【課題】極端紫外光を発生させる際に、発生するデブリが少なく且つ、高いエネルギー変換効率を達成する。
【解決手段】錫ナノ粒子が混入された低濃度錫ナノ粒子溶液により構成された液体ターゲットＴをレーザー照射位置Ａ１に向かって吐出する液体ターゲット吐出装置２と、予備的なプラズマを発生させる第１レーザー光と、前記第１レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第２レーザー光とからなる二重レーザー光を前記レーザー照射位置Ａ１に照射する二重レーザー光照射装置７と、を備えた極端紫外光発生装置１。 （もっと読む）

極端紫外（ＥＵＶ）放射を供給するシステムは、集光を有するレーザビームを生成するように配置されたレーザ光源と、レーザ光源に対して移動可能であり、表面材料を搬送するためのキャリアとを備え、表面材料は、キャリアによって搬送されると、再生可能なターゲットエッジを提供する。集束ビームは、ターゲットエッジに衝突して、ＥＵＶ放射を発生するプラズマを生成するように配置される。該システムは、そこに衝突したＥＵＶ放射を反射することによってＥＵＶ放射を活用するためのミラーと共に動作可能である。ミラーは、ほぼ非球面な表面と、非球面な表面を少なくとも部分的にコートするために反射液体を供給するための手段とを備え、ミラーは、遠心力で液体を非球面な表面に閉じ込めるように回転可能である。
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【課題】極端紫外光源用ターゲットを連続的に供給するのに適した極端紫外光源用ターゲット生成供給装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ１１内に設けた細管状の供給口１２１と電極１３の間に高電圧を印加し、スズとポリビニルピロリドンをエタノールに溶解させた原料液を供給口１２１から真空チャンバ１１内に射出する。原料液は電極１３に向かって飛行する。その間にエタノールが蒸発して、糸状のポリビニルピロリドンにスズが担持された極端紫外光源用糸状ターゲット１６が形成される。極端紫外光源用糸状ターゲット１６が飛行している間に光源１５からレーザ光１７を照射することにより、スズのプラズマが生成され、スズプラズマから極端紫外光１８が発生する。この装置では極端紫外光源用糸状ターゲット１６を連続的に生成しながら極端紫外光を連続的に発生させることができる。また、発生したデブリは電極１３に引きつけられて回収される。 （もっと読む）

【課題】複合Ｘ線ターゲットについてのシステム、方法及び装置を提供する。
【解決手段】或る実施形態では、熱特性が空間的に変化する複合材料（１０６）を含むＸ線エネルギ・ターゲット（１０２）を構成し、また、別の実施形態では、強度特性が空間的に変化する複合材料（１０６）を構成する。或る実施形態では、空間的変化が連続であり、また、他の実施形態では、空間的変化が複数の明確に区分された部分より成る。 （もっと読む）

【課題】 極端紫外光の放射方向を制御することができる、極端紫外光の発光方法を提供する。
【解決手段】 重金属化合物から成る極端紫外光源用ターゲットが有する重金属化合物微粒子の表面の方向を調整することにより、極端紫外光の放射方向を制御することができる。一例として、薄膜の表面に対する法線と微粒子表面の成す角度θが60°〜90°となる微粒子表面の割合がそれぞれ全体の26%、18%、12%である３種類の薄膜状ターゲットa、b、cについて、薄膜表面の法線に対する角度φの方向に放射される極端紫外光の強度を測定した。放射方向（角度φ）による強度の違いは、ターゲットb及びcでは2倍以上あるのに対して、ターゲットaでは2倍以内に抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】１ｋｅＶ以上のハードＸ線レーザーを発生することができる小型のＸ線レーザー発生装置を提供すること。
【解決手段】電子ビームを発生し加速する装置（１）と、発生した電子ビーム（４）の輸送軌道上に配置された複数のターゲット（２）と、複数のターゲット（２）に電子ビーム（４）を衝突させて発生したＸ線（５）を単色化するＸ線ミラー（３）とを備え、各ターゲット（２）で発生するＸ線（６）を互いに干渉させてＸ線レーザーを発生させる。 （もっと読む）

【課題】長時間安定的に大出力のＸ線を発生することが可能なＸ線発生方法及びＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】回転対陰極をその回転軸方向に回転させるとともに、前記回転軸の長さ方向に沿って反復的に移動させる。次いで、前記回転対陰極の表面における、前記回転に伴って生じる遠心力に抗して存在する部分にエネルギー線を照射し、前記回転対陰極の前記エネルギー線が照射された部分を前記回転対陰極の融点近傍又は融点以上にまで加熱して、少なくとも部分的に溶解させた状態で前記回転対陰極よりＸ線を発生させる。 （もっと読む）

【課題】 発光効率が高い極端紫外光源用ターゲットを提供する。
【解決手段】 スズ又はスズ化合物から成り内部に空隙を有する低密度スズ体１１と、この空隙内に充填されたリチウム又はリチウム化合物から成るリチウム１２から成る。あるいは、低密度スズ体１１や金属スズ１５の表面にリチウム又はリチウム化合物から成るリチウム膜１４を形成したものでもよい。スズ、リチウム共に、レーザ光が照射されることにより、波長13.5nmの極端紫外光を発光する。この極端紫外光源用ターゲットは、スズが効率よくレーザ光のエネルギーを吸収して強度の強い極端紫外光を発光する。それと共に、リチウムが含まれることにより、極端紫外光発光領域から離れた位置におけるスズのプラズマ密度を抑え、それによりスズのプラズマが極端紫外光を再吸収することを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマによるＸ線発生を改善する。
【解決手段】減圧チャンバ（２０）内でターゲット材（５０）を自由な流動構造体（５１）の形状で提供する工程と、プラズマ状態を生成して、そのプラズマ（状態）からＸ線が放射されるようにするためにターゲット材（５０）に照射する工程を用いた、プラズマによるＸ線発生方法を開示する。この流動構造体（５１）は、ターゲット材が少なくとも照射の位置において局所的に曲率の最小値を持った表面（５２）を有するように形成される。また本方法を実施するための装置、具体的にはプラズマによるＸ線発生のためのＸ線源も開示される。
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【課題】 診断用Ｘ線としての単色硬Ｘ線と治療用Ｘ線としての特性Ｘ線を切換えて発生することができる診断・治療用Ｘ線切換え発生装置を提供する。
【解決手段】 パルス電子ビーム１を加速して所定の直線軌道２を通過させる電子ビーム発生装置１０と、パルスレーザー光３を発生するレーザー発生装置２０と、パルスレーザー光３を直線軌道２上にパルス電子ビーム１に対向して導入するレーザー光導入装置３０と、パルス電子ビーム１の衝突により特性Ｘ線５を発生する金属ターゲット４２を直線軌道上の衝突位置２ａと軌道外の退避位置との間で移動可能なターゲット移動装置４０とを備える。金属ターゲット４２の衝突面は、衝突点２ａと空間的に同一位置に位置する。金属ターゲットの退避位置でパルス電子ビーム１とパルスレーザー光３の衝突で単色硬Ｘ線４を発生し、金属ターゲット４２の衝突位置でパルス電子ビーム１と金属ターゲット４２の衝突により同一の光源位置２ａから特性Ｘ線５を発生する。 （もっと読む）

【課題】大強度Ｘ線の発生が可能で、発生するＸ線のエネルギーを高速に切り替えられる、小型で低コストな電磁波発生装置の実現。
【解決手段】円形加速器からなる電磁波発生装置において、円形加速器を構成する偏向電磁石が、その形状により、入射または加速電子に対して収束機能を有することにより、当該加速器が、電子の入射、加速の全過程でその径方向の所定範囲で安定な電子周回軌道を有し、この安定な電子周回軌道上にターゲットが設置され、このターゲットの設置位置に対応して、周回する電子ビームが前記ターゲットに衝突する領域と、前記ターゲットに衝突しない領域が設定され、偏向電磁石の偏向磁界及び電子ビーム加速の両時間変化パターンの制御により、これらの領域間を電子が周回しつつ移動して、前記ターゲットと衝突することでＸ線を発生させるようにした。 （もっと読む）

【課題】 強度の強いＸ線を発生し且つ熱電子源の劣化のないＸ線発生装置を用いることにより、イオナイザの小型化、ランニングコストの低減、及び管理の容易化を可能とする手段を提供する。
【解決手段】 Ｘ線発生装置５からＸ線を放射して周囲の気体をイオン化し、該イオン化した気体を被除電物Ｘに吹き付けることによりその表面に帯電した静電気を除電するＸ線発生装置を備えたイオナイザ１において、Ｘ線発生装置５が、外部の気体を導入可能且つ内部の気体を排出可能であってＸ線を透過可能な射出窓９が設けられてなる真空容器１０と、該真空容器１０内に収容された絶縁体１３と、該絶縁体１３に電圧を印加してその表面を帯電させる一対の電極１１，１２とを具備するものである。 （もっと読む）

本発明は、アノードとして作用するターゲット（２）と、作動中にターゲット（２）と相互作用し且つ電子発生源として機能するカソード（３）とを含んでいるマイクロＸ線発生源（１）であり、ターゲット（２）は、電子発生源（３）からの電子が到達するスポットを有する金属箔によって実施化され、前記金属箔は、前記スポット（４）において局部的により薄くされていることを特徴とするマイクロＸ線発生源である。 （もっと読む）

磁歪材料又は電歪材料を含むターゲット液滴形成機構と、出力オリフィスで終端する液体プラズマ源材料通路と、液滴形成噴出流又は選択経路に沿って通路を出る個々の液滴に電荷を印加する帯電機構と、出力オリフィスとプラズマ開始部位の中間にあって液滴を選択経路から定期的に偏向させる液滴偏向器と、入力開口部と出力オリフィスとを有する液体ターゲット材料供給通路を含む液体ターゲット材料供給機構と、液体ターゲット材料内で外乱力を発生させる外乱起電力発生機構と、出力オリフィスを有する液体ターゲット供給液滴形成機構と、及び／又は出力オリフィスの周辺の湿潤障壁とを含むことができるＥＵＶプラズマ形成ターゲット供給システム及び方法が開示される。 （もっと読む）

液滴形成毛細管と流体連通し且つプラズマ源材料を液体形態に維持するのに十分な温度の選択範囲内に維持される液滴発生器プラズマ源材料リザーバ（２１２）を有する液滴発生器と、液滴発生器プラズマ源材料リザーバと流体連通し、液滴発生器がオンラインである間に、液滴発生器プラズマ源材料リザーバに移送するために液体形態でプラズマ源材料の少なくとも補充量を保持する供給リザーバ（２１４）を有するプラズマ源材料供給システムと、液滴発生器がオンラインである間に、液体プラズマ源材料を供給リザーバから液滴発生器プラズマ源材料リザーバに移送する移送機構（２１０）とを備えることができるＥＵＶ光源プラズマ源材料処理システムが開示される。供給リザーバは、固体形態である材料の一部から液体形態である材料を定期的に形成するのに使用される固体形態のプラズマ源材料を含むことができる。 （もっと読む）

第１の態様において、ＥＵＶ光を発生させる方法は、原材料を供給する行為／段階と、複数の原材料液滴を発生させる行為／段階と、複数の原材料液滴に第１の光パルスを同時に照射して照射原材料を生成する行為／段階と、その後で、照射原材料を第２の光パルスに露出して、例えば原材料のプラズマを発生させることによってＥＵＶ光を発生させる行為／段階とを含むことができる。別の態様においては、ＥＵＶ光源は、複数の原材料液滴をターゲットボリュームに供給する液滴発生器と、ターゲットボリューム内の複数の原材料液滴に第１のパルスを同時に照射して原材料を生成する第１の光パルス源と、原材料を第２の光パルスに露出してＥＵＶ光を発生させる第２の光パルス源とを含むことができる。 （もっと読む）

エッチング化合物を形成することになる材料を含み、選択中心波長付近の帯域内でＥＵＶ光を生成するＥＵＶプラズマ源材料を用いたＥＵＶ光生成装置であって、ＥＵＶプラズマ発生チャンバと、該チャンバ内に収容され、少なくとも１つの層を含む反射表面を有するＥＵＶ光集束器であって、少なくとも１つの層は、エッチング化合物を形成せず、及び／又は帯域内で反射表面の反射性を有意に低減しない化合物層を形成する材料を含むＥＵＶ光集束器と、チャンバ内に収容され、エッチャント供給源材料を含むエッチャント供給源ガスであって、プラズマ源材料がエッチャント供給源材料と共にエッチング化合物を形成し、該エッチング化合物が反射表面からのエッチング化合物のエッチングを可能にする蒸気圧を有するエッチャント供給源ガスと、を含むＥＵＶ光生成装置を含むことができる方法及び装置。エッチャント供給源材料はハロゲン又はハロゲン化合物を含むことができる。エッチャント供給源材料は、ＥＵＶ光、ＤＵＶ光、及び／又はプラズマ源材料のエッチングを促進するのに十分なエネルギーを伴うあらゆる励起エネルギーフォトンの存在下で、エッチングが促進されることに基づいて選択することができる。本装置は、反射表面の動作近傍においてエッチング促進プラズマをもたらすエッチング促進プラズマ発生器を更に含み、エッチャント供給源材料は、エッチングがエッチング促進プラズマによって促進されることに基づいて選択することができる。また、反射表面に向けてイオンを加速するイオン加速器があってもよい。イオンは、エッチャント供給源材料を含むことができる。この装置及び方法は、プラズマ源材料がエッチングされることになる光学素子を伴うＥＵＶ生成サブシステムの一部を含むことができる。 （もっと読む）

レントゲン線又はＥＵＶ光を効果的に形成するためには、生じ得るレーザ波長の値の広がりを有し延いては従来技術と比較してより小さな直径を有し、更に、原子密度＞１０^１８原子／ｃｍ^３を有する滴形ターゲットを供与することが必要である。従って、このような滴形ターゲットの形成を可能にする構成手段を提供したい。ノズルからの距離が大きな場合でも高密度が実現されているのが望ましい。つまり、当該の滴形ターゲットは従来技術と比較してより良好な視準を有しており、これにより、ノズルの耐用年数が増大する。この課題は、不活性ガスによって内部で高圧が実現された、ターゲット液を収容するための容器と、該容器と結合された、ｍｓ範囲で切り換わる電磁弁と、ノズルとを少なくとも有している装置により、本発明に基づいてノズルが超音速ノズルとして形成されており、弁が超音速ノズルと伸張通路を介して結合されており、該伸張通路の周囲に加熱手段が、過飽和蒸気が伸張通路内に形成される値へ温度が調節可能なように形成されており、電磁弁と加熱手段との間に絶縁体が配置されているによって解決される。本発明による装置は、高密度のサブミクロンの液体ターゲットを形成することを可能にする。
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【課題】 短波長電磁放射線、特にＥＵＶ放射線の生成のためのターゲット材料を供給するための装置を提供する。
【解決手段】 放射線の効率的な生成のために必要なターゲット材料の量のみがプラズマ生成を実現するように、相互作用チャンバ４に質量制限ターゲットの再生可能な連続流を供給することを可能にするターゲット材料を供給する。ターゲット生成装置１が、相互作用チャンバ４の前に置かれターゲットセレクタ３が配置される選択チャンバ４１に通じ、ターゲット経路に沿って、相互作用チャンバ４への出口開口部を有する。ターゲットセレクタ３は、ターゲット生成装置１の規則的な一連のターゲットに必要な個別ターゲット２１を除去するための要素を有し、エネルギビームのパルス周波数に対応する有効なプラズマ生成および放射線生成に必要な個別ターゲット２１のみが、相互作用点６１に入ることができる。 （もっと読む）

レーザビームとターゲットとの相互作用によって放射線または粒子を発生させるために、選択するターゲットが、真空筐体（４０）中の１０μｍ〜１ｍｍのサイズの固体粒で構成される粉体のフリーフロー（５）であり、レーザビーム（９）が、高強度パルスレーザビームであって、重力のみによって引き起こされる粉体フロー（５）に集光されて、１０００Ｐａ未満の内圧の真空筐体（４０）中で放射線または粒子を発生させる相互作用領域（８）が作り出されている。 （もっと読む）