【課題】Ｘ線源における線質と照射位置の選択の自由度を増すことで、低線量で高コントラストのＸ線画像を高速に得ることを可能とする。
【解決手段】２次元に配置された複数の電子源と、それらに対向する位置に配置されたターゲットとを備えたマルチＸ線発生装置は、複数の電子源を含み、供給された駆動信号に応じて、複数の電子源を選択的に駆動して駆動された電子源から電子を出力するマルチ電子源と、マルチ電子源から出力された電子の照射に応じてＸ線を発生する複数のターゲットを含み、Ｘ線の発生個所に応じて異なる線質のＸ線を出力するターゲット部とを有し、マルチ電子源における電子源の選択的な駆動により、ターゲット部からのＸ線の発生個所と線質が制御される。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線タルボ・ロー干渉計による高感度Ｘ線撮像法において、マルチスリットの設置を省略できるＸ線源及びそれを用いたＸ線撮像装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線源１０は、基板１１と、複数のストライプ部１２とを備える。複数のストライプ部１２は、基板１１の表面上に配置されている。かつ、複数のストライプ部１２は、互いに間隔を置いて配置されている。さらに、複数のストライプ部の配置間隔ｄ_ｓは、ほぼ一定とされている。基板１１又はストライプ部１２のうちのいずれか一方は、励起ビームの照射によって必要量のＸ線を発生する金属とされている。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線撮影において画像の鮮鋭度を低下させることなくＸ線発生における大電流化を達成する。
【解決手段】複数の電子放出素子を有し、駆動された電子放出素子に対応した電子線を発生する電子線発生部と、電子線発生部で発生した電子線の照射位置をＸ線焦点としたＸ線を発生するターゲット電極とを有するＸ線発生装置において、上記複数の電子放出素子の駆動を個別に制御することにより、ターゲット電極における、Ｘ線焦点の集合によって形成されるＸ線焦点形状が制御される。 （もっと読む）

本発明は、真空チャンバ（５０）と、光波（５６ｉ）を入射させるための手段（５６ｈ）と、電界を受けたときに電界放出現象によって真空内で電子（５２ｉ）を放出することができる冷電子源（５２）と、高電圧を供給する電源（５５）と、電子衝撃の効果によりＸ線（５３ｉ）を放出できる材料（５３ｊ）を含む陽極（５３）と、Ｘ線が出る際に通過する少なくとも１つの窓（５４）と、前記光波を供給する少なくとも１つの光源（５６）と、を備える放射線源であって、冷電子源はまた、少なくとも１つの導電表面（５５）を有する少なくとも１つの基板（５７）を備え、少なくとも１つの導電表面（５５）と陽極（５３）との間に高電圧が印加されることによって生じる電界を受け、前記冷電子源は、電流が照明によって略線形に制御される少なくとも１つの光導電素子（５８）と、少なくとも１つの電子放出素子（５９）とをさらに備え、前記光導電素子（５８）は、少なくとも１つの放出素子（５９）と導電表面（５５）との間に直列に電気接続されて、光導電装置の中で光発生された電流が、それが関連付けられるエミッタまたはエミッタの集合によって放出される電流と等しくなり、放出されたＸ線の流れが、照明に略線形に依存することを特徴とする放射線源に関する。 （もっと読む）

【課題】１次Ｘ線の混入がほとんどない単色Ｘ線を発生させることができ、しかも放熱性に優れているため、大強度のＸ線を発生することができるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】放熱性に優れた回転陽極のエッジ付近１次ターゲット層と２次ターゲット層を重ねて設置する。２次ターゲットで発生した特性Ｘ線は、回転陽極に近接したスリット２０より、ベリリウム層３０を介して電子ビームに対して垂直方向に取り出す。１次Ｘ線は、１次ターゲット層と、遮蔽材によって吸収されスリット２０からは、射出されない。 （もっと読む）

本明細書では、発振器キャビティ長Ｌ₀を有して発振器経路を定める発振器と、発振器経路を含んで長さＬ_combinedを有する結合光キャビティを確立するために発振器に結合された多重通過光増幅器とを含むことができる装置を説明し、ここで、Ｌ_combined＝（Ｎ＋ｘ）×Ｌ₀であり、「Ｎ」は整数、かつ「ｘ」は、０．４と０．６の間の数である。 （もっと読む）

印加された軸方向磁場を含めることのできる自己磁場閉じ込め型リチウムプラズマが、二酸化炭素レーザによって亜臨界密度において照射されて、１３．５ｎｍの波長で極紫外光子を高効率、高出力、かつ小型光源で生成する。
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【課題】より大きい線量の放射線を放射すること。
【解決手段】荷電粒子を加速する加速装置と、その荷電粒子が照射されることにより放射線を放射するターゲット５２とを備えている。このとき、ターゲット５２は、平坦でなく曲面であり、かつ、縁７３が平面７２上に配置される部分を含んでいる。このようなターゲット５２は、平坦であるターゲットに比較して、その荷電粒子が照射される部分の面積が大きく、その部分の単位面積当たりの発熱を低減することができる。このとき、装置は、ターゲット５２に照射する荷電粒子の線量を増加させることができ、放射する放射線の線量を増加させることができる。 （もっと読む）

【課題】実用上十分な強度のＸ線を発生し得る、異極像結晶を用いたＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】内部に高真空または低圧ガス雰囲気を維持する容器１と、容器内に配置された異極像結晶４と、異極像結晶の温度を昇降させる温度昇降手段３、５〜７と、容器内における温度昇降手段によって熱励起された異極像結晶から生じる電界の到達範囲内に配置され、異極像結晶からの電子線の照射を受けるＸ線発生用金属ターゲット８を備える。金属ターゲットは、異極像結晶から間隔をあけてこれに対向して配置されるとともに、異極像結晶に向かってのびる先の尖った突起を少なくとも１つ有し、突起の先端部において異極像結晶から生じる電界の強度が増大する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線撮像において、最も適したエネルギーの特性Ｘ線を従来のＸ線に付加できるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】従来と同様のターゲット（１次ターゲット層）の内側にＸ線撮像に最も適したエネルギーの特性Ｘ線を発生する原子を含む２次ターゲット層を配置する。従来の装置では、１次ターゲット層で発生する１次Ｘ線のうち、被検体と逆方向に放射されるものは無駄になっていたが、そのＸ線が２次ターゲット層で光電効果を起こし、最もＸ線撮像に適したエネルギーの特性Ｘ線を発生する。この特性Ｘ線は、１次ターゲット層を透過して被検体方向に射出される。 （もっと読む）

閉ループ流路を形成する封入構造体と、流路と流体連通することができるプラズマ部位でプラズマを発生させるシステム、例えば、レーザ生成プラズマシステムとを含むことができる装置及び対応する使用方法を本明細書で説明する。この装置に対して、ガスは、イオン阻止緩衝ガス及び／又はエッチャントを含むことができる封入構造体に配置することができる。ポンプを設けて、閉ループ流路を通してガスを押し進めることができる。流路を流れるガスから熱を除去する１つ又はそれよりも多くの熱交換器を設けることができる。一部の構成では、フィルタを使用して、流路を流れるガスからターゲット種の少なくとも一部分を除去することができる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高強度のＸ線を発生することができるＸ線発生装置及びその方法を提供すること。
【解決手段】Ｘ線発生方法は、加速装置を用いて電子を加速して電子ビーム（ｅ）を形成する第１ステップと、平板状のターゲット（Ｔ）の表面から１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の距離で、ターゲット（Ｔ）の表面に平行に、電子ビーム（ｅ）を通過させる第２ステップとを含み、
ターゲット（Ｔ）の少なくとも表層部が、電子ビーム（ｅ）との相互作用により分極して遷移放射によるＸ線（Ｘ）を発生し易い物質で形成されていることを特徴とするＸ線発生方法。 （もっと読む）

【課題】コレクタミラーの変形および劣化を防止することができる極端紫外線を生成するモジュールおよび方法を提供する。
【解決手段】極端紫外線を生成するモジュール（１）は、点火物質の小滴を所定のターゲット点火位置に供給する供給源と、所定のターゲット点火位置に焦点が合わされ、所定のターゲット点火位置に配置されるそのような小滴（４）に衝突することによりプラズマを生成して小滴を極端紫外線生成プラズマに変化させるレーザ（６）とを含む。さらに、このモジュールは、極端紫外線を反射して極端紫外線を焦点（ＦＰ）に合わせるミラー面（１４）を含むコレクタミラー（１２）を含む。流体供給源（２）は、ミラー面に対して横断方向においてミラー面から離れるように流れるガス流（ＧＦ）を形成してプラズマによって生成された粒子デブリを軽減する。 （もっと読む）

【課題】外囲器を回転させるモータの容量を抑えることができ、簡易な構造で、かつ流体の流路を確保して流体を効率的に移送させることができるＸ線管装置を提供することを目的とする。
【解決手段】外囲器２外部である両側面部の回転軸７、８の同軸上にそれぞれ保持された２つの円板１７を備え、冷却用流体である絶縁油１６の粘性により円板１７が回転軸７、８に対して相対的に回転するように構成する。絶縁油１６の粘性により円板１７が回転するので、外囲器２とハウジング２０との間に介在する円板１７が介在することにより相対速度を分割させて、外囲器２を回転させるモータの容量を抑えることができる。また、回転軸７、８を除けば回転する部分は側面部の円板１７のみであるので、簡易な構造で、絶縁油１６の流路を確保して絶縁油１６を効率的に移送させることができる。 （もっと読む）

【課題】理論値と同じ強度又はそれに近い強度であり、円錐状に放射されるＸ線又はＥＵＶ光を得ることができるターゲットユニット、電磁波発生装置及びその方法を提供すること。
【解決手段】曲線軌道の電子ビームが照射されて遷移放射又はパラメトリック放射を生じるターゲットユニットであって、電子ビームとの相互作用により遷移放射又はパラメトリック放射を発生し易い物質を有する、平板状のターゲット（Ｔ）と、ターゲット（Ｔ）の両端を、それぞれ保持する第１保持部（Ｍ１）及び第２保持部（Ｍ２）とを備え、第１保持部（Ｍ１）及び第２保持部（Ｍ２）の少なくとも一方が、ターゲット（Ｔ）中の、電子ビームが照射される領域（Ａ）において、曲線軌道を形成するための第１磁場（Ｈ）を打ち消す第２磁場（Ｈ１）を生成する。 （もっと読む）

【課題】 ＬＰＰ方式のＥＵＶ光発生装置で固体ターゲットに高出力のレーザ光を高繰り返し周波数で長時間照射した場合であっても、長時間、安定して高出力のＥＵＶ光を連続して得られるようにする。
【解決手段】 ターゲット供給装置２０には、再生機構３０と送り機構４０と冷却機構５０が設けられている。冷却機構５０は、ターゲット１を、ターゲット１の材料となる金属の融点よりも低い温度になるまで冷却する。送り機構４０は、ＥＵＶ光発生点Ａを通過したターゲット１を再生機構３０を介して冷却機構５０に送るとともに、冷却機構５０を通過したターゲット１を再びＥＵＶ光発生点Ａに送る。 （もっと読む）

【課題】内視鏡で直接検査対象１４を特定し、この特定に基づいて検査対象１４に直接Ｘ線を照射することにより検査対象１４内部を検査可能として検査不要箇所への被曝をなくし、かつ、高精度な検査を可能とした内視鏡式Ｘ線装置を提供すること。
【解決手段】真空管管壁にＸ線透過可能な薄膜からなるＸ線導出窓７を備え、真空管内部にＸ線発生手段（軸状陽極３７、環状陰極３９、電子遮蔽部材５１）を備えると共にこのＸ線発生手段が発生したＸ線をＸ線導出窓７から窓外前方へ照射するＸ線管３と、Ｘ線照射方向のＸ線照射領域内を撮影可能にＸ線管３に一体固定された内視鏡５と、を備え構成。 （もっと読む）

【課題】 有害なデブリの生成が低減可能である放射源を提供することである。
【解決手段】 放射を発生させるように構成されたデバイスは、液体浴と一対の電極を含む。電極のうち一方の少なくとも一部は、液体浴に対して可動であるケーブル部によって形成される。デバイスは更に、ケーブル部を液体付着位置から点火位置へ移動させるように構成されたアクチュエータと、ケーブル部が点火位置にある場合に、電極間の放電によって、ケーブル部に付着した液体から放電生成放射プラズマをトリガするように構成された点火源とを含む。液体付着位置は浴からの液体を電極の一部に付着させる位置である。
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【課題】Ｘ線ビームを形成する小型かつ軽量のＸ線ビーム源を得る。
【解決手段】Ｘ線ビーム源１３は、絶縁材１に挿入され電圧を印加する導入線２と、導入線２の一端に設けられた陰極と、陰極と対面して設けられ発生した電子ビームを衝突させてＸ線を発生させる陽極であるターゲット６と、導入線２、陰極及びターゲット６を収納しＸ線が通過するＸ線透過窓５を有する真空容器７と、Ｘ線透過窓５の外側に設けられＸ線から特性Ｘ線を選択的に取り出すフィルタ８と、真空容器７及びフィルタ８を収納するハウジング１０と、ハウジング１０に設けられ特性Ｘ線を収束するＸ線集光素子であるフレネルゾーンプレート（ＦＺＰ）９と、を有する。 （もっと読む）

電子装置のエンクロージャ内にある生物学的病原体を除去する方法を提供する。その方法は、電気装置のエンクロージャを覆うように用いられる材料を特定する段階と、エンクロージャを覆う材料を透過するようにＸ線放射を調整する段階と、電子装置の方に拡散放射角度を有するＸ線放射を方向付ける段階と、を有する。
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