【課題】極端紫外光の生成において変換効率を向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成方法は、チャンバ内にターゲット物質を供給するステップ（ａ）と、ターゲット物質にレーザビームを照射することにより、プラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ（ｂ）と、を備える。レーザビームの空間的な光強度分布は、ビーム軸の中心から所定距離の位置における光強度よりも低い光強度を有する低強度領域が前記ビーム軸の中心から前記所定距離の範囲内に存在する空間的な光強度分布を有してもよい。 （もっと読む）

【課題】安定してＥＵＶ光を生成する。
【解決手段】レーザ装置を備えた極端紫外光生成装置は、前記レーザ装置から出力されたレーザ光を導入するウィンドウを備えたチャンバと、前記チャンバ内部の所定位置付近にターゲットを出力するターゲット供給部と、前記所定位置付近に前記レーザ光を集光するレーザ集光光学系と、前記所定位置付近を通過したレーザ光の像を検出する検出器と、前記所定位置付近における前記ターゲットの通過位置を調整するターゲット位置調整装置と、前記所定位置付近における前記レーザ光の集光位置を調整するレーザ集光位置調整装置と、前記検出器で検出された像に基づいて、前記ターゲット位置調整装置と前記レーザ集光位置調整装置とを制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザ装置３と共に用いられる光学システムは、少なくとも１つの焦点を有し、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光を集光する集光光学系と、前記集光光学系と該集光光学系の少なくとも１つの焦点との間に配置されるビームスプリッタ１００と、前記ビームスプリッタ１００によって分岐されたレーザ光の光路上に配置される光センサ１１０と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ドロップレットターゲットの位置安定性を改善する。
【解決手段】ターゲット供給装置は、少なくとも液体ターゲット物質を内部に貯蔵するターゲット貯蔵部に相当するリザーバ４１と、前記液体ターゲット物質が通過するための貫通孔であるノズル４３が形成され、その貫通孔（ノズル４３）が前記ターゲット貯蔵部（リザーバ４１）の内部と連通し、且つ、少なくとも前記貫通孔（ノズル４３）の前記ターゲット貯蔵部と（リザーバ４１）は反対側且つその貫通孔周囲の領域のターゲット放出部表面が、前記液体ターゲット物質に対する接触角が９０度よりも大きい物質からなるターゲット放出部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に配置された光学要素の性能劣化を防止する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置と共に用いられ、外部装置に極端紫外光を供給するよう接続される極端紫外光生成装置であって、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも１つの入射口を有するチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内で前記ターゲット物質が前記レーザ光に照射される際に放出されて前記少なくとも１つの光学要素に付着した前記ターゲット物質のデブリをエッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部と、前記チャンバに接続される排気ポンプと、前記チャンバ内に配置される少なくとも１つの光学要素と、前記少なくとも１つの光学要素の温度を制御する少なくとも１つの温度調節機構と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも１つのレーザビーム生成装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも１つのレーザビーム生成装置から出力される少なくとも１つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記少なくとも１つのレーザビームを前記所定の領域で集光させるレーザ集光光学系と、前記少なくとも１つのレーザビームの前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正する光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に配置された要素の特性や性能が劣化することを抑制する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザシステムおよび前記レーザシステムから出力されるレーザ光を集光する集光光学系と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ光を内部へ導入するための入射口を有するチャンバと、前記チャンバに取り付けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給システムと、前記チャンバ内に配置され、前記チャンバ内で前記ターゲット物質に前記レーザ光が照射されて発生した帯電粒子を回収するための回収部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】透過形ターゲットから発生する後方散乱Ｘ線がＸ線発生装置から外部へ漏洩することを大幅に低減できる小形で軽量なＸ線発生装置とＸ線発生装置群を用いたＸ線照射装置を提供する。
【解決手段】透過形ターゲットの表面を囲むように筒状シールド管がターゲットホルダに固定された構成によって後方散乱Ｘ線を吸収する。これによって、シールド管を装着しない場合に比べて、後方散乱Ｘ線を１／２０以下に低減することができ、Ｘ線発生装置全体を覆う鉛板の量を大幅に低減することが可能となる。本発明によるＸ線発生装置複数台と他の装置とを組み合わせて、Ｘ線治療に好適な小形で軽量なＸ線照射装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生ＥＵＶ光源発生器の環境において又は特に液体噴出ターゲット液滴発生器のターゲット液滴発生における圧電材料の利用に関連することができる問題に対処する。
【解決手段】磁歪材料又は電歪材料を含むターゲット液滴形成機構と出力オリフィスで終端する液体プラズマ源材料通路と液滴形成噴出流又は選択経路に沿って通路を出る個々の液滴に電荷を印加する帯電機構と出力オリフィスとプラズマ開始部位の中間にあって液滴を選択経路から定期的に偏向させる液滴偏向器と入力開口部と出力オリフィスとを有する液体ターゲット材料供給通路を含む液体ターゲット材料供給機構と液体ターゲット材料内で外乱力を発生させる外乱起電力発生機構と出力オリフィスを有する液体ターゲット供給液滴形成機構と及び／又は出力オリフィスの周辺の湿潤障壁とを含むことができるＥＵＶプラズマ形成ターゲット供給システム及び方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】極端紫外光源装置は、レーザビーム生成システムと、前記レーザビーム生成システムから出力される少なくとも１つのレーザビームの光強度および出力タイミングの少なくともいずれか一方を制御するレーザ制御システムと、前記レーザビーム生成システムから出力される前記少なくとも１つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバ１と、前記チャンバ１に設けられ、前記チャンバ１内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部２と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】透過基板の温度上昇を抑制して放射線発生の長時間駆動を可能とし、信頼性の高い透過型放射線管および放射線撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線発生装置は、冷却媒体が充填された収納容器１２内に透過型放射線管１１が収納され、透過型放射線管は、開口部１４ａを有する外囲器１４と、外囲器内に開口部１４ａに臨んで配設された電子放出源１５と、放射線を透過する透過基板１９と、透過基板１９の電子放出源側面に設置され、電子放出源１５から放出された電子の照射により放射線を発生するターゲット１８と、ターゲットから放出された放射線を遮る遮蔽体２０と、を備え、遮蔽体は外囲器１４の外側に突設されると共に、外囲器１４の開口部１４ａに連通する通路２０ａを有し、通路２０ａに設けられる透過基板１９の少なくとも一部は、外囲器１４の外壁面よりも外側に突出して配設され、冷却媒体は遮蔽体２０の少なくとも一部に接している。 （もっと読む）

【課題】照射可能領域を拡大する。
【解決手段】光学装置は、入射する第１のレーザ光をビーム断面が円環状の第２のレーザ光に変換する第１のビーム整形部と、前記第２のレーザ光を第１の所定の位置に集光して、ベッセルビームを形成させる第１の集光光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内において構成部品の位置又は傾きを調整するための姿勢制御機構を最適化する。
【解決手段】極端紫外光を生成するチャンバ装置は、壁部に第１の貫通孔が設けられ、内部でＥＵＶ光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内に配置されるＥＵＶ集光ミラーと、チャンバ外に配置され、ＥＵＶ集光ミラーの姿勢を制御する姿勢制御機構と、第１の貫通孔を介してＥＵＶ集光ミラーと姿勢制御機構とを接続する支持部と、第１の貫通孔を覆うように設けられ、少なくとも１つの第２の貫通孔を有するフランジと、少なくとも１つの第２の貫通孔の周囲に固定された一端と、支持部に固定された他端とを有し、支持部の側面の少なくとも一部を囲んでチャンバ内の密閉を維持する伸縮管と、を備えても良い。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線源が正常なＸ線を放射することができるようにＸ線源に電源を与える電源ユニット及び上記電源ユニットを備えたＸ線装置を提供する。
【解決手段】 電源ユニット５０は、電子源１６と、抑制電極１７と、引出電極２１と、加速電極２５と、電子光学系と、ターゲット１３と、真空容器１１と、を備えたＸ線源に電源を与える。電源ユニット５０は、電子源１６を加熱する第１電源Ｅｆ１と、第１電源Ｅｆ１とは独立して電子源１６を加熱する第２電源Ｅｆ２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光を生成する部品の位置合わせ精度を向上する。
【解決手段】フレームと、極端紫外光の生成が内部で行われるチャンバと、チャンバの内部にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、フレームとチャンバとをフレキシブルに接続するための第１の接続部材と、ターゲット供給部をフレームに固定するための機構と、ターゲット供給部をチャンバにフレキシブルに接続するための第２の接続部材と、を備えてもよい。チャンバには貫通孔が形成されてもよく、第２の接続部材は、チャンバの貫通孔の周囲と、ターゲット供給部とをフレキシブルに接続し、チャンバを密閉するためのフレキシブル管であってもよい。 （もっと読む）

【課題】背景技術よりも小型化が可能なＸ線発生装置及びＸ線管の駆動方法を提供する。
【解決手段】レンズ電極とグリッド電極、またはレンズ電極とカソード電極に所定の電圧を供給する各駆動回路でインバータ回路を共用する。レンズ電極にはインバータ回路から出力されたパルス列を全波整流することで得られる直流電圧を供給し、グリッド電極またはカソード電極にはインバータ回路から出力されたパルス列を半波整流することで得られる直流電圧を供給する。そして、Ｘ線の発生期間におけるインバータ回路の最初の動作時及び最後の動作時、トランス回路から全波整流回路及び半波整流回路にそれぞれ負極性の電圧が出力されるようにインバータ回路の動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】 蛍光Ｘ線の発生効率を向上させることができるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線発生装置１は、Ｘ線を出射するＸ線管３と、Ｘ線の照射によって蛍光Ｘ線を放出するターゲットＴと、蛍光Ｘ線を一端５ａから他端５ｂに伝播するキャピラリー管５を複数含むキャピラリー管集合体４と、を備えている。キャピラリー管集合体４は、キャピラリー管５の一端５ａの集合によって形成された一端面４ａを有している。ターゲットＴは、キャピラリー管集合体４の一端面４ａに膜状に配置されている。 （もっと読む）

【課題】 制御性の優れたマルチＸ線ビームの形成を小型の装置により可能とする。
【解決手段】 マルチ電子ビーム発生部１２のマルチ電子放出素子１５から発生した電子ビームｅは、レンズ電極１９によるレンズ作用を受け、アノード電極２０の透過型ターゲット１３の部分で最終電位の高さに加速される。ターゲット１３で発生したマルチＸ線ビームｘは真空内Ｘ線遮蔽板２３、Ｘ線取出部２４を通り、更に壁部２５のＸ線取出窓２７から大気中に取り出される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマを生成するための光源集光モジュールを提供する。
【解決手段】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するための光源集光モジュール（ＳＯＣＯＭＯ）１００と、入射端３および出射端５を有し、ＬＰＰ２４に相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーＭＧとに関する。ＬＰＰ２４は、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部のＳｎ蒸気源からの蒸気Ｓｎを照射する。ＧＩＣミラーＭＧは、ＬＰＰ２４に相対配置され、入射端３でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端５に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。中間焦点ＩＦに供給されるＥＵＶの量を増加させるために、放射集光強化装置を使用してもよい。また、ＳＯＣＯＭＯを利用するＥＵＶリソグラフィシステムについても開示される。 （もっと読む）

【課題】ノズルから噴射されたドロップレットターゲットを加速する場合に、加速後のドロップレットターゲットの速度を一定に維持することができるターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】液滴状又は固体粒状のターゲット物質を噴射するターゲットノズル１と、該液滴状又は固体粒状のターゲット物質を帯電させる電荷供給装置３と、該電荷供給装置によって帯電させられたターゲット物質の帯電量を計測する帯電量モニタ４及び帯電量計測部７と、帯電量計測部７の計測結果に基づいて、上記電荷供給装置をフィードバック制御する帯電量制御部８と、帯電したターゲット物質を加速する加速器５とを含む。 （もっと読む）