させるX線発生方法において、紫外線レーザとして、単位パルス強度を1000μジュール以下とし、単位パルスの幅を100ns以下のものを使用し紫外線レーザ受光面の物質の変性を防止する。電子線放出素子をアースすることによりX線の発生を停止できる。 (もっと読む)


【課題】現行のX線治療は、悪性腫瘍治療に有効であるが、同時に健常部まで損傷し、多くの副作用が伴う。体内透過性が10〜20mm程度のエネルギーのX線を悪性腫瘍の直近傍で発生させ、Pin-pointで治療する手段が要求されている。
【解決手段】レーザーを細い可撓型パイプ内部や光ファイバー内を通して腫瘍患部の直近傍で集光して固体の表面に高温プラズマを生成してX線を発生させることはよく知られているが、本発明では 1.真空中ではなく大気中で生成可能、2.レーザー光の進行方向に強いX線発生が可能、3.光の進行方向に強い指向性をもっていることを特色とし、小型軽量で悪性腫瘍により有効にPin-point治療を可能にすることができる。 (もっと読む)


【課題】線量分布の一様度が向上した治療計画データを作成する粒子治療計画装置を提供することを課題とする。
【解決手段】粒子線治療を行うための治療計画データを作成する治療計画装置において、患者の患部(標的)を含む複数枚の断層画像から標的の動きを抽出し、これを走査電磁石の走査面内に射影することで、走査方向を定める。この走査方向に平行な直線上に照射位置を配置することで、標的方向に主な走査を行う走査経路が算出でき、上記課題を解決することができる。 (もっと読む)


【課題】一台のシンクロトロンからビームロスなく同時に二本以上の輸送ラインに出射ビームを供給し、ビーム利用要求に合わせて、単位時間当たりのシンクロトロンの利用効率を上げる。
【解決手段】本発明に関わるビーム出射装置は、粒子ビームがベータトロン振動しながら周回するシンクロトロン1と、該シンクロトロン1に備えられ粒子ビームをその進行方向と平行な縦方向高周波電場を印加することによって加速または減速する高周波加速空洞3と、シンクロトロン1に接続されシンクロトロン1から出射される粒子ビームが輸送されるビーム輸送ライン2とを備えるビーム出射装置Rであって、シンクロトロン1内を所定の定常状態で周回する前記粒子ビームに対して高周波加速空洞3による縦方向高周波電場の位相を180度ずらすように制御し、シンクロトロン1から出射される粒子ビームの運動量と出射角度を二極化する制御手段を備える。 (もっと読む)


【課題】スポット切替の安定性・確実性を有するとともに、スポットの切替指示の出力遅延を短縮してスポット切替の高速化を実現する粒子線照射技術を提供する。
【解決手段】粒子線照射装置10において、自然数mで表される被検体内の複数の第mスポットの各々に対応するパラメータを蓄積する蓄積部21と、各々の前記パラメータを目標として偏向磁場付与手段12に出力する電流を切り替えて前記複数の第mスポットに対し荷電粒子線を順番に入射させる励磁部30と、第m−1スポットに入射した荷電粒子線の線量が規定値に達したところで第1信号s1を出力する線量積算部14と、前記第1信号s1の出力に同期して蓄積部21から第m+1スポットに対応する前記パラメータを取得する取得部22と、先に取得部22で取得されている第mスポットに対応する前記パラメータを第1信号s1に同期して励磁部30に出力する切替指示部23と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ターゲットにおける熱応力の発生を抑制することが可能な荷電粒子の照射制御装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る荷電粒子の照射制御装置100は、荷電粒子Pの照射を受けて中性子nを発生する物質からなるターゲット38に対して、当該荷電粒子の照射制御を行う照射制御装置において、荷電粒子Pを偏向させる偏向手段110,120と、偏向手段110,120を制御して、荷電粒子PのビームBpをターゲット38の照射面38a上で周回移動させる制御手段130と、を備える。 (もっと読む)


【課題】粒子治療計画装置において標的領域外の高線量領域の出現を抑制する治療計画情報を提供することにある。
【解決手段】粒子線を照射する標的となる標的領域を入力する標的領域入力手段302と、標的領域を包含するように設定された照射領域の内部において粒子線を照射する照射スポットを決定する演算装置305を備え、演算装置305が照射領域の輪郭上に前記照射スポットを配置し、かつ、隣り合う照射スポットの間隔が予め定められた設定値以下となるように、照射スポットを決定する。このように粒子線の停止位置近辺の標的領域形状を抽出し、この形状内に一様な高線量領域が形成されるようにスポット間隔を領域内の位置に依存して変化させることで、標的領域での粒子線の照射線量が一様となる高線量領域と標的領域との乖離を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】取り出される荷電粒子ビームの線量を一定に保つことが可能な粒子線照射システムを提供する。
【解決手段】粒子線照射システム1Aにおいて、シンクロトロン40を駆動制御する加速器制御部71及びRF−KO電極駆動装置80Aは、RF−KO電極45の駆動を停止したまま、シンクロトロン40を駆動し、続いて、RF−KO電極45に対して、第一のRF−KO信号をRF−KO電圧として印加し、続いて、RF−KO電極45に対して、第一のRF−KO信号と、第二のRF−KO信号と、をRF−KO電圧として印加するとともに、シンクロトロン40から取り出された荷電粒子ビームの線量に基づくRF−KO電圧に関するフィードバック制御を開始し、当該フィードバック制御のゲインをゼロから所定値まで連続的に上昇させ、続いて、RF−KO電圧に関するフィードバック制御を、当該フィードバック制御のゲインを所定値としたまま行う。 (もっと読む)


【課題】粒子線治療装置におけるIMRTの過照射問題を解決することを目的としたものである。
【解決手段】荷電粒子ビーム1を走査する走査照射系34と、荷電粒子ビーム1のブラッグピークを拡大し、柱状の照射野を生成する柱状照射野生成装置4とを備えた粒子線治療装置に対する治療計画を作成する治療計画装置であって、荷電粒子ビーム1が照射される照射対象40のディスタル形状に応じて柱状の照射野44を配置するとともに、照射対象40の内側に柱状の照射野45を敷き詰めて配置する照射野配置部と、照射野配置部により柱状の照射野44、45が敷き詰められた状態を初期状態として、照射対象40への照査線量が所定の範囲に入るように柱状の照射野44、45の配置を調整する最適化計算部とを有する。 (もっと読む)



【課題】スポットスキャン法による粒子線治療において、照射時間を短縮可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム照射システム100は荷電粒子発生装置200とビーム輸送系300と照射装置500から構成される。制御装置600は、照射装置500内のビーム位置計測装置53から得られた出力から照射区画の照射完了毎にビーム位置・幅を演算する。制御装置600はその演算中にも次の照射区画への照射を続行する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、信号にノイズが入力された場合、測定した線量値が変化して差動増幅器に治療計画に適うビーム強度値との正確な差分値を出力することができないという問題を解消できるフィードバックシステムを提供することを課題とする。
【解決手段】本発明のフィードバックシステム1は、イオンビーム照射装置100から照射されるイオンビームの線量を測定する線量測定部10と、線量測定部10から出力される信号が入力され、線量の値に対応する周波数に変換して出力する周波数変換部20と、周波数変換部20から入力される所定時間あたりの周波数をカウントし、そのカウントされた所定時間あたりの周波数に対応するカウント値を出力するカウンタ部30と、ビーム強度値と指令値との差分値を求めて、差分値をRF―KO電極間の印加電圧を制御するRF―KO電極コントローラに出力する差動増幅部40と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、照射されるべき標的体積に線量分布を蓄積する照射装置であって、標的体積を照射するための粒子ビームを提供する加速装置と、照射装置が作動してきるときに、粒子ビームが引き続いて所定の走査体積中の異なる点に向けられ、それにより走査体積にわたる走査が行われるように、粒子ビームのビーム特性を変更する走査装置と、を備える照射装置に関する。走査装置は、標的体積とは無関係に設定される固定の走査経路に沿って走査体積を走査し、粒子ビームが走査経路に沿って走査される間に、粒子ビームの強度を調節することにより、標的体積に蓄積されるべき線量分布を調整するように構成される。本発明はさらに、照射装置に対応する照射方法に関する。
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磁気共鳴画像(MRI)システムは、ギャップにより分離するMRIマグネットハウジングの対を有する分割磁気システムを含む。メインMRIマグネットの対は、個々のMRIマグネットハウジング内部に配置される。複数の強化アセンブリはMRI磁気ハウジングに付属する。強化アセンブリの一部若しくは全部は、MRIマグネットハウジングと取外し自在に接続し得る。このことにより、MRIシステムを再配置するための輸送性及び操縦性を改良するべくMRIシステムの部分的な分解が可能となる。MRIシステムは、放射線治療システムを支持するための、ギャップ内のガントリを含み得る。更に、取外し自在の強化アセンブリは、MRI磁気ハウジングの対の間で、電気コンジット及び流体管などの、コンジットを収容するために用いられてもよい。
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【課題】粒子線ビーム形状の劣化を低く抑えつつ、簡素な構成でスキャン時の線量2次元分布を測定し表示することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームを生成するビーム生成部と、粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、粒子線ビームを2次元走査するビーム走査部と、複数の第1の線状電極が第1の方向に並列配置され、複数の第2の線状電極が第1の方向と直交する第2の方向に並列配置されるセンサ部と、各第1の線状電極から出力される第1の信号と、各第2の線状電極から出力される第2の信号とから粒子線ビームの重心位置を算出し、重心位置の周辺の粒子線ビームの2次元ビーム形状を求めるビーム形状算出部と、2次元ビーム形状を累積記憶する記憶部と、2次元ビーム形状を線量の2次元分布として表示する表示部と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い信頼性でビーム毎の線量を計測すると共に、瞬間的なビーム出射による漏れ線量に対しても高い感度で計測することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームの出射と停止を制御する出射制御部と、患部に対する前記粒子線ビームの照射位置を順次変更する制御部と、患部に向けて照射される粒子線ビームの線量率を測定する第1、及び第2の線量計と、第1、及び第2の線量計から出力される線量率を所定の判定期間毎に累積して第1、及び第2の区間線量測定値を夫々求め、第1の区間線量測定値が予め定められた第1の基準範囲を超えた場合、及び、前記第2の区間線量測定値が予め定められた第2の基準範囲を超えた場合の少なくとも何れかの場合に、異常有りと判定する第2の異常判定を行い、粒子線ビームの出射を停止させるインターロック信号を出力する異常判定部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】水ファントムのアライメント作業が不要な放射線強度分布測定方法を提供する。
【解決手段】放射線場の基準座標系を示す指標を検出するアライメント測定ユニットを3次元スキャナ300に装着し、3次元スキャナ300を走査しながら指標の位置を検出する指標検出ステップと、検出した指標の3次元スキャナ300の走査座標上の位置に基づき、基準座標系に変換する変換式を生成する変換式生成ステップと、基準座標系により記述された3次元スキャナ300の移動目標を取得する移動目標取得ステップと、変換式に従って取得した移動目標を走査座標系の移動目標に変換する移動目標変換ステップと、放射線検出器を3次元スキャナ300に装着した状態で変換した移動目標に従って3次元スキャナ300を走査しながら放射線強度分布を測定する放射線測定ステップとで構成し、3次元スキャナ300の位置精度を向上させる。 (もっと読む)


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