【課題】ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるＬＰＰ方式のＥＵＶ光源とその発生方法を提供する。
【解決手段】所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェット内の所定の集光点２にレーザー光３を集光して照射するレーザー装置１６と、集光点を透過したレーザー光３を反射して再度同一の集光点に集光して照射する再集光装置２０と、を備え、集光点２においてレーザー光３によりターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。 （もっと読む）

【課題】励起状態を経てターゲットをイオン化する場合でもターゲットの高いイオン化効率を実現する。
【解決手段】イオン化レーザ装置１は、ターゲットＴｓｎを励起させる第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２を出力する第１、第２レーザ１０２、２０２と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２の絶対波長を検出する第１、第２絶対波長検出器１１０、２１０と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２により励起したターゲットＴｓｎをイオン化する第３レーザ光ＬＳ３を出力する第３レーザ３０２と、第３レーザ光ＬＳ３の絶対波長を検出する第３絶対波長検出器３１０と、第１〜第３レーザ光ＬＳ１〜ＬＳ３の絶対波長に基づいて第１〜第３レーザ１０２〜３０２を制御するイオン化レーザコントローラ１０および第１〜第３コントローラ１０１〜３０１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるＬＰＰ方式のＥＵＶ光源とその発生方法を提供する。
【解決手段】所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェットにレーザー光３を集光して照射するレーザー装置１６と、を備え、レーザー光の集光点２においてターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。 （もっと読む）

【課題】光電子やプラズマを発生させることなく光電界電離現象を利用し電子を放出させる電子発生技術を採用することにより、レーザー装置を小型化および低コスト化するとともに、電極の熱エネルギーによるダメージを軽減してデブリの発生を抑制することを可能にしたＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザー光２を出射するレーザー光源１と、パルスレーザー光２が照射されることにより電子を放出する陰極４と、陰極４から放出した電子６が加速されて衝突することによりＸ線９を放出する陽極５と、 陰極４および陽極５を収容する真空容器７と、を備えるＸ線発生装置において、レーザー光源１は、パルス幅が１０^−１２秒以下のパルスレーザー光２を出射し、陰極４から光電界電離により電子を放出させることを特徴とするＸ線発生装置である。 （もっと読む）

【課題】電子ビームの焦点のサイズ及び焦点の位置を制御でき、電子ビームの照射におけるボケを防ぎ且つコンパクトなサイズのＸ線管を提供する。
【解決手段】コイルフィラメント１１１と、アノード１０２と、電子ビームの経路上に孔を備えたコイルフィラメント１１１を収納するウエネルト１１２と、ウエネルト１１２の開口に設けられたアパーチャ１１３と、電子ビームの経路を挟んで所定方向に相互に対向して溝の開口の近傍に配置された１対のＸエレクトロード１１４と、所定方向に直交する方向に相互に対向し且つＸエレクトロード１１４と同一面上に配置された１対のＹエレクトロード１１５と、を備え、Ｘエレクトロード１１４の電圧及びＹエレクトロード１１５の電圧を制御することにより、照射領域のサイズの変更、及び電子ビームの経路の移動を制御する。 （もっと読む）

【課題】 水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れた熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保守方法を提供する。
【解決手段】 熱移動システムは、水系冷却液Ｌを収容し、密閉された冷却流路３と、水系冷却液を収容し、気密性を保持可能である循環流路３０と、循環ポンプ１００と、水系冷却液と接触分離されることにより区域され不活性ガスが満たされた少なくとも１つのガス充満領域８２と、導入口８３と、排出口８４とを有した容器と、第１開閉部と、第２開閉部とを備えている第１開閉部は、ガス充満領域８２に不活性ガスを導入可能な開状態と、容器の気密性を保持可能な閉状態とに切替え可能である。第２開閉部は、ガス充満領域８２から外部にガスを排出可能な開状態と、容器の気密性を保持可能な閉状態とに切替え可能である。 （もっと読む）

【課題】高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。
【解決手段】このドライバレーザシステムは、ＭＯＰＡ（master oscillator power amplifier）方式に従って構成されたレーザシステム３であって、単一のレーザ発振器３０１においてレーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数の放電励起式ガスレーザ増幅系３０４（１）及び３０４（２）並びに３０５（１）及び３０５（２）において該レーザ光を増幅するレーザシステム３と、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステム３の動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置４とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源装置において、光学素子及びその他の構成要素がデブリで汚染または損傷されることを抑制し、これらの長寿命化を実現する。
【解決手段】チャンバ内においてターゲット物質のプラズマを発生させることにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置１であって、ターゲット物質に第１レーザ光３４を照射することによりプリプラズマを発生させる第１レーザ部と、プリプラズマに第２レーザ光３５を照射することにより極端紫外光を発生するメインプラズマを発生させる第２レーザ部と、チャンバ内に磁場Ｂを発生させてプリプラズマ及びメインプラズマの内の少なくとも１つの状態を制御する磁場発生部と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ光源のチャンバ装置において、ターゲット噴射ノズルから噴射される液滴ターゲットの噴射方向が所定の噴射方向から傾いた場合でも、ターゲット噴射ノズルの位置又は角度を調整してＥＵＶ光の安定供給を維持することができるターゲット軌道計測及び制御装置を提供する。
【解決手段】この装置は、ターゲット噴射ノズルの位置と角度との内の少なくとも一方を調整するノズル調整機構と、ターゲット軌道を計測することにより、ターゲット軌道に関する軌道情報を取得するターゲット軌道計測部と、軌道情報によって表されるターゲット軌道と所定のターゲット軌道との間の角度偏差に関する値を求めるターゲット軌道角度検出部と、角度偏差に関する値に基づいて、液滴ターゲットが所定のレーザ光照射位置を通過するようにノズル調整機構を制御するノズル調整コントローラとを含む。 （もっと読む）

【課題】プラズマ温度、密度を簡便に制御して、発光効率を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】レーザー光（６ａ）を照射するレーザー光源（６）と、前記レーザー光源（６）からのレーザー光（６ａ）が照射されて励起され、プラズマを生成して極端紫外光を放射するターゲット材（Ｔ）であって、第１の元素と、波長２００ｎｍ以下の領域において前記第１の元素のスペクトル分布のスペクトル強度が最も強いスペクトル成分を含み且つ最も強いスペクトル成分におけるスペクトル分布の波形の半値全幅よりも広い半値全幅のスペクトル分布を有する第２の元素と、を少なくとも含む多元系の前記ターゲット材（Ｔ）と、を備えた極端紫外光源（１）。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線管の内部に電磁漏洩のない小型高圧電源を設置することによって電子ビームの照射位置に影響を与えることなく安定したＸ線発生位置を実現したＸ線発生装置を提供することにある。
【解決手段】入力される交流あるいは直流の電力を１０−２００ｋＨｚの高周波交流電力に変換する駆動回路と該変換された前記高周波交流電力を熱発生や電磁放射ノイズを抑制して昇圧する並列に設けられた複数の圧電昇圧トランスと該各々昇圧された交流電力を整流して３０−１００ｋＶの高電圧を得てＸ線管に負荷する複数の電圧昇圧用整流回路とを有する小型高圧電源を前記Ｘ線管の内部に設置することを特徴とする。 （もっと読む）

一部の態様によれば、画像化および／または放射線治療のためのＸ線装置が提供され、このＸ線装置は、電子を発生させることが可能な電子源と、電子源からの電子を受け取るように配置構成され、電子を照射されることに反応して広域スペクトル放射Ｘ線を放出する材料を含む、少なくとも１つの第１ターゲットと、この広域スペクトル放射Ｘ線の少なくとも一部を受け取るように配置構成され、第１ターゲットからの広域スペクトル放射Ｘ線による照射に反応して、単色放射Ｘ線を放出する材料を含む、少なくとも１つの第２ターゲットと、この少なくとも１つの第２ターゲットから放出される単色放射Ｘ線の少なくとも一部を検出するように配置される、少なくとも１つの検出器とを含む。一部の態様によれば、医療／臨床目的に好適で、病院および／または小さな臨床設定などの既存の医療施設での使用に適した、単色放射Ｘ線を発生させるための、比較的低コストで、比較的占有面積の少ないＸ線装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ ＥＵＶ光源の作動プロセス中に生成される微粒子及びデブリをより良好に制御すること。
【解決手段】集光ミラーと、ターゲット材料経路に沿って複数の液滴を排出するように位置合わせされた液滴出口を有する液滴生成システムと、第１の捕集部とを含み、第１の捕集部は、ターゲット材料経路と実質的に位置合わせされた第１の開放端部と、第１の捕集部の第２の端部の方向に向かう少なくとも１つの内表面とを含み、第２の端部は第１の開放端とは反対側にある、極紫外光チャンバ内で極紫外光を生成するシステム及び方法。 （もっと読む）

【課題】より広い制御範囲を持ち、Ｘ線出力を最大限に取り出すことができるＸ線発生装置、およびそれを備えたＸ線撮影装置を提供する。
【解決手段】ダイオードＤ３，トランジスタＱ，および抵抗Ｒ２を図２のような関係で接続することにより、流入する管電流Ａの量にかかわらずＸ線管のカソード電極３ａの電位は設定電圧近傍に保たれる。また、設定電圧が０Ｖ近傍まで制御することが可能となるため、Ｘ線管の制御範囲が拡大し、Ｘ線出力を最大限に取り出すことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、信頼性があり、繰り返し速度が高く、製造ラインと相性の良い高エネルギー光子源を提供する。
【解決手段】活性材料を含む非常に高温のプラズマを真空チャンバで生成する。この活性材料は、望ましい極紫外線（ＥＵＶ）範囲内に輝線を有する原子である。充電コンデンサと、パルス変換器を備えた磁気圧縮回路とを具備したパルス電源は、中間焦点でのＥＵＶ光を５ワットを超える率で生成できるだけのエネルギーと電位を有する電気的パルス提供する。出願人が設計した好適な実施形態では、中間焦点における帯域内ＥＵＶ光エネルギーは４５ワットで、更に１０５．８ワットまで拡大可能である。 （もっと読む）

【課題】イオン回収装置のイオン衝突面および／またはイオン衝突面に堆積した物質のスパッタリングによる再拡散を防止することができる極端紫外光光源装置を提供する。
【解決手段】ターゲットである溶融ＳｎのドロップレットＤにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、前記イオンを回収するイオン回収筒２０を設け、イオン回収筒２０のイオン衝突面Ｓａ，Ｓｂに、前記イオンによるスパッタ率が１原子／イオン未満となる金属であるＳｉを配置またはコートする。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの無駄な消費を抑えることができるターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】ノズル３１から出力される液状の溶融ターゲット材である溶融錫３４を蓄えるタンク３０内のガス圧を圧力調整器４１が備えつけられたガスボンベ４０から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置１は、一端が前記タンク３０に接続され、他端が排気口Ｌａを形成するガス流路Ｌ２と、ガス流路Ｌ２上に設置したバルブ４３と、溶融錫３４をノズル３０から出力させない場合、バルブ４３を開にしてタンク３０内を減圧するコントローラ６０と、を備え、ＥＵＶ光を出力させない場合、ターゲット１３の供給を停止または供給速度を減速することで、溶融錫３４の消費を抑える。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを加圧する圧力の変動を１ｋＰａ未満に抑えて、極端紫外光を反射集光する位置の変動による露光ムラを起こさないターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】ノズル３１から出力される液状のターゲット物質である溶融錫３４を蓄えるタンク３０内のガス圧を圧力調整器４１が備えつけられたガスボンベ４０から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置１は、前記ガスボンベ４０から供給されるガスを前記タンク３０へ導入するガス流路Ｌ１と、前記ガス流路Ｌ１上に配置されてガス流路Ｌ１を流れるガスの圧力を調整し、圧力調整器４１よりも高精度の圧力調整が可能な圧力コントローラ５１と、を備える。 （もっと読む）

自己クリーニングＸ線窓構成体は、中間の領域から周囲の圧力の領域を分離している第１のＸ線透過窓要素と、減圧の領域から中間の領域を分離している第２のＸ線透過窓要素とを有する。汚染物質は、減圧の領域に面している第２の要素の側面に沈着することが予測される。熱源は、汚染物質を蒸発するために第２の窓要素の一部分を加熱する。第２の要素は、汚染物質が存在する減圧の領域から第１の要素を防護する。圧力気密性の第１の窓要素は、周囲の圧力の領域と減圧の領域との間の大きな圧力差の大部分を支える。本発明の特徴は、汚染物質が中間の領域に侵入する比率を減少することに役立つ。減圧の領域に近い中間の領域の圧力を維持することによって、第２の窓要素の機械的応力は、有毒ガスへの照射と同様に制限され得る。
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【課題】ＥＵＶ光発生チャンバ内に設置されたレーザ光集光光学系の光学素子の劣化を確実に検出して、的確な劣化判定を行えるＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光発生チャンバ２と、ターゲット物質供給部と、ＥＵＶ光集光ミラー８と、ドライバーレーザ１２，１３と、ウインドウ６（１）（２）と、コリメートされたレーザ光を反射して集光するＥＵＶ光発生チャンバ内に配置された放物面鏡４３（１）（２）と、ＥＵＶ光の発生が行われないときに、レーザ光集光光学系によって集光された後にターゲット物質に照射されることなく発散したレーザ光のエネルギーを検出するエネルギー検出器３５（１）（２）と、エネルギー検出器によって検出されたレーザ光のエネルギーに基づいてウインドウ及び放物面鏡の劣化を判定する処理部８０とを具備する。 （もっと読む）